【技术实现步骤摘要】
半导体结构、半导体器件及存储装置
本公开涉及半导体
,具体而言,涉及一种半导体结构、半导体器件及存储装置。
技术介绍
随着半导体技术的发展,芯片堆叠技术已经广泛的应用于各类存储器,例如DRAM(DynamicRandomAccessMemory,动态随机存取存储器)等。通常需要将多个芯片堆叠起来,并进行连接,形成一个整体,以提高性能。但是,对于堆叠设置的多个芯片而言,有些芯片可能会存在电路故障,导致芯片出现功能失效或漏电等问题,难以正常工作,且在堆叠后,会,会造成最终产品出现故障,使产品良率较低。需要说明的是,在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种半导体结构、半导体器件及存储装置,可避免因部分芯片故障而造成的产品故障,有利于提高产品良率。根据本公开的一个方面,提供一种半导体结构,包括:芯片;电源线,设于所述芯片,且沿预设方向延伸;第一焊盘组件,设于所述芯片且位于所述电源线一侧,所述第一焊盘组件具有多个沿所述预设方向分布的间隙,以将所述第一焊盘组件 ...
【技术保护点】
1.一种半导体结构,其特征在于,包括:芯片;电源线,设于所述芯片,且沿预设方向延伸;第一焊盘组件,设于所述芯片且位于所述电源线一侧,所述第一焊盘组件具有多个沿所述预设方向分布的间隙,以将所述第一焊盘组件分割为至少四个焊盘;所述间隙包括第一间隙、第二间隙和第三间隙,所述第一间隙和所述第二间隙的宽度均大于所述第三间隙;所述第一焊盘组件的焊盘包括电源焊盘,所述电源焊盘与所述电源线连接,且位于所述第一间隙和所述第二间隙之间;所述电源焊盘、所述第一间隙和所述第二间隙均位于所述电源线的两端之间。
【技术特征摘要】
1.一种半导体结构,其特征在于,包括:芯片;电源线,设于所述芯片,且沿预设方向延伸;第一焊盘组件,设于所述芯片且位于所述电源线一侧,所述第一焊盘组件具有多个沿所述预设方向分布的间隙,以将所述第一焊盘组件分割为至少四个焊盘;所述间隙包括第一间隙、第二间隙和第三间隙,所述第一间隙和所述第二间隙的宽度均大于所述第三间隙;所述第一焊盘组件的焊盘包括电源焊盘,所述电源焊盘与所述电源线连接,且位于所述第一间隙和所述第二间隙之间;所述电源焊盘、所述第一间隙和所述第二间隙均位于所述电源线的两端之间。2.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述第一间隙和所述第二间隙中至少一个的宽度不小于15μm。3.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述第一焊盘组件的焊盘还包括:第一焊盘,位于所述电源焊盘一侧,且与所述电源焊盘相邻,所述第一间隙为所述第一焊盘与所述电源焊盘间的间隙;第二焊盘,位于所述电源焊盘远离所述第一焊盘的一侧,且与所述电源焊盘相邻,所述第二间隙为所述第二焊盘与所述电源焊盘间...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
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