防撞装置及曝光机台制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种防撞装置及曝光机台，所述防撞装置包括力传递机构和缓冲机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体；所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置，多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。所述曝光机台包括曝光台以及所述防撞装置。本发明专利技术提供的防撞装置能够承受所述物体由于惯性而产生的碰撞，避免了所述物体与其他部件发生直接碰撞，保护了所述物体和所述其他部件；同时，此种结构的防撞装置占用空间小以及可承受来自所述物体任意方向上的碰撞。

【技术实现步骤摘要】
防撞装置及曝光机台
本专利技术涉及半导体制造领域，具体涉及一种防撞装置及曝光机台。
技术介绍
在半导体制造领域，光刻装置能够将具有不同掩膜图案的多层掩膜在精确对准下，依次成像在涂覆有光刻胶的晶片上。所述光刻装置具有用于承载所述晶片的曝光台，所述光刻装置在工作时，所述曝光台由于惯性的作用，存在与所述光刻装置内的其他部件发生碰撞的可能，所述光刻装置内的各精密部件(如物镜、对准装置、测量部件等)可能会由于碰撞而损坏，因此为曝光台设置防撞装置至关重要。现有的防撞装置中，应用最多的为一维的油压缓冲器、记忆合金防撞条以及由多根记忆合金组成的防撞部件。其中，一维的油压缓冲器和记忆合金防撞条只能针对一个方向的碰撞产生缓冲作用，不能对斜碰撞产生缓冲作用；由多根记忆合金组成的防撞部件虽可对任意方向的碰撞产生缓冲作用，但其具有占用空间大、自身重量大等缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种防撞装置及曝光机台，以解决现有技术中的光刻装置在工作时，由于惯性的作用，其内的曝光台会与其内的其他部件发生碰撞，而造成光刻装置内的各精密部件损坏的问题。为实现上述目的，本专利技术提供一种防撞装置，包括：力传递机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体；以及缓冲机构，所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置，多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。可选的，所述连接机构包括滑块，所述滑块以可滑动的方式与所述力传递机构连接。可选的，所述力传递机构包括多个首尾相连的防撞臂，且任意两个相邻防撞臂以可转动的方式连接。可选的，所述缓冲机构包括缓冲器、连接杆以及导向器；所述导向器与所述物体固定连接，并用于限定所述连接杆的运动方向；所述连接杆的一端与所述缓冲器连接，另一端以可转动的方式与所述力传递机构连接，所述缓冲器与所述物体固定连接。可选的，所述导向器具有一个导向槽，所述连接杆在所述导向槽内活动。可选的，所述缓冲器能够受力拉升和/或压缩。可选的，当所述缓冲器仅能够受力压缩时，所述连接杆包括一个缓冲器滑竿以及一个导向器滑竿，所述缓冲器滑竿与所述导向器滑竿可分离式接触。可选的，所述缓冲机构包括第二导向器、楔块、缓冲器、连接杆以及弹簧；所述第二导向器固定安装在所述物体之上，所述楔块的一个面可滑动的连接于所述导向器，所述弹簧的两端分别连接于所述导向器与所述楔块，所述楔块通过铰链与所述力传递机构连接；所述缓冲器与所述被保护物体的侧面固定连接；所述连接杆一端连接在所述缓冲器上，另一端可滑动的连接于所述楔块的斜面上。进一步的，本专利技术还提供一种曝光机台，所述曝光机台包括曝光台以及所述防撞装置，所述防撞装置包括力传递机构以及缓冲机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构以非接触的方式包围所述曝光台，所述缓冲机构为多个并用于在所述曝光台的四周设置，且多个所述缓冲机构分别与所述曝光台以及所述力传递机构连接。综上所述，本专利技术提供的防撞装置包括力传递机构和缓冲机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构以非接触的方式包围一物体；所述缓冲机构为多个并设置在所述物体的四周，多个所述缓冲机构分别与所述物体以及所述力传递机构连接。在所述物体运动过程中，所述力传递机构通过所述缓冲机构，承受所述物体由于惯性而产生的碰撞，避免了所述物体与其他部件发生直接碰撞，保护了所述物体和所述其他部件；同时，此种结构的防撞装置占用空间小以及可承受来自所述物体任意方向上的碰撞力。附图说明图1为本专利技术一实施例提供的防撞装置100安装于曝光台的结构示意图；图2为本专利技术另一实施例提供的防撞装置200安装于曝光台的结构示意图；图3为本专利技术又一实施例提供的防撞装置300安装于曝光台的结构示意图；附图标记说明如下：01-曝光台；02-防撞臂；03-铰链；04-双向缓冲器；05-导向器；06-滑块；07-弹簧；08-楔块；09-缓冲器；051-导向器滑竿；091-缓冲器滑竿；052-第二导向器；10-另一铰链。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。以下描述中，为了便于叙述，以防撞装置安装于光刻设备的曝光台上作为示意，来详细说明本专利技术的防撞装置的结构以及工作过程。本专利技术的防撞装置包括力传递机构和缓冲机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构以非接触的方式包围曝光台。所述缓冲机构为多个并设置在所述曝光台的四周，多个所述缓冲机构分别与所述物体以及所述力传递机构连接。例如，如图1所示，图1为本专利技术一实施例提供的防撞装置100安装于曝光台的结构示意图。所述力传递机构包括防撞臂02和铰链03，相邻的所述防撞臂02通过所述铰链03首尾连接，以包围曝光台01。所述缓冲机构包括双向缓冲器04、导向器05、另一铰链10以及滑块06，所述导向器05与所述曝光台01固定连接。所述双向缓冲器04通过其头部缓冲杆(未标示)与所述导向器05滑动连接，并通过所述另一铰链10与所述滑块连接；同时，所述双向缓冲器04与曝光台01固定连接，并能够实现拉升和压缩两种方式的吸能。所述滑块06能在所述防撞臂02上滑动以缓冲碰撞力，所述头部缓冲杆能够通过所述另一铰链10转动，所述滑块06的设置方式有助于缓冲来自于所述曝光台01的碰撞力。所述缓冲机构优选为8个，并分别于所述曝光台01的每一边布置两个，这种布置方式使所述防撞装置100能够更好的缓冲来自所述曝光台01任意方向的碰撞力，实现了较好的防撞效果。在所述曝光台01的工作过程中，当位于水平方向上的所述双向缓冲器04受到来自于垂直方向上的力时，由于所述头部缓冲杆位于所述导向器05的滑槽(未标示)内，因此能够有效的保证所述双向缓冲器04不发生偏转而降低其寿命。在所述曝光台01发生任意方向的碰撞时，这种碰撞力通过所述缓冲机构传递给所述力传递机构，即所述双向缓冲器04首先受到来自所述曝光台01的碰撞力而被拉升或压缩，所述双向缓冲器04再将所述曝光台01的碰撞力通过所述头部缓冲杆传递给所述力传递机构。所述力传递机构的四个防撞臂02通过所述铰链03连接形成的整体一同运动，从而有效防止了所述曝光台01与所述光刻装置内的其他精密部件发生直接的碰撞，很好的保护了所述光刻装置内的精密部件。本实施例提供的防撞装置，在所述曝光台的工作过程中，所述力传递机构通过所述缓冲机构，承受所述曝光台由于惯性而产生的碰撞力，避免了所述曝光台与所述光刻装置内的精密部件发生直接碰撞，保护了所述曝光台以及所述精密部件；同时，此种结构的防撞装置占用空间小以及可承受来自所述物体任意方向上的碰撞力。图2为本专利技术另一实施例提供的防撞装置200安装于曝光台的结构示意图，图2所示的所述防撞装置200与图1所示的所述防撞装置100的区别如下所述，将图1中的所述头部缓冲杆替换成了缓冲器滑竿091和导向器滑竿051，且所述导向器05上设有沟槽，所述缓冲器滑竿091与所述导向器滑竿051可分离式的接触并可在所述沟槽内滑动；所述单向缓冲器09与所述导向器05固定连接，且可受力压缩。在所述曝光台01的运动过程中，所述单向缓冲器09受本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防撞装置，其特征在于，包括：力传递机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体；以及缓冲机构，所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置，多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。

【技术特征摘要】
1.一种防撞装置，其特征在于，包括：力传递机构，所述力传递机构包括一环形结构，所述环形结构用于以非接触的方式包围一物体；以及缓冲机构，所述缓冲机构为多个并用于在所述物体的四周设置，多个所述缓冲机构用于分别与所述物体以及所述力传递机构连接。2.如权利要求1所述的防撞装置，其特征在于，所述缓冲机构包括滑块，所述滑块以可滑动的方式与所述力传递机构连接。3.如权利要求1-2中任意一项所述的防撞装置，其特征在于，所述力传递机构包括多个首尾相连的防撞臂，且任意两个相邻防撞臂以可转动的方式连接。4.如权利要求1-2中任意一项所述的防撞装置，其特征在于，所述缓冲机构包括缓冲器、连接杆以及导向器；所述导向器与所述物体固定连接，并用于限定所述连接杆的运动方向；所述连接杆的一端与所述缓冲器连接，另一端以可转动的方式与所述力传递机构连接，所述缓冲器与所述物体固定连接。5.如权利要求4所述的防撞装置，其特征在于，所述导向器具有一个导向槽，所述连接杆在所述导向槽内活动。6.如权利要求4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：丛国栋，张志钢，李志龙，管博然，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31