一种透明导电膜制造技术

技术编号:21037501 阅读:89 留言:0更新日期:2019-05-04 06:52
本发明专利技术涉及一种透明导电膜,其中包括透明基材,第一透明导电介质保护层,第一金属保护层,金属导电层,第二金属保护层及第二透明导电介质保护层。当中的金属保护层为钼、钼合金、稀土单质或者稀土合金,金属导电层为银铝铜合金。本发明专利技术除了提升银合金膜的耐腐蚀特性外,还因三层金属共同降低了电阻率,提升了银合金的导电特性。特别的由于没有引入特殊元素,沿用了行业里惯用的钼及钼合金,在刻蚀方面无需特殊工艺即可满足生产要求。

A Transparent Conductive Film

【技术实现步骤摘要】
一种透明导电膜
本专利技术涉及电子产品,具体涉及一种透明导电膜。
技术介绍
近年来,随着柔性穿戴用品、太阳能电池、电致变色、3D曲面显示、TFT-LCD和OLED等向大型化,对于低成本的低电阻、高透过率的透明导电的要求日益严格,ITO已经不能满足于基本的柔性基材需求,于是延伸出一系列的低电阻、高透过率的可供人们选择的对象,比如:MetalMesh、纳米银线、碳纳米管及石墨烯,然而当中只有MetalMesh、纳米银线发展较为成熟,也是目前能够替代ITO的主要材料。可是MetalMesh制备过程复杂,价格昂贵,性价比不高;而纳米银线在使用过程中容易发生电化学腐蚀,产生短路,造成次品。在实施当中,很多文献专利揭示使用ITO叠堆银结构来降低面电阻,且为了降低使用的ITO膜透明导电体的电阻,相应的增加了ITO膜的厚度,或者通过热退火(thermalannealing)来进行ITO膜的结晶化。但是,如果将ITO膜实施厚膜化则透过率降低。另外,在高温条件下对薄膜基材实施热退火处理通常很困难。因此,在设置于薄膜基材上的ITO膜的情况下,处于难以既维持高透过率又降低电阻的状况。又因氧化锌基透明导电膜相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电膜,其特征在于:包括由下往上层叠设置的透明基材(10),第一透明导电介质保护层(20)和/或第一金属保护层(30),金属导电层(40),第二金属保护层(50)和/或第二透明导电介质保护层(60)。

【技术特征摘要】
1.一种透明导电膜,其特征在于:包括由下往上层叠设置的透明基材(10),第一透明导电介质保护层(20)和/或第一金属保护层(30),金属导电层(40),第二金属保护层(50)和/或第二透明导电介质保护层(60)。2.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于:所述金属导电层(40)为银铝铜三元合金层,其比例为:铜在银中添加量0.2-5wt%,铝在银中添加量0.2-5wt%,余量为银,所述金属导电层的厚度在1-12纳米之间。3.根据权利要求1所述的透明导电膜,其特征在于:所述第一金属保护层(30)和第二金属保护层(50),分别由钼、钼合金、稀土单质、稀土合金中的至少一种或两种以上组成,...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄华凛
申请(专利权)人:广东迪奥应用材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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