一种显示面板及其制作方法技术

本发明专利技术提出了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层。其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。本发明专利技术在彩膜层中黑色色阻单元表面制备纳米阵列结构，通过纳米阵列结构对光线的吸收和漫反射作用降低彩膜层的反射率，进而提高显示面板的对比度。

A Display Panel and Its Making Method

The invention provides a display panel and a manufacturing method thereof. The display panel includes a base plate and a color film layer arranged above the base plate. The display panel includes a pixel opening area and a non-opening area arranged around the pixel opening area. The color film layer includes a first color resistance unit corresponding to the pixel opening area and a second color resistance unit corresponding to the non-opening area. The second color resistance unit includes a body and a nanoarray arranged on the body surface for reducing light reflectivity. Structure. The nano-array structure is prepared on the surface of the black color resistance unit in the color film layer, and the reflectivity of the color film layer is reduced by the absorption and diffuse reflection of the nano-array structure, thereby improving the contrast of the display panel.

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制作方法
本专利技术涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制作方法。
技术介绍
在显示面板中加入偏光片(POL)能够降低强光下显示面板对外界光线的反射率，但是也存在以下缺陷。一方面，偏光片会减少OLED显示面板中有机发光材料(OrganicLight-EmittingDiode,简称OLED)的使用寿命；另一个方面，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折显示面板的开发。为了开发基于OLED显示技术的动态弯折产品，必须导入新材料、新技术以及新工艺代替偏光片。在显示面板中，采用彩膜层(ColorFilter,简称CF)替代偏光片的方式能够解决上述问题。使用彩膜技术的显示面板不仅能够实现显示面板的轻薄化，而且能够将显示面板的出光率从42％提高至60％，提高了显示面板的对比度。但是，使用彩膜技术的显示面板的反射率较高，不利于室外显示。因此，目前亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术提供了一种显示面板及其制作方法，以解决显示面板对外界环境光反射率较高的问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：根据本专利技术的一个方面，提供了一种显示面板，包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层；其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。根据本专利技术一实施例，所述第一色阻单元至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元包括黑色色阻单元；其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元隔离。根据本专利技术一实施例，所述本体和所述纳米阵列结构一体化设置。根据本专利技术一实施例，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。根据本专利技术一实施例，所述显示面板还包括有机发光层和封装层；其中，所述有机发光层设置在所述基板上，所述封装层设置在所述有机发光层上，所述彩膜层设置在所述封装层上。根据本专利技术一实施例，所述显示面板还包括位于所述基板和所述彩膜层之间的液晶层；所述彩膜层还包括衬底，所述第一色阻单元和所述第二色阻单元设置在所述衬底表面。根据本专利技术的另一个方面，还提供了一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述显示面板的制作方法包括：步骤S10、提供一基板；步骤S20、在所述基板上方形成色阻层，并在所述色阻层的表面形成纳米阵列图案；步骤S30、对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行图案化处理，以形成对应于所述非开口区的第二色阻单元；步骤S40、在相邻所述第二色阻单元之间形成对应于所述像素开口区的第一色阻单元，以形成彩膜层；其中，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。根据本专利技术一实施例，所述步骤S20具体包括：提供一具有纳米阵列图案的模板，通过纳米压印技术将所述模板上的纳米阵列图案转印至所述色阻层，以在所述色阻层的表面形成所述纳米阵列图案。根据本专利技术一实施例，所述步骤S30具体包括：对形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层进行曝光、刻蚀、显影和烘烤，以将形成有所述纳米阵列图案的所述色阻层图案化。根据本专利技术一实施例，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。有益效果：本专利技术在彩膜层中黑色色阻单元表面制备纳米阵列结构，通过纳米阵列结构对光线的吸收和漫反射作用降低彩膜层的反射率，进而提高显示面板的对比度。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术第一实施例提供的显示面板的结构示意图；图2为本专利技术第二实施例提供的显示面板的结构示意图；图3为本专利技术第三实施例提供的显示面板的结构示意图；图4为本专利技术第四实施例提供的圆锥状纳米结构的示意图；图5为本专利技术第五实施例提供的纳米阵列结构对光线反射的示意图；图6为本专利技术第六实施例提供的显示面板制作方法的结构示意图；图7a-7c为本专利技术第七实施例提供的显示面板制作方法的流程示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术提供了一种显示面板及其制作方法，以解决显示面板对外界环境光反射率较高的问题。请参阅图1，图1为本专利技术第一实施例提供的显示面板10的结构示意图。根据本专利技术的一个方面，提供了一种显示面板10，包括基板11以及设置于所述基板11上方的彩膜层12。在一种实施例中，所述基板11包括阵列基板，所述阵列基板包括基底以及设置在所述基底上的薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管阵列用于控制所述显示面板10中像素的显示。其中，所述显示面板10包括像素开口区10a以及设置于所述像素开口区10a周围的非开口区10b。显示面板10包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述显示区内设置有多个用于实现显示面板10显示功能的像素，相邻所述像素之间存在空隙；其中，所述像素所对应的区域为像素开口区10a，所述像素之间的空隙所对应的区域为非开口区10b。在一种实施例中，所述彩膜层12包括对应于所述像素开口区10a的第一色阻单元121以及对应于所述非开口区10b的第二色阻单元122。所述第一色阻单元121用以将所述像素的出光过滤为预定色度的光；所述第二色阻单元122用以将所述像素之间的出光吸收，防止相邻像素之间发生漏光。所述第二色阻单元122包括本体1221以及设置于所述本体1221表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构1222。当外界光线照入所述显示面板10时，在所述纳米阵列结构1222处发生多次漫反射，进而增加了光线的吸收和消耗。本专利技术通过漫反射和吸收的协同作用降低了彩膜层12的反射率，进而提高了显示面板10的对比度。在一种实施例中，所述本体1221和所述纳米阵列结构1222一体化设置。每个所述像素至少包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。在一种实施例中，所述第一色阻单元121至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元122包括黑色色阻单元。所述红色色阻单元对应于所述红色子像素，所述绿色色阻单元对应于所述绿色子像素，所述蓝色色阻单元对应于所述蓝色子像素。其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元隔离，以防止相邻所述像素之间发生漏光。在一种实施例中，所述第一色阻单元121和所述第二色阻单元122的制备材料包括光刻胶。纳米压印技术(NanoImprintLithography，简称NIL)是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。其通常包括以下三个步骤：1、模板的技工；2、图样本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层；其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括基板以及设置于所述基板上方的彩膜层；其中，所述显示面板包括像素开口区以及设置于所述像素开口区周围的非开口区，所述彩膜层包括对应于所述像素开口区的第一色阻单元以及对应于所述非开口区的第二色阻单元，所述第二色阻单元包括本体以及设置于所述本体表面用于降低光线反射率的纳米阵列结构。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一色阻单元至少包括红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元，所述第二色阻单元包括黑色色阻单元；其中，所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元和所述蓝色色阻单元中的任意两者通过所述黑色色阻单元隔离。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述本体和所述纳米阵列结构一体化设置。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述纳米阵列结构包括圆锥状纳米阵列结构。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括有机发光层和封装层；其中，所述有机发光层设置在所述基板上，所述封装层设置在所述有机发光层上，所述彩膜层设置在所述封装层上。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述基板和所述彩膜层之间的液晶层；所述彩膜层还包括衬底，所述第一色阻单元和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚文亮，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42