自立暗挖结构制造技术

本自立暗挖结构是由拱板体系和顶撑体系构成。所述的拱板体系包括有拱板和覆盖地层，顶撑体系包括有支承柱和纵梁。拱板体系由顶撑体系支承。该自立暗挖结构具有结构受力明确，实施简便灵活，不受工程面积和地质特性限制，能确保地表不产生沉降、施工安全可靠以及成本便宜等优点，是目前唯一能适用于不同地层和任意空间的暗挖（特别是浅埋暗挖）顶撑结构，对合理开发利用地下空间有着重大现实意义。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种自立暗挖结构，由拱板体系（２）和顶撑体系（３）构成。其特征在于：所述的拱板体系（２）包括有拱板（４）和覆盖地层（４５）；顶撑体系（３）包括有纵梁（６）和支承柱（７）；顶撑体系（３）顶撑拱板体系（２）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：彭高培，
申请(专利权)人：彭高培，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]