位置检测装置及蒸镀装置制造方法及图纸

提供一种能够对基板的位置提高检测精度的位置检测装置及蒸镀装置。位置检测装置(10)具备：拍摄部(11)，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板(W)的平坦部(Wp1)反射的光形成，该第2像基于由与平坦部(Wp1)连接的斜面部(Wp2)反射的光形成；以及图像处理部(12)，其基于第1像和第2像的对比度提取平坦部(Wp1)和斜面部(Wp2)的边界作为基板(W)的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定基板(W)的位置。

【技术实现步骤摘要】
位置检测装置及蒸镀装置
本专利技术涉及检测基板的位置的位置检测装置及具备位置检测装置的蒸镀装置。
技术介绍
蒸镀装置在基板的成膜面与蒸镀源之间配置蒸镀掩模，将追从蒸镀掩模的开口的形状的图形形成于基板的成膜面。蒸镀装置根据作为基板的对准标记的基板标记来检测基板的位置。蒸镀装置将检测出的基板的位置和蒸镀掩模的位置的偏差算出，并调整基板的位置、蒸镀掩模的位置(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-1947号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是，上述的基板标记通常位于基板的成膜面，检测基板标记的检测部相对于成膜面位于与蒸镀源相同的一侧。另一方面，相对于成膜面的蒸镀源侧的空间是在蒸镀源升华的蒸镀物质飞行的空间，在位于该空间的检测部的光学系统中至少沉积蒸镀物质。在蒸镀物质沉积于光学系统的检测部，不可能精度良好地检测基板标记，因此期望在上述的蒸镀装置中将基板和蒸镀掩模的对位精度提高的技术。此外，精度良好地检测基板的位置的要求不限于进行基板和蒸镀掩模的对位的蒸镀装置，在检测基板的位置的装置中是共同的。本专利技术的目的是提供能够对基板的位置提高检测精度的位置检测装置及蒸镀装置。用于解决课题的方案1个方式是位置检测装置。位置检测装置具备：拍摄部，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成；以及图像处理部，其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定所述基板的位置。其他方式是蒸镀装置。蒸镀装置具备：位置检测装置，其检测基板的位置；蒸镀源，其与所述基板的表面对置；以及蒸镀掩模，其位于所述表面与所述蒸镀源之间。所述位置检测装置具备：拍摄部，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由所述基板的背面中的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成；以及图像处理部，其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定所述基板的位置。决定基板轮廓的斜面部通常是在基板的厚度方向具有预定曲率的曲面。在拍摄斜面部得到的图像中，例如亮度朝向基板的轮廓逐渐地下降，另外，模糊量也逐渐地升高。因此，在根据拍摄斜面部得到的图像来检测基板轮廓的技术中，检测出的轮廓的位置会产生较大的误差。另一方面，斜面部和平坦部的边界是在基板中面方向变化大的边界，例如，在从与平坦部对置的方向进行的拍摄中，也是能明确检测出斜面部和平坦部的边界的部分。并且，如果是上述结构，则图像处理部根据基于第1像和第2像的对比度的、平坦部和斜面部的边界来检测基板的位置，其中，第1像基于由平坦部反射的光形成，第2像基于由斜面部反射的光形成，因此能够提高检测基板位置的精度。在上述位置检测装置中，所述拍摄部是第1拍摄部，所述基板包括表面和背面，该表面包含基板标记，进一步具备第2拍摄部，该第2拍摄部与所述表面对置，并拍摄所述基板标记。并且，也可以为，所述第1拍摄部与所述背面对置，并拍摄所述第1像及所述第2像，所述图像处理部由根据所述第1拍摄部拍摄到的所述第1像及所述第2像而提取的所述外形的一部分来确定所述基板的背面位置，所述图像处理部由所述第2拍摄部拍摄到的所述基板标记的位置来确定所述基板的表面位置，算出所述表面位置和所述背面位置的偏差量。在上述蒸镀装置中，所述拍摄部是第1拍摄部，所述基板的表面包含基板标记，进一步具备第2拍摄部，第2拍摄部与所述表面对置，并拍摄所述基板标记。并且，也可以为，所述第1拍摄部与所述背面对置，并拍摄所述第1像及所述第2像，所述图像处理部由根据所述第1拍摄部拍摄的所述第1像及所述第2像而提取的所述外形的一部分来确定所述基板的背面位置，所述图像处理部由所述第2拍摄部拍摄到的所述基板标记的位置来确定所述基板的表面位置，算出所述表面位置和所述背面位置的偏差量。根据上述各结构，通过从基板表面的拍摄，能基于基板标记的位置来确定表面位置，通过从基板背面的拍摄，能基于平坦部和斜面部的边界来确定背面位置。因此，在对基板进行的处理中、基于表面位置进行的处理和基于背面位置进行的处理之间，也能实现处理位置的匹配。在上述蒸镀装置中，也可以为，具备：搬送部，其具备所述位置检测装置作为第1位置检测装置；以及蒸镀腔，其搭载有第2位置检测装置，所述背面位置是第1背面位置，所述第2位置检测装置具备：第3拍摄部，其拍摄第3像和第4像，该第3像基于由所述背面的平坦部反射的光形成，该第4像基于由与所述背面的平坦部连接的斜面部反射的光形成；以及第2图像处理部，其基于所述第3像和所述第4像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定作为所述基板的位置的第2背面位置，且根据所述第2背面位置和所述偏差量来推定所述蒸镀腔中的所述表面位置，所述蒸镀掩模在与所述表面对置的一侧的面具备掩模标记，所述第3拍摄部从与所述背面对置的方向拍摄所述掩模标记，所述第2图像处理部由所述第3拍摄部拍摄到的所述掩模标记的位置来确定所述蒸镀掩模的位置，将由所述第2图像处理部推定的所述表面位置相对于该蒸镀掩模的位置的相对位置算出。根据上述蒸镀装置，能够提高基板和蒸镀掩模的相对位置的检测精度，所以在与基板和蒸镀掩模的相对位置有关的处理中也能提高其精度。附图说明图1是将位置检测装置的结构与基板一起示出的结构图，上图中与基板的剖视图一起示出结构，下图中示出基板的俯视图和外形用照相机的拍摄范围的相对位置。图2是示出外形用照相机拍摄的图像的1个例子的图。图3是示出蒸镀装置的结构的结构图。图4是示出EFEM的结构的结构图。图5是将基板的平面结构与各照相机的拍摄范围一起示出的俯视图。图6是示出蒸镀腔的结构的框图。图7是将基板的平面结构与外形用照相机的拍摄范围一起示出的俯视图。图8是用于说明蒸镀处理进行的各种处理的框图。具体实施方式说明位置检测装置及蒸镀装置的1个实施方式。[位置检测装置]如图1所示，基板W具备表面WF和背面WR。表面WF的外周部Wp具备平坦部Wp1和斜面部Wp2，另外，背面WR的外周部Wp也具备平坦部Wp1和斜面部Wp2。平坦部Wp1是沿着基板W的表面WF扩展的平面部分及沿着基板W的背面WR扩展的平面部分。各斜面部Wp2具有在沿着基板W的厚度方向的截面(参照图1)中，曲率中心相对于斜面部Wp2位于基板W的中心侧的曲率。此外，在图1中，示出外形用照相机11对基板W的背面WR进行拍摄的状态，另外，示出基板W的形状为圆板状的例子。位置检测装置10具备外形用照相机11和图像处理部12。外形用照相机11例如是CCD照相机，是拍摄部(第1拍摄部)的1个例子。外形用照相机11的拍摄范围11Z是包含平坦部Wp1的一部分和与该一部分连接的斜面部Wp2在内的大小。此外，在进行基板W的搬送时，作为搬送后的位置和其目标位置的差异的搬送精度设定在预定的范围内。外形用照相机11的拍摄范围11Z比这样的范围充分大。外形用照相机11的光轴11A例如位于平坦部Wp1和斜面部Wp2的边界的附近。照射到基板W的外周部Wp的光既可以是从外形用照相机1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种位置检测装置，具备：拍摄部，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成；以及图像处理部，其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定所述基板的位置。

【技术特征摘要】
2017.10.04 JP 2017-1942661.一种位置检测装置，具备：拍摄部，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由基板的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成；以及图像处理部，其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定所述基板的位置。2.根据权利要求1所述的位置检测装置，其中，所述拍摄部是第1拍摄部，所述基板包括表面和背面，该表面包含基板标记，进一步具备第2拍摄部，该第2拍摄部与所述表面对置，并拍摄所述基板标记，所述第1拍摄部与所述背面对置，并拍摄所述第1像及所述第2像，所述图像处理部由根据所述第1拍摄部拍摄到的所述第1像及所述第2像而提取的所述外形的一部分来确定所述基板的背面位置，所述图像处理部由所述第2拍摄部拍摄到的所述基板标记的位置来确定所述基板的表面位置，算出所述表面位置和所述背面位置的偏差量。3.一种蒸镀装置，具备：位置检测装置，其检测基板的位置；蒸镀源，其与所述基板的表面对置；以及蒸镀掩模，其位于所述表面与所述蒸镀源之间，所述位置检测装置具备：拍摄部，其拍摄第1像和第2像，该第1像基于由所述基板的背面中的平坦部反射的光形成，该第2像基于由与所述平坦部连接的斜面部反射的光形成；以及图像处理部，其基于所述第1像和所述第2像的对比度提取所述平坦部和所述斜面部的边界作为所述基板的外形的一部分，根据该提取的外形的一部分来确定所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田雄一，坂内雄也，柳堀文嗣，小川庆，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本,JP