一种遮蔽治具及镀膜工艺设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种遮蔽治具及镀膜工艺设备，属于产品镀膜技术领域，该遮蔽治具包括用于承载电脑外壳的第一包覆件和用于遮蔽电脑外壳的第二包覆件，第二包覆件能沿预设方向运动以与第一包覆件配合，第一包覆件上设置有限位柱，限位柱的高度大于电脑外壳的厚度，第二包覆件上设置有限位孔，限位孔用于与限位柱配合，以使第二包覆件只能沿预设方向运动，以避免第二包覆件接触到电脑外壳。镀膜工艺设备包括上述的遮蔽治具。这种遮蔽治具可在不影响现有治具遮蔽效果的前提下，减少由于治具与外壳碰撞造成的刮、碰伤，提高产品良率。具备上述遮蔽治具的镀膜工艺设备可提高工作效率、提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种遮蔽治具及镀膜工艺设备
本技术涉及产品镀膜
，具体而言，涉及一种遮蔽治具及镀膜工艺设备。
技术介绍
笔记本电脑外壳(以下简称“外壳”)磁控溅射镀抗电磁干扰薄膜(以下简称“抗电磁干扰薄膜”)工艺，因电磁屏蔽效果好、寿命长、膜层薄等优点而被广泛采用。为区分外壳导电与绝缘区域，可在镀膜过程中使用遮蔽治具(以下简称“治具”)将绝缘区域遮挡。现有治具在上、下盖扣合时，需要操作员双手持治具上盖，对准下盖限位槽，缓慢扣合，该过程中容易出现治具与外壳碰撞，造成外壳刮伤、碰伤不良问题。
技术实现思路
本技术的目的包括提供一种遮蔽治具及镀膜工艺设备，其能够不影响现有遮蔽效果的前提下，显著减少治具与外壳间的碰撞，提升产品良率。本技术的实施例通过以下技术方案实现：一种遮蔽治具，其包括用于承载电脑外壳的第一包覆件和用于遮蔽电脑外壳的第二包覆件，第二包覆件能沿预设方向运动以与第一包覆件配合，第一包覆件上设置有限位柱，限位柱的高度大于电脑外壳的厚度，第二包覆件上设置有限位孔，限位孔用于与限位柱配合，以使第二包覆件只能沿预设方向运动，以避免第二包覆件接触到电脑外壳。在本技术较佳的实施例中，上述限位柱包括第一限位柱本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽治具包括用于承载电脑外壳的第一包覆件和用于遮蔽电脑外壳的第二包覆件，所述第二包覆件能沿预设方向运动以与所述第一包覆件配合，所述第一包覆件上设置有限位柱，所述限位柱的高度大于所述电脑外壳的厚度，所述第二包覆件上设置有限位孔，所述限位孔用于与所述限位柱配合，以使所述第二包覆件只能沿所述预设方向运动，以避免所述第二包覆件接触到所述电脑外壳。

【技术特征摘要】
1.一种遮蔽治具，其特征在于，所述遮蔽治具包括用于承载电脑外壳的第一包覆件和用于遮蔽电脑外壳的第二包覆件，所述第二包覆件能沿预设方向运动以与所述第一包覆件配合，所述第一包覆件上设置有限位柱，所述限位柱的高度大于所述电脑外壳的厚度，所述第二包覆件上设置有限位孔，所述限位孔用于与所述限位柱配合，以使所述第二包覆件只能沿所述预设方向运动，以避免所述第二包覆件接触到所述电脑外壳。2.根据权利要求1所述的遮蔽治具，其特征在于，所述限位柱包括第一限位柱和第二限位柱，所述限位孔包括用于与所述第一限位柱配合的第一限位孔和与所述第二限位柱配合的第二限位孔。3.根据权利要求2所述的遮蔽治具，其特征在于，所述第一限位柱设置有第一限位面，所述第一限位面用于与所述第一限位孔的内壁贴合。4.根据权利要求3所述的遮蔽治具，其特征在于，所述第一限位面和所述第一限位孔的内壁均为弧形面。5.根据权利要求2所述的遮蔽治具，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜建峰，王旭，
申请(专利权)人：赫得纳米科技昆山有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32