【技术实现步骤摘要】
一种湿式制程承载盘循环加盖装置
本技术涉及一种湿式制程设备，尤其涉及一种湿式制程承载盘循环加盖装置。
技术介绍
半导体制程是在超洁净无尘室进行的，仍然有些污染源的存在，至于污染源的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染的主要来源，大多会造成良率和可靠度的下降；在半导体制程中，无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。晶粒封装后若需批量进行湿式制程处理，需使用承载盘放置，并加盖后才能防止晶粒漂移，现有技术中加盖是实用机械手臂水平转移至承载盘上进行加盖，这种加盖方式需占用较大空间，且对机械手臂操作以及定位要求较高，自动化成本相应较为昂贵。
技术实现思路
本技术正是针对现有技术存在的不足，提供了一种湿式制程承载盘循环加盖装置。为解决上述问题，本技术所采取的技术方案如下：一种湿式制程承载盘循环加盖装置，包括载台，所述载台包括立柱滑轨和连杆，立柱滑轨竖直矩形排列，且立柱滑轨为角钢形状，连杆连接相邻的两立...
【技术保护点】
1.一种湿式制程承载盘循环加盖装置，其特征是：包括载台(10)，所述载台(10)包括立柱滑轨(11)和连杆(12)，立柱滑轨(11)竖直矩形排列，且立柱滑轨(11)为角钢形状，连杆(12)连接相邻的两立柱滑轨(11)，所述立柱滑轨(11)中部一侧壁设有水平槽孔(13)，槽孔(13)内水平安装有压缩弹簧(14)和伸缩块(15)，压缩弹簧(14)一端固定在槽孔(13)内侧端部，另一端与伸缩块(15)连接，伸缩块(15)凸出滑轨壁，且伸缩块(15)上支撑有层叠的盖板，伸缩块(15)下方的立柱滑轨(11)上设有滑车(16)，滑车(16)与立柱滑轨(11)配合，载台(10)的底部设有...
【技术特征摘要】
1.一种湿式制程承载盘循环加盖装置，其特征是：包括载台(10)，所述载台(10)包括立柱滑轨(11)和连杆(12)，立柱滑轨(11)竖直矩形排列，且立柱滑轨(11)为角钢形状，连杆(12)连接相邻的两立柱滑轨(11)，所述立柱滑轨(11)中部一侧壁设有水平槽孔(13)，槽孔(13)内水平安装有压缩弹簧(14)和伸缩块(15)，压缩弹簧(14)一端固定在槽孔(13)内侧端部，另一端与伸缩块(15)连接，伸缩块(15)凸出滑轨壁，且伸缩块(15)上支撑有层叠的盖板，伸缩块(...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄荣龙，魏杰，
申请(专利权)人：安徽宏实自动化装备有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34
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