【技术实现步骤摘要】
一种OLED用ITO蚀刻液及其制备方法和应用
本专利技术涉及一种金属材料的化学蚀刻用组合物及其制备工艺,具体涉及一种OLED用ITO蚀刻液及其制备方法和应用。
技术介绍
ITO导电膜广泛地用于液晶显示器、太阳能电池、微电子导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。ITO导电膜的蚀刻加工通常采用盐酸、硝酸混合水溶液,盐酸、三氯化铁水溶液,碘酸水溶液,磷酸水溶液等。蚀刻液。这些蚀刻液腐蚀能力都比较的强,在蚀刻加工的过程中,比较难以控制蚀刻参数,比如加工的角度和蚀刻时间,并且生产过程中存在较多的危险,必须作为危害化学品严格控制。
技术实现思路
本专利技术提供一种OLED用ITO蚀刻液及其制备方法和应用,该蚀刻液的加工条件下比较容易控制,并且使用安全、危害小。根据本专利技术的第一方面,一种OLED用ITO蚀刻液,由以下原料制备而成,原料按照质量份数组成,混合酸1-10份、铵盐0.05-0.08份、钾盐0.1-0.2份、表面活性剂0.01-2份、消泡剂0.01-0.1份、去离子水100份。作为本专利技术的优选方案,所述的混合酸包括邻氟苯甲酸、草酸、乙酸,质量比例为1-3:4-8:4-8。所述的铵盐,为以下物质中的一种或多种混合物:乙酸铵、草酸铵、苯甲酸铵、硫酸铵、硝酸铵、碳酸铵、氯化铵、碳酸氢铵、硫酸氢胺。所述的表面活性剂为磷酸盐型双子表面活性剂、磷酸酯盐型双子表面活性剂中的一种或多种混合。优选的,所述的磷酸盐型双子表面活性剂为双十二烷氧基双磷酸钠盐、双十二烷氧基双磷酸钾盐中的一种或两种混合,所述磷酸酯盐型双子表面活性剂为对苯二甲基双辛烷基磷酸酯钾盐、对苯二甲基双十二烷基磷酸酯 ...
【技术保护点】
1.一种OLED用ITO蚀刻液,其特征在于:由以下原料制备而成,原料按照质量份数组成,混合酸1‑10份、铵盐0.05‑0.08份、钾盐0.1‑0.2份、表面活性剂0.01‑2份、消泡剂0.01‑0.1份、去离子水100份。
【技术特征摘要】
1.一种OLED用ITO蚀刻液,其特征在于:由以下原料制备而成,原料按照质量份数组成,混合酸1-10份、铵盐0.05-0.08份、钾盐0.1-0.2份、表面活性剂0.01-2份、消泡剂0.01-0.1份、去离子水100份。2.根据权利要求1所述的一种OLED用ITO蚀刻液,其特征在于:所述的混合酸包括邻氟苯甲酸、草酸、乙酸,质量比例为1-3:4-8:4-8。3.根据权利要求1所述的一种OLED用ITO蚀刻液,其特征在于:所述的铵盐,为以下物质中的一种或多种混合物:乙酸铵、草酸铵、苯甲酸铵、硫酸铵、硝酸铵、碳酸铵、氯化铵、碳酸氢铵、硫酸氢胺。4.根据权利要求1所述的一种OLED用ITO蚀刻液,其特征在于:所述的表面活性剂为磷酸盐型双子表面活性剂、磷酸酯盐型双子表面活性剂中的一种或多种混合。5.根据权利要求4所述的一种OLED用ITO蚀刻液,其特征在于:所述的磷酸盐型双子表面活性剂为双十二烷氧基双磷酸钠盐、双十二烷氧基双磷酸钾盐中的一种或两种混合...
【专利技术属性】
技术研发人员:傅华,刘兵,高小云,
申请(专利权)人:苏州晶瑞化学股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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