The invention discloses a grinding and polishing machine set, which comprises a body, a fixed plate fixed on the upper side wall of the body, a servo control indexing and positioning device for the workpiece disk and a rotary device for the workpiece disk of the precision polishing station fixed on the inner side wall of the body, and a concave surface R angle grinding device for the upper disk, a cleaning device for the upper disk and a rotating device for the workpiece disk of the precision polishing station are fixed on the upper side wall of the fixed plate in reverse clockwise order. Disc concave rough polishing device, upper concave R angle rough polishing device, upper concave fine polishing device, upper concave R angle fine polishing device and upper plate fine polishing device, the invention makes the equipment multi-purpose, high precision, saving production cost and production efficiency through various grinding, cleaning, rough polishing, fine polishing and fine polishing devices, under the control of the NC operating table and the cooperation of various precision components. High, high yield, high qualified rate, realize intelligent production.
【技术实现步骤摘要】
一种研磨抛光机组
本专利技术涉及研磨抛光机
,具体为一种研磨抛光机组。
技术介绍
智能手机以其新潮的设计和较佳的使用体验越来越被消费者所接受。行星抛光机作为手机前、后盖板的抛光设备,主要用于对平面和曲面外形的玻璃、陶瓷、塑料等材质的工件进行抛光加工。利用行星齿轮机构具有行星齿轮自转以及绕太阳齿轮公转的特点,使固定在行星齿轮上的工件在抛光过程中可进行360°旋转,实现抛光组件对工件的抛光,但是现有研磨抛光机中存在一些问题,行星抛光机上盘结构采用气缸控制升降,无法独立精确定位和抛光压力无法自动补偿、行星抛光机工件盘结构抛光产品凹面不能自动对位、行星抛光机工件盘结构无伺服控制分度定位、产品凹面4个R角与上盘的研磨、抛光轮不能重叠接触、无在线自动补偿、行星抛光机上盘结构不能设置定位研磨、定位清洗、定位粗、细、精抛功能、行星抛光机上盘结构没有独立的伺服控制前后运动,为解决以上问题,我们提出一种研磨抛光机组。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种研磨抛光机组,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种研磨抛光机组,包括机体,所述机体的上侧壁固定安装有固定板,所述机体的内侧壁固定装配有工件盘伺服控制分度定位装置和精抛工位工件盘旋转装置,所述工件盘伺服控制分度定位装置的上侧壁均匀装配有工件盘,且工件盘共有十个,所述所述固定板的上侧壁逆时针依次固定安装有上盘凹面研磨装置、上盘凹面R角研磨装置、上盘清洗装置、上盘凹面粗抛装置、上盘凹面R角粗抛装置、上盘凹面细抛装置、上盘凹面R角细抛装置和上盘精抛装置,且上盘凹面研磨装置、上盘凹面R ...
【技术保护点】
1.一种研磨抛光机组,其特征在于,包括机体(1),所述机体(1)的上侧壁固定安装有固定板(2),所述机体(1)的内侧壁固定装配有工件盘伺服控制分度定位装置(3)和精抛工位工件盘旋转装置(4),所述工件盘伺服控制分度定位装置(3)的上侧壁均匀装配有工件盘(21),且工件盘(21)共有十个,所述所述固定板(2)的上侧壁逆时针依次固定安装有上盘凹面研磨装置(5)、上盘凹面R角研磨装置(7)、上盘清洗装置(9)、上盘凹面粗抛装置(11)、上盘凹面R角粗抛装置(13)、上盘凹面细抛装置(15)、上盘凹面R角细抛装置(17)和上盘精抛装置(19),且上盘凹面研磨装置(5)、上盘凹面R角研磨装置(7)、上盘凹面粗抛装置(11)、上盘凹面R角粗抛装置(13)、上盘凹面细抛装置(15)和上盘凹面R角细抛装置(17)的内部结构相同,所述精抛工位工件盘旋转装置(4)位于上盘精抛装置(19)的正下方,所述工件盘伺服控制分度定位装置(3)、精抛工位工件盘旋转装置(4)、上盘凹面研磨装置(5)、上盘凹面R角研磨装置(7)、上盘清洗装置(9)、上盘凹面粗抛装置(11)、上盘凹面R角粗抛装置(13)、上盘凹面细抛装置 ...
【技术特征摘要】
1.一种研磨抛光机组,其特征在于,包括机体(1),所述机体(1)的上侧壁固定安装有固定板(2),所述机体(1)的内侧壁固定装配有工件盘伺服控制分度定位装置(3)和精抛工位工件盘旋转装置(4),所述工件盘伺服控制分度定位装置(3)的上侧壁均匀装配有工件盘(21),且工件盘(21)共有十个,所述所述固定板(2)的上侧壁逆时针依次固定安装有上盘凹面研磨装置(5)、上盘凹面R角研磨装置(7)、上盘清洗装置(9)、上盘凹面粗抛装置(11)、上盘凹面R角粗抛装置(13)、上盘凹面细抛装置(15)、上盘凹面R角细抛装置(17)和上盘精抛装置(19),且上盘凹面研磨装置(5)、上盘凹面R角研磨装置(7)、上盘凹面粗抛装置(11)、上盘凹面R角粗抛装置(13)、上盘凹面细抛装置(15)和上盘凹面R角细抛装置(17)的内部结构相同,所述精抛工位工件盘旋转装置(4)位于上盘精抛装置(19)的正下方,所述工件盘伺服控制分度定位装置(3)、精抛工位工件盘旋转装置(4)、上盘凹面研磨装置(5)、上盘凹面R角研磨装置(7)、上盘清洗装置(9)、上盘凹面粗抛装置(11)、上盘凹面R角粗抛装置(13)、上盘凹面细抛装置(15)、上盘凹面R角细抛装置(17)和上盘精抛装置(19)分别通过导线连接到外部电源及外接数控操作台,所述上盘凹面研磨装置(5)的下端装配有研磨盘(6),所述上盘凹面R角研磨装置(7)的下端装配有R角研磨盘(8),所述上盘清洗装置(9)的下端装配有混合毛刷盘(10),所述上盘凹面粗抛装置(11)的下端装配有粗抛盘(12),所述上盘凹面R角粗抛装置(13)的下端装配有R角粗抛盘(14),所述上盘凹面细抛装置(15)的下端装配有细抛盘(16),所述上盘凹面R角细抛装置(17)的下端装配有R角细抛盘(18),所述上盘精抛装置(19)的下端装配有混合精抛盘(20),且研磨盘(6)、R角研磨盘(8)、粗抛盘(12)、R角粗抛盘(14)、细抛盘(16)和R角细抛盘(18)均有四个,所述固定板(2)的上侧壁开设有上下工件槽(22);所述上盘凹面研磨装置(5)包括第一固定座(23),且第一固定座(23)固定安装于固定板(2)的上侧壁,所述第一固定座(23)的上侧壁装配有精密升降运动组件(24)和精密前后运动组件(25),所述精密升降运动组件(24)的外侧壁与精密前后运动组件(25)的外侧壁之间装配有第一减速电机(26),所述第一减速电机(2)的输出端通过传动轴及齿轮传动装配有研磨盘(6),且研磨盘(6)共有四个,所述第一固定座(23)的下侧壁...
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