【技术实现步骤摘要】
一种适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统
本专利技术属于半导体制造领域，具体涉及光伏电池制造领域，将原子层沉积（ALD）技术应用到光伏领域，生产超大规模产品的设备。
技术介绍
原子层沉积技术通常需要将产品交替暴露在两种或两种以上前驱体气体中，而这一特性使这些化学品交替接触过的设备部件表面产生镀膜或粉尘等不良效果。为了避免上诉效应产生有些设备已经采用了每种前驱体采用一根专用管路供气的设计。对于大规模原子层沉积设备产品室很大，而原子层沉积技术希望一种前驱体同时均匀的到达产品表面。用一个管路供气显然无法实现这一要求，目前已有原子层沉积设备采用钢板打孔的装置对前驱体进行匀流，部分达到这一效果。专利201610395128.1公开了一种喷淋装置结合上述两个技术方案。但其装置在实际应用中存在喷淋板产生镀膜或粉尘的情况，这个问题的本质原因依然是设备部件暴露在多种前驱体气体中。
技术实现思路
专利技术目的：本专利技术目的在于针对现有技术的不足，提供一种适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统，从原理角度避免了设备部件表面镀膜或产生粉尘的不良效果，同时考虑了空间匀流功能，有利于提高镀膜均匀性。技术方案：本专利技术所述适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统，包括通入前驱体气体的流通管道，该流通管道的进气端端面上开设有若干进气孔，出气端端面分隔为数量与进气孔数量相匹配的出气孔，流通管道的内腔分隔为数量与出气孔数量一致的独立流道；每个出气孔与相对应的一个或多个进气孔通过位于流通管道内的对应独立流道相连通，各独立流道呈“喇叭状”，由进气孔侧向出气孔侧，内径逐渐增大。本专利技术进一步优选...
【技术保护点】
1.一种适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统，包括通入前驱体气体的流通管道，其特征在于，该流通管道的进气端端面上开设有若干进气孔，出气端端面分隔为数量与进气孔数量相匹配的出气孔，流通管道的内腔分隔为数量与出气孔数量一致的独立流道；每个出气孔与相对应的一个或多个进气孔通过位于流通管道内的对应独立流道相连通，各独立流道呈“喇叭状”，由进气孔侧向出气孔侧，内径逐渐增大。
【技术特征摘要】
1.一种适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统，包括通入前驱体气体的流通管道，其特征在于，该流通管道的进气端端面上开设有若干进气孔，出气端端面分隔为数量与进气孔数量相匹配的出气孔，流通管道的内腔分隔为数量与出气孔数量一致的独立流道；每个出气孔与相对应的一个或多个进气孔通过位于流通管道内的对应独立流道相连通，各独立流道呈“喇叭状”，由进气孔侧向出气孔侧，内径逐渐增大。2.根据权利要求1所述的适用于超大规模原子层沉积的气体匀流系统，其特征在于，所述出气孔为矩形，独立流道的出气孔侧的端部为长宽与出气孔长宽一致的矩形，相邻...
【专利技术属性】
技术研发人员：余伟，
申请(专利权)人：南京爱通智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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