The invention discloses a crystalline silicon high-efficiency photovoltaic cell structure, which comprises a silicon substrate. The upper surface (light receiving surface) of the silicon substrate successively comprises a tunneling medium layer or an intrinsic silicon layer, a functional layer, an optical layer and an electrode from bottom to top; the functional layer is a semiconductor layer with high light transmittance, and the resistivity of the functional layer is 1-6 orders of magnitude lower than that of the silicon substrate, and the thickness of the functional layer 5 \u2011 200nm. The invention can effectively improve the current output capacity of the photovoltaic cell.
【技术实现步骤摘要】
一种晶硅高效光伏电池结构
本专利技术涉及光伏电池
,具体涉及一种晶硅高效光伏电池结构。
技术介绍
随着光伏产业的规模化和光伏技术的迅速发展,钝化接触技术可以大幅提高光伏电池的电压(Voc),日益成为研发和量产的热点。通常采用掺杂非晶硅(α-Si)薄膜作为核心功能层,代表结构为非晶/单晶异质结(HIT)电池;或掺杂多晶硅(Poly-Si)薄膜作为核心功能层,代表结构为隧穿氧化物钝化接触结构(TOPCon)电池,但α-Si或Poly-Si对光能有吸收,影响了电池的电流输出能力(Isc)。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术目的在于针对现有技术的不足,提供一种晶硅高效光伏电池结构,能够有效提高光伏电池的电流输出能力(Isc)。技术方案:本专利技术所述一种晶硅高效光伏电池结构,包括硅基体(c-Si),在硅基体的上表面(受光面)自下而上依次包括隧穿介质层或本征硅层(i-Si)、功能层、光学层及电极;所述功能层为高透光率的半导体层,所述功能层的电阻率比硅基体的电阻率低1-6个数量级,所述功能层的厚度为5-200nm。优选地,所述功能层的电阻率比硅基体的电阻率低2-4个数量级。优选地,所述功能层为ZnO层或TiO2层或NiO层或Cu2O层。优选地,所述功能层的厚度为10-20nm。优选地,所述隧穿介质层为绝缘层。优选地,所述隧穿介质层为SiO2层或Al2O3层或SiC层。优选地,所述隧穿介质层的厚度为0.4-5nm。优选地,所述隧 ...
【技术保护点】
1.一种晶硅高效光伏电池结构,包括硅基体,其特征在于,在硅基体的上表面(受光面)自下而上依次包括隧穿介质层或本征硅层、功能层、光学层及电极;所述功能层为高透光率的半导体层,所述功能层的电阻率比硅基体的电阻率低1-6个数量级,所述功能层的厚度为5-200nm。/n
【技术特征摘要】
1.一种晶硅高效光伏电池结构,包括硅基体,其特征在于,在硅基体的上表面(受光面)自下而上依次包括隧穿介质层或本征硅层、功能层、光学层及电极;所述功能层为高透光率的半导体层,所述功能层的电阻率比硅基体的电阻率低1-6个数量级,所述功能层的厚度为5-200nm。
2.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述功能层的电阻率比硅基体的电阻率低2-4个数量级。
3.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述功能层为ZnO层或TiO2层或NiO层或Cu2O层。
4.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述功能层的厚度为10-20nm。
5.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述隧穿介质层为绝缘层;优选地,所述隧穿介质层为SiO2层或Al2O3层或SiC层。
6.根据权利要求1所述的结构,其特征在于,所述隧穿介质层的厚度为...
【专利技术属性】
技术研发人员:余伟,
申请(专利权)人:南京爱通智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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