一种薄膜制备工艺以及涉及该工艺的气体传感器制备方法技术

本发明专利技术公开了一种薄膜制备工艺以及涉及该工艺的气体传感器制备方法，涉及传感器制备技术领域。本发明专利技术采用的薄膜制备工艺，集旋涂‑喷涂工艺于一体，将传统的旋涂工艺和喷涂工艺相结合后同时具有旋涂工艺成膜均匀和喷涂工艺调控形貌等优点，在形貌调控的同时保证了薄膜的均一性，雾化的溶液液滴一接触基板立即被旋涂，解决了溶液法薄膜制备过程中上层溶剂对下层薄膜的侵蚀，形成均匀性更好的薄膜，同时无数液滴的独立旋涂使得有机半导体层产生更多的晶界，有效增强了待测气体与有机半导体的相互作用，实现器件对待测气体的高灵敏度探测，同时更多的晶界利于气体的扩散，提高了器件的回复特性。

A thin film preparation process and a preparation method of a gas sensor related to the process

The invention discloses a thin film preparation process and a preparation method of a gas sensor related to the process, and relates to the field of sensor preparation technology. The thin film preparation process adopted in the invention integrates spin coating and spraying technology, combines traditional spin coating technology with spraying technology, and has the advantages of uniform film formation by spin coating technology and morphology control by spraying technology. The uniformity of thin film is guaranteed while morphology control is carried out. The spraying solution droplet-contact substrate is rotated immediately, which solves the problem in the process of thin film preparation by solution method. The erosion of the upper solvent on the lower layer results in better uniformity of the film. At the same time, the independent spin coating of numerous droplets makes the organic semiconductor layer produce more grain boundaries, which effectively enhances the interaction between the gas to be measured and the organic semiconductor, realizes the high sensitivity detection of the device for the gas to be measured. At the same time, more grain boundaries are conducive to gas diffusion and improve the recovery characteristics of the device.

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜制备工艺以及涉及该工艺的气体传感器制备方法
本专利技术涉及传感器制备
，具体涉及一种薄膜制备工艺以及涉及该工艺的气体传感器制备方法。
技术介绍
在人类的生产和生活过程中，大量有毒有害的气体不可避免地被排放到了大气中(例如：二氧化氮、二氧化硫、氨气等)。这些有害气体不仅会破坏生态环境，还严重威胁着人们的身体健康。因此实现对大气环境的有效监测至关重要。其中，有机晶体管气体传感器相比于其它传统气体传感器有着低消耗、可室温操作、高灵敏度、多参数探测和工艺简单等优点，加上有机材料本身所具备的由于质轻、价廉、具有柔性、制备方法简单、种类多、性能可通过分子设计进行调整等优势，在传感器领域一直倍受人们关注，目前已成为传感器领域的研究热点。众说周知，半导体层作为有机场效应晶体管一个重要的组成部分，直接决定着有机场效应晶体管气体传感器性能。不同制备工艺的使用能够有效调节半导体薄膜的形貌，进而影响气体传感器性能，现有半导体层的制备主要采用旋涂和喷涂两种方法。旋涂工艺是一种常用的溶液法薄膜制备工艺，可有效地形成厚度均匀的薄膜，其工艺过程是：将溶液滴到基板上，将基板加速到高角速度，以同时扩散液体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜制备工艺，其特征在于，制备的溶液经由喷嘴垂直喷射到旋转的基片表面，喷嘴喷射的速率范围为10～100μL/s，基片旋转的转速范围为1000～5000rad/min。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜制备工艺，其特征在于，制备的溶液经由喷嘴垂直喷射到旋转的基片表面，喷嘴喷射的速率范围为10～100μL/s，基片旋转的转速范围为1000～5000rad/min。2.如权利要求1所述的一种薄膜制备工艺，其特征在于：制备工艺持续时间为20s～2min。3.一种涉及如权利要求1或2所述的薄膜制备工艺的气体传感器制备方法，其特征在于，包括如下步骤：①利用洗涤剂、丙酮溶液、去离子水和异丙醇溶液对衬底进行清洗，清洗后用氮气吹干；②在衬底表面制备栅电极；③在所述栅电极上面制备介电层；④使衬底以转速为1000～5000rad/min的速度进行旋转，并使得有机半导体溶液经由喷嘴垂直喷射到旋转的介电层表面，喷嘴喷射的速率范围为10～100μL/s，在介电层上制备得到有机半导体层；⑤在有机半导体层上制备源电极和漏电极。4.如权利要求3所述的气体传感器制备方法，其特征在于：步骤③中，介电层通过旋涂、辊涂、滴膜、压印、印刷或喷涂中的一种方法制备。5.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：于军胜，侯思辉，庄昕明，王啸林，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川,51