The present invention discloses an angle model architecture of SONOS unit and its debugging method. The architecture includes P0 state branch and P1 state branch. The P0 state branch and P1 state branch are subdivided into BOL state and EOL state sub-branches respectively. Each sub-branch is subdivided into typical, fast and slow angle models according to SONOS element and fnpass element. Through the present invention, designers can make use of three angle models: typical, fast and slow. When using this angle model, more reasonable numerical distribution can be obtained.
【技术实现步骤摘要】
一种SONOS单元的角模型架构及其调试方法
本专利技术涉及角模型架构
,特别是涉及一种SONOS单元的角模型架构及其调试方法。
技术介绍
通常为了客观反映半导体器件在制造时其由于工艺分布而存在的器件电特性分布误差,Foundary厂在给设计客户提供器件模型的同时,会给模型提供能反映电特性误差分布的角模型。业界常规的CMOS采用的BSIM4模型的角模型方式通常是基于一套单独的器件模型选择BSIM4参数进行阈值电压和饱和电流的调整,它们通常只反映器件的一种状态下的工艺分布,并且不包含器件老化后的状态描述。此外常规CMOS的业界模型构架是单独的,如图1所示,常规N/PMOS模型包含以下5套角模型:Typical;N:fast,P:fast;N:slow,P:slow;N:fast,P:slow;N:slow,P:fast。目前,SONOS电路单元是由两个器件组成的基本单元:可写入或擦除电子的sonos元件和一个fnpass器件的组合,这两个元件各自需要独立的BSIM4模型参数去描述,同时,sonos元件分为写入状态和擦除状态,这两种特性状态又不相同,也分别需要各自独立的BISM4模型参数去描述。如图2所示,WLS是sonos元件的栅控制端,WL是fnpass元件的栅控制端,VBPW为这两个元件的公共衬底,BL是SONOS电路单元的漏端电压控制端,SL是fnpass元件的源端。当给WLS端一个较高的电压脉冲后,sonos元件沟道中的电子会被写入到其栅氧层ONO层中(一种特殊的栅氧结构),栅氧本征功函数发生改变,沟道处于常开启状态,其阈值电压为负值,称之为P0 ...
【技术保护点】
1.一种SONOS单元的角模型架构,包括P0状态和P1状态分支,所述P0状态分支,P1状态分支各自细分为BOL状态和EOL状态子分支,每个子分支再根据sonos元件和fnpass元件细分为typical,fast和slow三种角模型分类。
【技术特征摘要】
1.一种SONOS单元的角模型架构,包括P0状态和P1状态分支,所述P0状态分支,P1状态分支各自细分为BOL状态和EOL状态子分支,每个子分支再根据sonos元件和fnpass元件细分为typical,fast和slow三种角模型分类。2.一种如权利要求1所述的SONOS单元的角模型架构的调试方法,包括如下步骤:步骤S1,提取BOL状态在typical条件下P0状态、P1状态的IV模型;步骤S2,选择各自的模型参数进行fast和slow的角模型调试;步骤S3,根据P1状态的BOL状态的fast和slow工艺分布得到的阈值电压和漏电流上下限规格,对P1状态BOL状态的sonos元件的vth0、u0参数进行调试,直到模型仿真数值和规格数值一致;步骤S4,对EOL状态时的P0状态的IV曲线进行参数拟合,得到typical状态的vth0数值,根据BOL状态的fast,slow参数变化幅度,对EOL状态的fast和slow参数进行相应的数值调整;步骤S5,将EOL状态下P1状态的fnpass元件的corner参数直接复制EOL状态下P0状态的fnpass元件的corner参数;步骤S6,将EOL状态下P1状态的fnpass的corner参数直接复制EOL状态下P0状态的fnpass元件的corner参数;步骤S7,根据已有的EOL状态下P1状态的fnpass的角模型参数,以及根据EOL状态下P0状态的工艺分布得到的阈值电压上下限规格,调整sonos元件的vth0参数直到fast和slow的仿真数值和规格一致。3.如权利要求2所述的SONOS单元的角模型架构的调试方法,其特征在于,于步骤S1中,提取BOL状态在typical条件下P0状态、P1状态的IV模型,typical条件下经过测试得到相应的IV曲线,用sonos元件和fnpass元件对应的BSIM4模型进行参数提取。4.如权利要求3所述的SONOS单元的角模型架构的调试方法,其特征在于:于步骤S1中,提取...
【专利技术属性】
技术研发人员:王正楠,
申请(专利权)人:上海华虹宏力半导体制造有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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