一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，包括炉体和设于炉体内的玻璃熔化池，炉体前壁设有投料口和烟道口，炉体后壁上设有与铂金通道连通的出料口，炉体上方设有大碹和胸墙；玻璃熔化池的池壁内设有氧化锡电极。本实用新型专利技术的玻璃窑炉通过电极加热的方式实现玻璃液的熔化，其中电极位于玻璃液面之下，玻璃液内部的温度略高于玻璃液表面的温度，但不形成热循环，通过调整电极加热温度实现高品质TFT玻璃液的加热要求；氧化锡电极对玻璃液无污染，通过不断推进氧化锡电极，使电极在熔炉内的长度保持稳定，保证熔融玻璃质量保持稳定。

A Glass Furnace Suitable for Electrode Heating of High Generation Substrates and Covers

The utility model discloses a glass kiln suitable for the electrode heating mode of high-generation substrates and cover plates, which comprises a furnace body and a glass melting pool arranged in the furnace body. The front wall of the furnace body is provided with a feeding port and a flue port, and the back wall of the furnace body is provided with an outlet connected with a platinum channel, and the upper part of the furnace body is provided with a large hole and a breast wall; and the wall of the glass melting pool is provided with tin oxide electrodes. The glass furnace of the utility model realizes melting of glass liquid by means of electrode heating, in which the electrode is located below the glass liquid level, the temperature inside the glass liquid is slightly higher than the temperature on the glass liquid surface, but there is no thermal cycle. The heating requirement of high quality TFT glass liquid is realized by adjusting the heating temperature of the electrode; the tin oxide electrode is pollution-free to the glass liquid, and the tin oxide is continuously promoted. The electrode keeps the length of the electrode in the furnace stable and guarantees the quality of molten glass stable.

【技术实现步骤摘要】
一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉
本技术涉及玻璃熔化用加热设置
，特别涉及一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉。
技术介绍
当前熔化玻璃用的能源各有不同，使用的方式也不同。有的以使用电极为主，有的以使用燃油、天然气的烧嘴为主。但对于TFT玻璃熔化不能使用还原火焰，而用氧化火焰，火焰呈兰色，辐射率低，相比之下热效率低一些。采用电极熔化的电极材料有钼、氧化锡、铂金等，各有特色。若考虑成本，可以使用钼电极，但澄清剂氧化砷、氧化锑的用量不能太多(As2O3+Sb2O3<0.1％>。若用量过多，Mo的损耗增大，电极寿命缩短，而且可能产生Mo、As、Sb的结石。然而TFT玻璃生产提倡无砷，所以对上述澄清剂有要求。氧化锡是一种高质量的耐火材料，是不导电的，在氧化锡粉末中加入各种不同的导电添加剂后经烧结后成为氧化锡电极，当熔制高于1650℃玻璃时仍能保持十分良好的性能，但寿命相应缩短，故采用推进式氧化锡电极，优点是显而易见的。铂金电极可以在很高温度下使用，损耗很小，而钼、氧化锡电极的损耗很大。但铂金电极对于电源有特殊要求，使用的频率从中频到10KHZ电源，如果使用50、60HZ的电源，玻璃中会出现铂金颗粒。
技术实现思路
为克服现有技术存在的问题，本技术提供一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，能够满足高品质TFT玻璃液的加热要求。一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，包括炉体和设于炉体内的玻璃熔化池，炉体前壁设有投料口和烟道口，炉体后壁上设有与铂金通道连通的出料口，炉体上方设有大碹和胸墙；玻璃熔化池的池壁内设有氧化锡电极。进一步的，玻璃熔化池的深度在900mm以上。进一步的，氧化锡电极与玻璃熔化池液面之间留有间隙。进一步的，氧化锡电极距出料口距离为20～80mm，距投料口距离为320～400mm，氧化锡电极底部设于玻璃熔化池的池底之上，氧化锡电极顶部设于玻璃熔化池液面之下的20～80mm处。进一步的，氧化锡电极设有至少一个，氧化锡电极均匀的设于池壁之内，氧化锡电极之间距离为660～700mm。进一步的，氧化锡电极由多块长方体小块电极拼装体拼装而成；拼装体为横向2～3块，纵向3～5块。进一步的，氧化锡电极在池壁中能够水平移动。与现有技术相比，本技术具有以下有益的技术效果：本技术提供的电极加热方式的玻璃窑炉，通过电极加热的方式实现玻璃液的熔化，其中电极位于玻璃液面之下，玻璃液内部的温度略高于玻璃液表面的温度，但不形成热循环，通过调整电极与全氧燃枪的加热温度实现高品质TFT玻璃液的加热要求；由于氧化锡电极在温度高于1000℃时导电能力强、对玻璃熔体有良好的耐侵蚀能力、电位较高不易被其它金属离子置换、不会对TFT玻璃着色等性能，能够满足高质量玻璃液的加热要求；氧化锡电极在熔炉内可推进使用，保持电极长度稳定、电极表面电流强度保持稳定，而不像固定电极那样日渐缩小，这样窑炉工作稳定而控制系统操作也相应简单，生产可靠性改善；且氧化锡电极不易氧化，可用于不同要求的玻璃液的加热。【附图说明】图1为本技术提供的一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉主视图的示意图；图2为本技术提供的一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑俯视图的示意图。其中：1为大碹；2为胸墙；3为氧化锡电极；4为池壁；5为玻璃熔化池。【具体实施方式】下面结合附图对本技术做进一步详细描述：参见图1～图2，电极加热方式的玻璃窑炉，包括炉体和设置在炉体内的玻璃熔化池5，在炉体的上方设有大碹1和胸墙2，在炉体的下方设有连通通道的池壁4，在玻璃熔化池的内壁上设有氧化锡电极3。氧化锡电极3通电之后使电能转换成热能，达到熔化TFT玻璃的目的，氧化锡电极3伸入池炉内面距离不超出池壁砖表面，玻璃液内部的温度略高于玻璃液表面的温度，但不形成热循环。玻璃熔化池5中的玻璃液深度不小于900mm，氧化锡电极3的底部高于池底，距出料口距离为20～80mm，氧化锡电极顶部低于玻璃液面的距离为20～80mm；氧化锡电极3距投料口距离为320～400mm，氧化锡电极3之间的距离为660～700mm。氧化锡电极尺寸为300±10mm×700±15mm×460±20mm；氧化锡电极设计为2～4对，彼此之间的距离相等；本技术的提供的一种实施例的结构如图1所示，其中氧化锡电极为3对。具体的氧化锡电极可由多块长方体小块电极拼装体拼装而成；的拼装体为横向2～3块，纵向3～5块，图1所示的一种实施例的结构，其中的拼装体为横向3块，纵向5块。通过调整氧化锡电极的加热温度，使玻璃液内部温度、表面温度达到TFT玻璃生产工艺要求。由于TFT玻璃熔制温度约为1650℃左右，故电极使用寿命会相应缩短，在使用过程中应定期推进电极，使电极在熔炉内的长度保持稳定，使电极表面电流强度保持稳定，使熔融玻璃质量保持稳定。以上内容仅为说明本技术的技术思想，不能以此限定本技术的保护范围，凡是按照本技术提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均在本技术权利要求书的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，其特征在于，包括炉体和设于炉体内的玻璃熔化池(5)，炉体前壁设有投料口和烟道口，炉体后壁上设有与铂金通道连通的出料口，炉体上方设有大碹(1)和胸墙(2)；玻璃熔化池(5)的池壁(4)内设有氧化锡电极(3)。

【技术特征摘要】
1.一种适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，其特征在于，包括炉体和设于炉体内的玻璃熔化池(5)，炉体前壁设有投料口和烟道口，炉体后壁上设有与铂金通道连通的出料口，炉体上方设有大碹(1)和胸墙(2)；玻璃熔化池(5)的池壁(4)内设有氧化锡电极(3)。2.如权利要求1所述的适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，其特征在于，玻璃熔化池(5)的深度在900mm以上。3.如权利要求1所述的适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，其特征在于，氧化锡电极(3)与玻璃熔化池(5)液面之间留有间隙。4.如权利要求3所述的适用于高世代基板和盖板的电极加热方式的玻璃窑炉，其特征在于，所述氧化锡电极(3)距出料口距离为20～80mm，距投料口距离为32...

【专利技术属性】
技术研发人员：闵超，孙钢智，张涛，
申请(专利权)人：彩虹集团有限公司，
类型：新型
国别省市：陕西,61