一种双面物理气相沉积镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室、样品台系统、真空泵系统和电力系统，真空腔室由磁控溅射腔体和离子辅助蒸发腔体组成，磁控溅射腔体内壁的顶部装有磁控溅射系统，且磁控溅射腔体内部位于磁控溅射系统下方设有加热系统，该双面镀膜设计，对于需要做双面物理气相沉积镀膜的基材，无翻面操作，减少了操作流程，提升了良品率，降低了生产线成本，同时，相对传统的双面磁控溅射镀膜的设计，因为引入了可以实现更优镀膜特性的IED方式，可以提升单面膜性能，对于一些存在主次面之分的双面膜器件，例如有主受光面的光伏电池、主发光面的发光器件、显示器件等等，而言，该设计可以对成本与性能做到较好的平衡。

【技术实现步骤摘要】
一种双面物理气相沉积镀膜设备
本技术物理气相沉积镀膜设备，特别涉及一种双面物理气相沉积镀膜设备，属于物理气象沉积镀膜设备

技术介绍
物理气象沉积技术是指，膜源材料先转换为气态，然后在衬底凝华成膜的过程，这该过程中，本身化学构成没有或者改变极少。物理气相沉积包括：磁控溅射、电热蒸发、电子束蒸发、反应等离子沉积等方式。物理气象沉积技术在工业生产与科学研究中有广范的应用，尤其在半导体、显示器、光伏、LED照明、环保、高端建材、航空航天、数字通讯、光学产业等等众多产业发挥着重要，甚至是核心的作用。为了应对复杂的真空镀膜生产流程，降低设备成本，故障率，生产维护成本，提升良品率，必须避免过多自动化流程。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种双面物理气相沉积镀膜设备解决了现有的问题。为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案：本技术一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室、样品台系统、真空泵系统和电力系统，所述真空腔室由磁控溅射腔体和离子辅助蒸发腔体组成，所述磁控溅射腔体内壁的顶部装有磁控溅射系统，且所述磁控溅射腔体内部位于磁控溅射系统下方设有加热系统，且所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室（1）、样品台系统（2）、真空泵系统（3）和电力系统（4），其特征在于：所述真空腔室（1）由磁控溅射腔体（12）和离子辅助蒸发腔体（5）组成，所述磁控溅射腔体（12）内壁的顶部装有磁控溅射系统（6），且所述磁控溅射腔体（12）内部位于磁控溅射系统（6）下方设有加热系统（7），且所述磁控溅射腔体（12）的一端设有进腔阀门（14），且所述磁控溅射腔体（12）远离进腔阀门（14）的一端通过腔体间阀门（13）连接有离子辅助蒸发腔体（5），所述离子辅助蒸发腔体（5）内部电子束系统（8），且所述离子辅助蒸发腔体（5）内部位于电子束系统（8）的上方设有离子源（9...

【技术特征摘要】
1.一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室（1）、样品台系统（2）、真空泵系统（3）和电力系统（4），其特征在于：所述真空腔室（1）由磁控溅射腔体（12）和离子辅助蒸发腔体（5）组成，所述磁控溅射腔体（12）内壁的顶部装有磁控溅射系统（6），且所述磁控溅射腔体（12）内部位于磁控溅射系统（6）下方设有加热系统（7），且所述磁控溅射腔体（12）的一端设有进腔阀门（14），且所述磁控溅射腔体（12）远离进腔阀门（14）的一端通过腔体间阀门（13）连接有离子辅助蒸发腔体（5），所述离子辅助蒸发腔体（5）内部电子束系统（8），且所述离子辅助蒸发腔体（5）内部位于电子束系统（8）的上方设有离子源（9），且所述离子辅助蒸发腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓萌，
申请(专利权)人：无锡爱尔华精机有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32