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本实用新型公开了一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室、样品台系统、真空泵系统和电力系统，真空腔室由磁控溅射腔体和离子辅助蒸发腔体组成，磁控溅射腔体内壁的顶部装有磁控溅射系统，且磁控溅射腔体内部位于磁控溅射系统下方设有加热系统，该双面镀...
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