一种旋转吊装平面靶制造技术

技术编号:20354104 阅读:51 留言:0更新日期:2019-02-16 13:01
一种旋转吊装平面靶,解决现有技术存在的靶基距大,溅射速率低,镀膜成本高,冷却效果差的问题。包括平面靶体和溅射靶材,其特征在于:平面靶体的外侧设置有一侧布置开口的固定屏蔽,平面靶体的上端与旋转轴相连,旋转轴通过转动轴承座与真空室顶壁相连,旋转轴与回转驱动机构相连;旋转轴中部设置的中心通孔内布置有中心进水管,中心进水管的上端设置进水口;中心进水管外壁与旋转轴中心通孔内壁之间设置出水通道;平面靶体磁极板的循环冷却通道的进口,与中心进水管相连,循环冷却通道的出口与出水通道相连。其设计合理,结构紧凑,能够使靶基距最小化,有效提高溅射速率,节省靶材,降低成本;靶体冷却效果好,靶材溅射功率高。

【技术实现步骤摘要】
一种旋转吊装平面靶
本技术属于真空镀膜
,具体涉及一种能够使靶基距最小化,有效提高溅射速率,节省靶材,降低成本;且靶体冷却效果好,靶材溅射功率高的旋转吊装平面靶。
技术介绍
现有装饰品的颜色以黄金色、玫瑰金色为主;以往的装饰品表面是利用真空镀膜方法镀一层仿金颜色的氮化钛,而为了进一步提高装饰品的精饰效果,需要在氮化钛表面镀一层真黄金或玫瑰金,以使色彩更加艳丽,并同时提升饰品的耐摩擦、耐腐蚀性能,延长膜层的使用寿命,使首饰表面能够长时间保持靓丽光泽、且无需清洗。装饰品的掺金镀膜一般采用磁控溅射的方式,并且,需要使用纯金靶材,为了易于靶材的制备,纯金靶材通常制作成平面靶的结构形式。但是,由于整个镀膜过程中镀纯金膜层是最后一道工序,所以,在镀其他材料的膜层时,金靶表面要进行遮挡,以防止靶面污染,否则将影响成膜的质量。现有的遮挡方式是采用旋转屏蔽来遮挡靶面,然而,具有回转结构的旋转屏蔽,其回转直径要远大于平面靶的直径,故导致靶基距(靶材与工件表面的距离)增大。较大的靶基距会降低溅射的速率,从而提升镀膜成本。另外,现有靶体的冷却系统冷却效果差,严重削弱靶材的溅射功率。故有必要对现有的吊装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转吊装平面靶,包括平面靶体(14),平面靶体(14)内部设置有磁极板(18),磁极板(18)上设置有永磁体(19),永磁体(19)前侧的平面靶体(14)上设置有溅射靶材(15),其特征在于:所述平面靶体(14)的外侧设置有筒状的固定屏蔽(17),固定屏蔽(17)的一侧设置有开口;所述平面靶体(14)的上端与旋转轴(13)相连,旋转轴(13)通过转动轴承座(12)与真空室顶壁(1)的外侧相连,且旋转轴(13)与回转驱动机构相连;所述旋转轴(13)的中部设置有沿轴线布置的中心通孔,中心通孔内设置有中心进水管(10),中心进水管(10)的上端设置有进水口(6);中心进水管(10)的外壁与旋...

【技术特征摘要】
1.一种旋转吊装平面靶,包括平面靶体(14),平面靶体(14)内部设置有磁极板(18),磁极板(18)上设置有永磁体(19),永磁体(19)前侧的平面靶体(14)上设置有溅射靶材(15),其特征在于:所述平面靶体(14)的外侧设置有筒状的固定屏蔽(17),固定屏蔽(17)的一侧设置有开口;所述平面靶体(14)的上端与旋转轴(13)相连,旋转轴(13)通过转动轴承座(12)与真空室顶壁(1)的外侧相连,且旋转轴(13)与回转驱动机构相连;所述旋转轴(13)的中部设置有沿轴线布置的中心通孔,中心通孔内设置有中心进水管(10),中心进水管(10)的上端设置有进水口(6);中心进水管(10)的外壁与旋转轴(13)中心通孔的内壁之间设置有出水通道(11),出水通道(11)的上端设置有出水口(7);所述平面靶体(14)的磁极板(18)内部设置有竖直布置的循环冷却通道(16),循环冷却通道(16)的进口与旋转轴(13)中部的中心进水管(10)相连,循环冷却通道(16)的出口则与旋转轴(13)内的出水通道(11)...

【专利技术属性】
技术研发人员:张浩郭喜明王英智王开亮
申请(专利权)人:沈阳乐贝真空技术有限公司
类型:新型
国别省市:辽宁,21

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