A mask group for evaporation includes at least two matching masks, which include a mask body and an opening area, in which a shielding part, at least one connector and an evaporation area are arranged; the connector connects the mask body and the shielding part; the size of the connector of one mask in the mask group and the evaporation plating of other masks. The size of the area is the same and overlapping, and at least two evaporation areas of the mask are coordinated with each other. The steaming process is completed step by step by providing a matching mask to realize the non-steaming material in a specific area of the screen, and then the camera is built into the screen, which is conducive to the realization of a full screen.
【技术实现步骤摘要】
蒸镀用掩模板组
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种蒸镀用掩模板组。
技术介绍
目前,OLED器件生产工艺中的蒸镀工艺部分,主要用掩模板作为遮罩模具,将材料蒸镀到设定的位置上,进而完成红、蓝、绿像素的蒸镀。随着电子技术的快速发展,显示屏的屏幕做得越来越大,为了带给用户较佳的视觉体验,全面屏成为智能电子终端发展的趋势。智显示屏正面除了显示屏幕之外,还有前置摄像头,听筒等部件,而前置摄像头、听筒占据了智能终端正面的较大面积,从而缩减了显示屏正面的显示面积。目前,屏幕是利用凹槽的方式实现摄像头的放置,为了配合全面屏的需要,将手机正面的摄像头内置到屏幕内部是发展趋势,因此需要在掩模板的开口区内相应的区域设置遮挡区域,从而避免该区域蒸镀上材料,但是,若单独设置遮挡区域,无法固定到掩模板本体上,若将遮挡区域连接到本体上,其他被遮挡的开口区域无法蒸镀到材料,也会导致显示屏异常,所以目前的单次蒸镀工艺和掩模板无法满足将摄像头内置到屏幕的需求。
技术实现思路
本专利技术提供一种蒸镀用掩模板组,以解决现有的掩模板,由于在开口区内的相应区域单独设置的遮挡区,无法固定到掩模板本体上,难以实现OLED的蒸镀工艺,无法满足将摄像头内置到屏幕内部的需要,进而影响全面屏的实现的技术问题。为解决上述问题,本专利技术提供的技术方案如下:本专利技术提供一种蒸镀用掩模板组,包括至少两个配套的掩模板,所述掩模板包括掩模板本体和开口区;所述开口区内设置有遮挡部、至少一连接件、以及蒸镀区;其中,所述连接件连接所述掩模板本体与所述遮挡部;所述掩模板组中的一个掩模板的连接件的尺寸与其他掩模板的蒸镀区的尺寸 ...
【技术保护点】
1.一种蒸镀用掩模板组,包括至少两个配套的掩模板,其特征在于,所述掩模板包括:掩模板本体;开口区,所述开口区内设置有遮挡部、至少一连接件、以及蒸镀区;其中,所述连接件连接所述掩模板本体与所述遮挡部;所述掩模板组中的一个掩模板的连接件的尺寸与其他掩模板的蒸镀区的尺寸相同且重叠,至少两个所述掩模板的蒸镀区相互配合。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀用掩模板组,包括至少两个配套的掩模板,其特征在于,所述掩模板包括:掩模板本体;开口区,所述开口区内设置有遮挡部、至少一连接件、以及蒸镀区;其中,所述连接件连接所述掩模板本体与所述遮挡部;所述掩模板组中的一个掩模板的连接件的尺寸与其他掩模板的蒸镀区的尺寸相同且重叠,至少两个所述掩模板的蒸镀区相互配合。2.根据权利要求1所述的掩模板组,其特征在于,所述掩模板组包括第一掩模板和第二掩模板。3.根据权利要求2所述的掩模板组,其特征在于,所述第一掩模板的开口区内设置有第一连接件、第二连接件、第三连接件、以及第四连接件。4.根据权利要求3所述的掩模板组,其特征在于,所述第一连接件、所述第二连接件、所述第三连接件、所述第四连接件的一端均连接所述掩模板本体,相对的另一端均连接所述遮挡部。5.根据权利要求4所述的掩模板组,其特征在于,所述第一连接件、所述第二连接件、所述第三连接件、所述第四连接件均为条形结构,所述第一连接件与所述第二连接件之间的连线、所述第三...
【专利技术属性】
技术研发人员:林治明,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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