带框架的蒸镀掩模的制造方法技术

本发明专利技术提供一种在框架固定有抑制了“扭曲”的蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的制造方法及用于该方法的蒸镀掩模的拉伸装置。在带框架的蒸镀掩模的制造方法中，包含：准备将形成有狭缝(15)的金属掩模(10)和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层叠而构成的蒸镀掩模(100)的准备工序；将在准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件(80)保持，且将由保持部件(80)保持的蒸镀掩模(100)向其外方拉伸的拉伸工序；在拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架(60)固定拉伸状态的蒸镀掩模的固定工序，在拉伸工序中，对于拉伸状态的蒸镀掩模，或拉伸蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。

Manufacturing Method of Steaming Mask with Frame

The invention provides a manufacturing method of a frame-mounted evaporation mask with a restraint of \distortion\ fixed on the frame and a stretching device for the evaporation mask used in the method. In the manufacturing method of the evaporation mask with a frame, a preparation procedure for forming a metal mask (10) with a slit (15) and a resin mask (20) with an opening (25) corresponding to the pattern produced by evaporation (20) overlapping with the slit is included, and a portion of the evaporation mask (100) prepared in the preparation procedure is maintained by a retention component (80). The evaporation mask (100) maintained by the holding component (80) is stretched out to its outer side; after the stretching process, either side or both of the evaporation mask rotating adjustment and moving adjustment are carried out during the stretching process for the evaporation mask in the stretching state while forming the frame (60) with through holes in the fixed stretching state. The adjustment of the party.

【技术实现步骤摘要】
带框架的蒸镀掩模的制造方法本申请是申请日为2014年12月25日、专利技术名称为“带框架的蒸镀掩模的制造方法、拉伸装置、有机半导体元件的制造装置及有机半导体元件的制造方法”、申请号为201480063594.9的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及一种带框架的蒸镀掩模的制造方法、拉伸装置、有机半导体元件的制造装置及有机半导体元件的制造方法。
技术介绍
伴随着使用有机EL元件的产品的大型化或基板尺寸的大型化，对于蒸镀掩模的大型化的要求也日益提升。而且，在由金属构成的蒸镀掩模的制造中所使用的金属板也大型化。但是，在现有的金属加工技术中，不易在大型的金属板上高精度地形成开口部，而不能对应开口部的高精细化。另外，在仅由金属构成的蒸镀掩模的情况下，伴随着大型化，其质量也会增大，且包含框架的总质量也会增大，因此，在处理上带来障碍(不便)。这种状况下，在专利文献1中，提出有一种蒸镀掩模，将设有狭缝的金属掩模和位于金属掩模的表面且与蒸镀制作的图案对应的开口部在纵横方向上配置多列的树脂掩模层叠而构成。根据专利文献1中提出的蒸镀掩模，即使在大型化的情况下，也可以满足高精细化和轻量化这双方，并且也可以进行高精细的蒸镀图案的形成。在使用蒸镀掩模在蒸镀加工对象物上形成蒸镀图案时，通常使用在由金属材料或陶瓷材料等构成的框架上固定蒸镀掩模而构成的带框架的蒸镀掩模。在将蒸镀掩模向框架固定时，在精确地对照蒸镀掩模的位置的状态下进行是非常重要的，将蒸镀掩模的一部分例如蒸镀掩模的相对的两边(两端)通过例如夹具等保持部件进行保持，并使与作为保持部件的夹具等连结的电动机或气缸等驱动装置工作，在将蒸镀掩模拉伸的状态下进行向框架的固定。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5288072号公报专利技术所要解决的课题为了将蒸镀掩模固定在框架上，而将蒸镀掩模的一部分例如蒸镀掩模的相对的两边(两端)利用夹具等保持部件进行保持，并向蒸镀掩模的外方拉伸该保持部件时，在未将蒸镀掩模精确地保持在夹具等保持部件的情况下，例如虽然平行地保持蒸镀掩模的两端，但在非对称地保持蒸镀掩模的两端的情况下、或并未平行地保持蒸镀掩模的两端的情况下，即在将蒸镀掩模以倾斜地倾斜的状态下保持的情况下，如图8(a)、图9(a)中所示，在拉伸蒸镀掩模时，在该蒸镀掩模上产生“扭曲”。就上述专利文献1中提出的蒸镀掩模而言，由于在树脂掩模上形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部，因此，由于“扭曲”，在开口部的尺寸上容易产生变动。因此，即使在树脂掩模上形成有尺寸精确度极高的开口部的情况下，如果改善将包含该树脂掩模的蒸镀掩模在拉伸的状态下固定于框架时的“扭曲”问题，作为结果，不易形成高精细的蒸镀图案。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这种状况而创立的，其主要课题在于，提供在抑制了“扭曲”的状态下将蒸镀掩模固定于框架上而形成的带框架的蒸镀掩模的制造方法，并提供用于制造所述带框架的蒸镀掩模的拉伸装置，以及提供高精度地制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造装置及有机半导体元件的制造方法。用于解决课题的方案用于解决所述课题的本专利技术提供带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包含：准备将形成有狭缝的金属掩模和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层叠而构成的蒸镀掩模的准备工序；将在所述准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件保持，并将由该保持部件保持的蒸镀掩模向其外方拉伸的拉伸工序；在所述拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架上固定拉伸状态的所述蒸镀掩模的固定工序，在所述拉伸工序中，对于拉伸状态的所述蒸镀掩模，或拉伸所述蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。另外，在所述带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以在所述拉伸工序中还包含锁定工序，锁定进行了所述旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整的所述蒸镀掩模，以维持该调整后的状态，在所述固定工序中，在形成有贯通孔的框架上固定锁定的所述蒸镀掩模。另外，在所述带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以还包含：在所述框架上载置所述蒸镀掩模的第一载置工序；在所述第一载置工序后，从所述框架隔离所述蒸镀掩模的隔离工序；在所述隔离工序后，在所述框架上再次载置所述蒸镀掩模的第二载置工序，在所述第一载置工序前或所述第一载置工序与所述隔离工序之间，进行所述拉伸工序，在所述第二载置工序后进行所述固定工序。另外，在所述带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以在所述拉伸工序后还包含精密调整工序，在拉伸状态的所述蒸镀掩模的一面上重叠辅助部件，在所述蒸镀掩模的一面和所述辅助部件重叠的部分的至少一部分中，将所述辅助部件固定在所述蒸镀掩模上，且拉伸该辅助部件，由此，进行蒸镀掩模的精密调整，在所述精密调整工序后进行所述固定工序。另外，在所述带框架的蒸镀掩模的制造方法中，也可以在所述拉伸工序中，保持所述蒸镀掩模的一部分的所述保持部件是具备第一旋转机构、第二旋转机构及可进行直线移动的移动机构中的至少一个机构的保持部件，该第一旋转机构能以与所述蒸镀掩模的面交叉的第一旋转轴为轴进行旋转，该第二旋转机构能以不与所述蒸镀掩模的面交叉的第二旋转轴为轴进行旋转，在所述拉伸工序中，通过所述保持部件的所述第一旋转机构、第二旋转机构及移动机构的任一机构，进行所述蒸镀掩模的旋转调整、移动调整的任一项。另外，在所述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，在所述准备工序中被准备的蒸镀掩模也可以是将设有多个狭缝的金属掩模和为了构成多个画面而设有必要的开口部的树脂掩模层叠而构成，且各所述狭缝设于与至少一个画面整体重叠的位置的蒸镀掩模。另外，在所述的带框架的蒸镀掩模的制造方法中，在所述准备工序中被准备的蒸镀掩模也可以是将设有一个狭缝的金属掩模和设有多个开口部的树脂掩模层叠而构成，且将所述多个开口部的全部设于与所述一个狭缝重叠的位置的蒸镀掩模。另外，用于解决所述课题的本专利技术提供一种用于拉伸蒸镀掩模的拉伸装置，其特征在于，具有：保持部件，其保持所述蒸镀掩模的一部分；拉伸机构，其用于拉伸由所述保持部件保持的所述蒸镀掩模，所述保持部件具备第一旋转机构、第二旋转机构及可进行直线移动的移动机构中的至少一个机构，该第一旋转机构能以与所述蒸镀掩模的面交叉的第一旋转轴为轴进行旋转，该第二旋转机构能以不与所述蒸镀掩模的面交叉的第二旋转轴为轴进行旋转。另外，所述拉伸装置也可以具有用于驱动框架的驱动台，所述驱动台具备移动机构，该移动机构可在与所述拉伸装置的设置面交叉的方向上移动。另外，所述拉伸装置中的所述保持部件也可以具备可在与所述拉伸装置的设置面交叉的方向上移动的移动机构。另外，用于解决所述课题的本专利技术提供有机半导体元件的制造装置，其特征在于，组装有所述拉伸装置。另外，用于解决所述课题的本专利技术提供有机半导体元件的制造方法，其特征在于，包含使用将蒸镀掩模固定在框架上的带框架的蒸镀掩模在蒸镀对象物上形成蒸镀图案的工序，在形成所述蒸镀图案的工序中使用的所述带框架的蒸镀掩模是通过拉伸工序和固定工序得到的带框架的蒸镀掩模，该拉伸工序中，利用保持部件保持所述蒸镀掩模的一部分，将由所述保持部件保持的蒸镀掩模向其外方拉伸，对于拉伸状态的蒸镀掩模，或拉伸所述蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整，该固定工序本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包含：准备将形成有狭缝的金属掩模和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层叠而构成的蒸镀掩模的准备工序；将在所述准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件保持，并将由该保持部件保持的蒸镀掩模向其外方拉伸的拉伸工序；在所述拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架上固定拉伸状态的所述蒸镀掩模的固定工序，在所述拉伸工序中，保持所述蒸镀掩模的一部分的所述保持部件是具备第一旋转机构、第二旋转机构及移动机构中的至少一个机构的保持部件，该第一旋转机构能以与所述蒸镀掩模的面交叉的第一旋转轴为轴进行旋转，该第二旋转机构能以不与所述蒸镀掩模的面交叉的第二旋转轴为轴进行旋转，该移动机构沿着与拉伸所述蒸镀掩模的方向的轴不同方向的轴可进行直线移动，在所述拉伸工序中，对于拉伸状态的所述蒸镀掩模，或拉伸所述蒸镀掩模的同时，通过所述保持部件所具备的所述第一旋转机构、第二旋转机构及所述移动机构的任一机构，进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整，所述金属掩模的材料为铁镍合金。

【技术特征摘要】
2013.12.27 JP 2013-272965;2014.08.06 JP 2014-160131.一种带框架的蒸镀掩模的制造方法，其特征在于，包含：准备将形成有狭缝的金属掩模和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模层叠而构成的蒸镀掩模的准备工序；将在所述准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件保持，并将由该保持部件保持的蒸镀掩模向其外方拉伸的拉伸工序；在所述拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架上固定拉伸状态的所述蒸镀掩模的固定工序，...

【专利技术属性】
技术研发人员：小幡胜也，武田利彦，本间良幸，冈本英介，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP