光学检测设备及其光源寻边机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种应用于检测一同侧具有不同边界的表面的透光基板的光源寻边机构、一种光学检测设备及一种可供检测一同侧具有不同边界的表面的透光基板的光学检测设备，其中，光源寻边机构由一光源组、一遮蔽组及一调光组所组成，该光源组可产生射向该基板的一受测表面的一入射光线，该入射光线经过该基板后会产生一一次反射光线及至少一二次反射光线，该遮蔽组用以遮蔽该至少一二次反射光线，且让该照射受测表面的一次反射光线通过后由一设于外部的影像传感器接收，又该调光组用以让光源组对该基板的受测表面运动方向边界形成一反射光线，并让该照射受测表面运动方向边界的反射光线通过遮蔽组后由影像传感器接收，藉以确认该受测表面的边界。

【技术实现步骤摘要】
光学检测设备及其光源寻边机构
本技术涉及检测光罩保护膜的光学技术，具体而言涉及一种光学检测设备及其光源寻边机构，尤其能解决不同高度的检测表面的聚焦问题，供有效确认检测范围，并可提高检测的准确度。
技术介绍
近年来半导体制程中集成电路的线径越来越细，目前已发展至10纳米以下，因此制程中的任何污染物都可能直接影响到相对制程或产品的合格率。在半导体制程中，用于晶圆(Wafer)表面形成集成电路的所使用的光罩(Mask)是微影制程中不可或缺的元件的一，如图1所示的光罩100剖面图来看，在一些实施中该光罩100包含有一基板110、一框架120及一保护膜150【Pellicle】，其中基板110为透光材质，例如石英或玻璃，而基板110具有两平行间隔的表面111、112，其中一表面111中央具有一集成电路的图形层115【Pattern】，又该框架120设于该表面111、且包围该图形层115，一般框架120的材质是阳极处理过的铝合金，另该保护膜150固定于框架120上，且其表面151与基板110表面111相互平行间隔，该保护膜150用来避免图形层115遭受刮伤或污染，又该基板110中具图形层115的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于检测一同侧具有不同边界的表面的透光基板的光源寻边机构，其特征在于，包含：一光源组，其用于产生射向该基板的一受测表面的一入射光线，该入射光线经过该基板后产生一一次反射光线及至少一二次反射光线；一遮蔽组，其用以遮蔽该至少一二次反射光线，且让该一次反射光线通过后由一设于外部的影像传感器接收，以及一调光组，其用以让光源组对该基板的受测表面运动方向边界形成一反射光线，并让该照射受测表面运动方向边界的反射光线通过遮蔽组后由影像传感器接收；以通过受测表面的一次反射光线与边界的反射光射的不同亮度来确认该受测表面的边界。

【技术特征摘要】
1.一种应用于检测一同侧具有不同边界的表面的透光基板的光源寻边机构，其特征在于，包含：一光源组，其用于产生射向该基板的一受测表面的一入射光线，该入射光线经过该基板后产生一一次反射光线及至少一二次反射光线；一遮蔽组，其用以遮蔽该至少一二次反射光线，且让该一次反射光线通过后由一设于外部的影像传感器接收，以及一调光组，其用以让光源组对该基板的受测表面运动方向边界形成一反射光线，并让该照射受测表面运动方向边界的反射光线通过遮蔽组后由影像传感器接收；以通过受测表面的一次反射光线与边界的反射光射的不同亮度来确认该受测表面的边界。2.如权利要求1所述的光源寻边机构，其特征在于，该光源寻边机构进一步包含有一封闭式且不透光的箱体，该箱体内部形成有间隔不透光的一第一腔室及一第二腔室，又箱体的第一腔室与第二腔室底部呈开口状供组装前述的遮蔽组，其中该第一腔室供安装前述的光源组，箱体于第二腔室异于第一腔室的侧壁形成有一供一次反射光线通过的出光口。3.如权利要求1所述的光源寻边机构，其特征在于，该光源组具有一灯壳，且灯壳内设有至少一向下射出光线的发光元件。4.如权利要求3所述的光源寻边机构，其特征在于，该光源组的灯壳能够利用两个锁设于箱体第一腔室内壁面的安装架固定，该多个相对的安装架上具有一轴孔及一同轴心的长弧槽，供分别设有一凸轴及一锁固件锁设该灯壳两端，以通过凸轴与长弧槽而调整灯壳内发光元件光线射出的角度。5.如权利要求2所述的光源寻边机构，其特征在于，该遮蔽组设于箱体底部，该遮蔽组分别具有一道对应第一腔室、供入射光线通过的射出口及一道对应第二腔室、供一次反射光线通过的射入口，该遮蔽组于射出口两端中至少一端相对射入口的一侧分别具有一对应受测表面边界的寻边孔槽，供调光组的反射光线通过。6.如权利要求5所述的光源寻边机构，其特征在于，该遮蔽组由一第一遮光板及一第二遮光板所组成，该第一遮光板上具有射出口及寻边孔槽，该第二遮光板具有射入口，又该遮蔽组于箱体底面两侧分别锁设有一夹压板，供选择性限制第一遮...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈明生，
申请(专利权)人：特铨股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71