一种显示基板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种显示基板，包括沿第一方向分布的第一阻隔层和若干沿第二方向分布的第二阻隔层。相邻两第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元，且相邻两第二阻隔层之间的区域对应一个亚像素单元。第一阻隔层的高度大于第二阻隔层的高度。本申请实施例还公开了一种显示基板的制造方法和显示装置。采用溶液法制作膜层时，当第二阻隔层的高度小于溶液的液面高度时，溶液能够越过具有低高度的第二阻隔层在亚像素单元之间流通，使得每个亚像素单元内具有相同体积的溶液，每个亚像素单元内会形成均匀厚度的膜层，克服了厚度不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
在各种成膜技术中，溶液成膜技术越来越受到人们的重视。所谓溶液成膜过程，即把所需材料经过处理，例如分散成纳米级的微小颗粒，然后溶解在相应的溶剂中，再利用其他设备将该溶液淀积在基板表面，待溶剂蒸发后，即可在基板表面形成所需薄膜。喷墨打印是溶液成膜技术中较为重要的一种，并因其具有操作简单、成本低廉、工艺简单、及易于实现大尺寸等优点，而被广泛应用于制备高分子发光二极管(PLED)、液晶显示器(LCD)彩色滤光片、有机薄膜晶体管、金属电极以及三维隔离墙等。喷墨打印技术虽然有上述诸多优点，但在成膜过程中，也存在着很多迫切需要解决的问题。采用喷墨打印(IJP)技术制作PLED，为了获得均一的像素间成膜，那么就要不断地调节喷头各个喷嘴间的体积差异，但是调节的程度有限，即较难实现各个喷嘴喷出的体积完全一致，这样就会导致在干燥的过程中，像素间成膜存在差异，最终导致像素间发光不均。尤其是随着目前对显示器件的分辨率要求越来越高，这样高的分辨率对喷墨打印机喷头精度，以及像素内成膜均匀性提出了更苛刻的需求。综上所述，现有技术存在亚像素空间内成膜不均匀的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，以解决现有技术存在亚像素空间内成膜不均匀的问题。针对上述问题，在第一方面中，本申请实施例公开了一种显示基板的制造方法，包括：在衬底基板上沿第一方向制作若干第一阻隔层，相邻两所述第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元；在每相邻的两个所述第一阻隔层之间沿第二方向制作若干第二阻隔层，相邻两所述第二阻隔层之间的区域对应一个所述亚像素单元，所述第一阻隔层的高度大于所述第二阻隔层的高度。在第二方面中，本申请实施例公开了一种显示基板，包括：衬底基板、位于所述衬底基板上的若干沿第一方向分布的第一阻隔层和若干沿第二方向分布的第二阻隔层；相邻两所述第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元，所述第二阻隔层位于相邻两个所述第一阻隔层之间，且相邻两所述第二阻隔层之间的区域对应一个所述亚像素单元；其中：所述第一阻隔层的高度大于所述第二阻隔层的高度。在第三方面中，本申请实施例公开了一种显示装置，包括第二方面所述的显示基板。应用本专利技术实施例至少获得以下有益效果：本申请实施例通过在衬底基板上制作多个具有不同高度的第一阻隔层和第二阻隔层，相邻两第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元，相邻两第二阻隔层之间的区域对应一个亚像素单元。在制作膜层时，当第二阻隔层的高度小于溶液的液面高度时，溶液能够越过具有低高度的第二阻隔层在亚像素单元之间流通，使得每个亚像素单元内具有相同体积的溶液，每个亚像素单元内会形成均匀厚度的膜层，克服了亚像素单元内膜层厚度不均匀的问题，进而提高了各个亚像素单元内的发光均匀性。本专利技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1为根据本申请实施例显示基板的制造方法的流程图；图2为根据本申请实施例的一种显示基板的结构示意图；图3为根据本申请实施例的另一种显示基板的结构示意图。附图标记介绍如下：10-衬底基板；1-第一阻隔层；2-第二阻隔层；3-亚像素单元；4-每列亚像素单元中的溶液。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能解释为对本专利技术的限制。本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本专利技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”到另一元件时，它可以直接连接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”可以包括无线连接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。本
技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本专利技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。申请人发现，采用喷墨打印技术在亚像素内打印墨水的情况中，各个亚像素单元是分开的。为了获得均一的像素间成膜，需要不断地调节喷头各个喷嘴间的体积差异，但是调节的程度有限，即较难实现各个喷嘴喷出的体积完全一致，这样就会导致在干燥的过程中，各个亚像素间成膜存在差异，最终导致亚像素发光不均。因此，申请人提供了一种膜层的成膜方法，以解决现有技术存在亚像素空间内成膜不均匀的问题。图1示出了根据本申请实施例显示基板的制造方法流程图。在第一方面中，该方法，包括：S101：在衬底基板上沿第一方向制作若干第一阻隔层，相邻两第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元。其中，上述S101中的第一方向为沿衬底基板的正视方向的行方向，且一组亚像素单元为沿衬底基板的正视方向上的一列亚像素单元。即，在本专利技术实施例中，在衬底基板上沿行方向制作若干第一阻隔层，相邻两第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一列亚像素单元。S102：在每相邻的两个第一阻隔层之间沿第二方向制作若干第二阻隔层，相邻两第二阻隔层之间的区域对应一个亚像素单元，第一阻隔层的高度大于第二阻隔层的高度。其中，上述S102中的第二方向为沿衬底基板的正视方向的列方向，在本专利技术实施例中，在每相邻的两个第一阻隔层之间沿列方向制作若干第二阻隔层，相邻两第二阻隔层之间的区域对应一个亚像素单元。具体地，本申请实施例在上述S102后，显示基板的制造方法还包括：采用溶液法在制作有第一阻隔层和第二阻隔层的衬底基板上制作膜层，溶液的液面高度位于第一阻隔层的高度和第二阻隔层的高度之间。本申请实施例通过在衬底基板上制作多个具有不同高度的第一阻隔层和第二阻隔层，相邻两第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元，相邻两第二阻隔层之间的区域对应一个亚像素单元。在制作膜层时，当第二阻隔层的高度小于溶液的液面高度时，溶液能够越过具有低高度的第二阻隔层在亚像素单元之间流通，使得每个亚像素单元内具有相同体积的溶液，每个亚像素单元内会形成均匀厚度的膜层，克服了亚像素单元内膜层厚度不均匀的问题，进而提高了各个亚像素单元内的发光均匀性。进一步地，为了使得各个亚像素单元中的成膜在后续干燥后是分开的，避免不同亚像素单元之间的串扰，且避免溶液的残留，可以在每相邻的两个第一阻隔层之间沿列方向制作若干第二阻隔层之后，且在采用溶液法在制作有第一阻隔层和第二阻隔层的衬底基板上制作膜层之前，还包括：在第二阻隔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板、位于所述衬底基板上的若干沿第一方向分布的第一阻隔层和若干沿第二方向分布的第二阻隔层；相邻两所述第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元，所述第二阻隔层位于相邻两个所述第一阻隔层之间，且相邻两所述第二阻隔层之间的区域对应一个所述亚像素单元；其中：所述第一阻隔层的高度大于所述第二阻隔层的高度。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板、位于所述衬底基板上的若干沿第一方向分布的第一阻隔层和若干沿第二方向分布的第二阻隔层；相邻两所述第一阻隔层之间的区域对应显示基板中的一组亚像素单元，所述第二阻隔层位于相邻两个所述第一阻隔层之间，且相邻两所述第二阻隔层之间的区域对应一个所述亚像素单元；其中：所述第一阻隔层的高度大于所述第二阻隔层的高度。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二阻隔层的高度小于采用溶液法制作膜层时的溶液的液面高度。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二阻隔层的表面具有疏离所述溶液的性质。4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一阻隔层的表面具有疏离所述溶液的性质。5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一阻隔层的材料包括有机材料，所述第二阻隔层的材料包括无机材料。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所有的所述第一阻隔层的高度均相等，所述第一阻隔层的高度为1微米-3微米。7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所有的所述第二阻隔层的高度均相等，所述第二阻隔层的高度为100纳米-500纳米。8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所有的所述第一阻隔层沿第一方向的宽度均相等，该宽度为10微米-30微米，且所述第一阻隔层的形状为条形。9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所有的所述第二阻隔层沿第二方向的宽度均相等，该宽度为5微米-20微米，且所述第二阻挡层的形状为条形。10....

【专利技术属性】
技术研发人员：崔颖，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11