【技术实现步骤摘要】
一种多功能的净化曝光装置
本专利技术属于微电子工艺设备
，尤其涉及一种多功能的净化曝光装置。
技术介绍
光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。光刻过程主要包括涂覆光刻胶、烘干、曝光、显影、刻蚀等。这些工艺都需要在无尘室中进行。曝光和显影步骤中会有挥发性物质产生，可能对操作人员造成危害。在工业生产、科学研究中，很多地方需要用到无尘工作的环境。净化工作台可以为这些目的提供有效的工作环境，提高生产和科研效率。于是专利技术人设想，如果能将微电子工业中的曝光和显影部分放置于净化工作台内，那将杜绝化学曝光、显影过程中挥发气体对人体的危害，此外，借助净化工作台，曝光和显影则可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了科研、教学的硬件门槛。中国专利公开号为CN105988296B，专利技术创造名称为净化曝光装置，包括净化工作台内的曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，所述的净化工作台包括工作腔体、进气系统、排气系...
【技术保护点】
1.一种多功能的净化曝光装置，其特征在于，该多功能的净化曝光装置包括主支撑衬座(1)，主支撑杆(2)，辅支撑衬座(3)，辅支撑杆(4)，净化曝光台(5)，选择开关(6)，L型卡座(7)，导料斗(8)，滤杂不锈钢网(9)，净化曝光箱(10)，置放门(11)，曝光处理机(12)，废气引出处理排放机(13)，消毒净化处理机(14)和废杂可收集清理桶(15)，所述的主支撑衬座(1)横向螺栓安装在主支撑杆(2)的下端；所述的辅支撑衬座(3)横向螺栓安装在辅支撑杆(4)的下端；所述的主支撑杆(2)分别纵向上端螺栓安装在净化曝光台(5)的下部左侧前后两端；所述的辅支撑杆(4)分别纵向上端...
【技术特征摘要】
1.一种多功能的净化曝光装置，其特征在于，该多功能的净化曝光装置包括主支撑衬座(1)，主支撑杆(2)，辅支撑衬座(3)，辅支撑杆(4)，净化曝光台(5)，选择开关(6)，L型卡座(7)，导料斗(8)，滤杂不锈钢网(9)，净化曝光箱(10)，置放门(11)，曝光处理机(12)，废气引出处理排放机(13)，消毒净化处理机(14)和废杂可收集清理桶(15)，所述的主支撑衬座(1)横向螺栓安装在主支撑杆(2)的下端；所述的辅支撑衬座(3)横向螺栓安装在辅支撑杆(4)的下端；所述的主支撑杆(2)分别纵向上端螺栓安装在净化曝光台(5)的下部左侧前后两端；所述的辅支撑杆(4)分别纵向上端螺栓安装在净化曝光台(5)的下部右侧前后两端；所述的选择开关(6)纵向螺钉连接在左侧前部设置的主支撑杆(2)的左上侧；所述的L型卡座(7)分别螺栓安装在净化曝光台(5)的下部左右两侧中间位置；所述的导料斗(8)镶嵌在净化曝光台(5)内部下侧中间位置；所述的滤杂不锈钢网(9)镶嵌在净化曝光台(5)的内部上侧中间位置；所述的净化曝光箱(10)纵向下端螺栓安装在净化曝光台(5)的上表面中间位置；所述的置放门(11)纵向合页连接在净化曝光箱(10)的右侧中间位置进口处；所述的曝光处理机(12)纵向螺栓安装在净化曝光箱(10)的内部左壁中间位置；所述的废气引出处理排放机(13)纵向安装在净化曝光箱(10)的内部顶端中间位置；所述的消毒净化处理机(14)安装在净化曝光箱(10)的内部上侧中间位置；所述的废杂可收集清理桶(15)纵向安装在导料斗(8)的下端；所述的废气引出处理排放机(13)包括废气引出电机(131)，废气处理导出罩(132)，风叶(133)，排出气体滤网(134)，引出管(135)，废气处理芯(136)和滤杂网(137)，所述的废气引出电机(131)的输出轴贯穿废气处理导出罩(132)的内部上侧中间位置并键连接风叶(133)的内部中间位置；所述的排出气体滤网(134)分别镶嵌在废气处理导出罩(132)的内部左右两侧中间位置；所述的引出管(135)纵向上端螺纹连接在废气处理导出罩(132)的下端；所述的废气处理芯(136)横向螺钉连接在废气处理导出罩(132)的内部上侧中间位置；所述的滤杂网(137)螺钉连接在废气处理导出罩(132)的内部下端。2.如权利要求1所述的多功能的净化曝光装置，其特征在于，所述的消毒净化处理机(14)包括主安装座(141)，支撑座(142)，辅安装座(143)，灯座(144)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：庞超群，陶薇，
申请(专利权)人：张家港奇点光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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