【技术实现步骤摘要】
一种自由结构光点阵产生装置、方法及系统
本专利技术涉及结构光深度提取领域以及光刻机自由照明领域,特别涉及一种自由结构光点阵产生装置、方法及系统。
技术介绍
传统的自由照明模式产生方法往往会用到复杂的折反射透镜,该方法的器件不仅体积大,重量大,而且只能产生简单的图案,对于使用了自由曲面的器件加工复杂,工艺要求高。例如在结构光深度提取领域,先专利:Projectorsofstructuredlight.UnitedStatespatentUSUS20130038881A1.2013Feb14。它使用了两片衍射光学元件(DOE),其中一片为8台阶DOE加工较为困难,成本较高,封装工艺也较为复杂。一种可实现像素化光瞳的极紫外光刻自由曲面照明系统(105892234A)。所述的一种反射式用于光刻自由照明领域的照明系统,该方法使用了三个反射器件,需要较大体积,使用了两个复眼自由曲面反射镜,其加工极为复杂。其目标像素的光从一个反射器件到另一个反射器件是最终到目标像素位置,都是一一对应的关系,复眼反射镜个数与目标像素个数相同,因此像素个数不高,产生的图案自由度不高。一种基于微反射 ...
【技术保护点】
1.一种自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述自由结构光点阵产生装置包括光源、阵列单元以及目标图案成像单元;所述阵列单元包括透射式元件单元和反射式元件单元;当所述阵列单元为所述透射式元件单元时,所述光源发出的光透过所述透射式元件单元后在所述目标图案成像单元上成像;当所述阵列单元为所述反射式元件单元时,所述光源发出的光经过所述反射式元件单元反射后在所述目标图案成像单元上成像。
【技术特征摘要】
1.一种自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述自由结构光点阵产生装置包括光源、阵列单元以及目标图案成像单元;所述阵列单元包括透射式元件单元和反射式元件单元;当所述阵列单元为所述透射式元件单元时,所述光源发出的光透过所述透射式元件单元后在所述目标图案成像单元上成像;当所述阵列单元为所述反射式元件单元时,所述光源发出的光经过所述反射式元件单元反射后在所述目标图案成像单元上成像。2.根据权利要求1所述的自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述光源为VCSEL、LD或者LED。3.根据权利要求1所述的自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述光源的波段为紫外光波段、可见光波段或者红外光波段。4.根据权利要求1所述的自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述阵列单元的厚度为0.5-2mm。5.根据权利要求1所述的自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述光源到所述阵列单元的距离为1-5mm。6.根据权利要求1所述的自由结构光点阵产生装置,其特征在于,所述透射式元件单元由棱镜或者透射光栅组成;所述反射式元件单元由微反射镜或者反射式光栅组成。7.一种自由结构光点阵产生方法,其特征在于,所述自由结构光点阵产生方法包括:建立虚拟的自由结构光点阵产生装置;所述虚拟的自由结构光点阵产生装置包括光源、阵列单元以及目标图案成像单元;导入需要的目标面光场图案,并设置光源参数;所述光源参数包括波段、发散角、以及光源到阵列单元的距离;初始化所述阵列单元;运行初始化后的所述虚拟的自由结构光点阵产生装置,得到目标面光场分布,并且计算所述目标面光场分布与所述目标面光场图案的误差;判断所述误差是否小于预设的期望误差,得到第一判断结果;若所述第一判断结果表示所述误差小于所述期望误差,则根据获取所述目标面光场分布时对应的阵列单元参数和光源参数,构造自由结构光点阵产生装置,获取...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄浩,宋强,翟婷婷,苏鹏华,马国斌,
申请(专利权)人:深圳珑璟光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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