【技术实现步骤摘要】
一种多版并列光刻的排版系统
本专利技术属于光刻领域,具体涉及一种多版并列光刻的排版系统。
技术介绍
光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为:首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面,引起曝光区域的光刻胶发生化学反应;再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶,后者称负性光刻胶),使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上;最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。传统的光刻技术只能应对大批量生产,个性化生产的成本是巨大的。
技术实现思路
针对现有技术中存在的问题,本专利技术提供一种多版并列光刻的排版系统,本专利技术能够通过一组光源以及一组排版装置实现多版并列光刻,高效率,且排版变化影响小,足以满足个性化生产。为实现上述目的,本专利技术采用以下技术方案:一种多版并列光刻的排版系统,该系统包括:阵列光源,所述阵列光源设置在竖直板上;排版装置,所述排版装置包括排架、安装在所属排架上的与所述阵列光源一一对应的反射单元,所述反射单元中设置有反射镜、开闭装置,所述排架上连接有滑轨,所述滑轨 ...
【技术保护点】
1.一种多版并列光刻的排版系统,其特征在于,该系统包括:阵列光源(100),所述阵列光源(100)设置在竖直板(200)上;排版装置(300),所述排版装置(300)包括排架(310)、安装在所属排架(310)上的与所述阵列光源(100)一一对应的反射单元(320),所述反射单元(320)中设置有反射镜(1)、开闭装置,所述排架(310)上连接有滑轨(330),所述滑轨(330)中设置有用来滑动所述排架(310)的驱动机构,所述反射单元(320)在竖直高度上错开排放,使得每个所述反射单元(320)能够得到对应所述阵列光源(100)的照射;若干光学图像缩小装置(400),所述 ...
【技术特征摘要】
1.一种多版并列光刻的排版系统,其特征在于,该系统包括:阵列光源(100),所述阵列光源(100)设置在竖直板(200)上;排版装置(300),所述排版装置(300)包括排架(310)、安装在所属排架(310)上的与所述阵列光源(100)一一对应的反射单元(320),所述反射单元(320)中设置有反射镜(1)、开闭装置,所述排架(310)上连接有滑轨(330),所述滑轨(330)中设置有用来滑动所述排架(310)的驱动机构,所述反射单元(320)在竖直高度上错开排放,使得每个所述反射单元(320)能够得到对应所述阵列光源(100)的照射;若干光学图像缩小装置(400),所述光学图像缩小装置(400)排放在所述滑轨(330)的移动方向的下方,所述光学图像缩小装置(400)包括接收端、输出端,所述接收端用来接收所述排版装置(300)的反射光;若干待印刷板(500),所述待印刷板(500)与所述光学图像缩小装置(400)一一对应,所述待印刷板(500)与所述输出端相对设置,所述待印刷板(500)的上表面设置有能被所述阵列光源(100)中光线分解的胶剂;以及控制器,所述控制器与所述驱动机构、所述开闭装置电连接;其中,所述阵列光源(100)中的光线经过所述反射镜(1)照射向所述接收端形成光路径,所述开闭装置用来切断或者连通所述光路径。2.根据权利要求1所述的多版并列光刻的排版系统,其特征在于,所述系统还包括机械臂,用来取送所述待印刷板(500)。3.根据权利要求1所述的多版并列光刻的排版系统,其特征在于,所述系统还包括定位装置,用来定位所述待印刷板(500)。4.根据权利要求3所述的多版并列光刻的排版系统,其特征在于,所述定位装置上设有感应器,所述感应器与所述控制器电连接。5.根据权利要求1所述的多版...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈莹,常敏,孟庆涛,邢国军,
申请(专利权)人:上海理工大学,
类型:发明
国别省市:上海,31
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