【技术实现步骤摘要】
一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法
本专利技术涉及一种提高精度的方法，尤其涉及一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法。
技术介绍
在半导体、PCB等相关行业的制程中，直写曝光机负责的图形转移制程是最为关键的步骤之一。直写曝光设备的曝光精度以及涨缩测量精度，对最终的成像质量以及成像精度有着决定性的影响。直写曝光设备一般都含有用于曝光成像的光学镜头组件，以及用于抓取Mark点的CCD组件(相机)组件，两套组件搭建在同一个可实现X、Y、Z三个方向移动的运动平台上；然直写曝光设备所有的精度补偿都建立在一个坐标系内，这样难以同时兼顾保证光学镜头组件(曝光)和CCD组件(涨缩测量)的精度。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法，该方法可以同时兼顾曝光精度和涨缩测量精度，提高曝光的质量。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是：一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法，该方法使用的曝光机的镜头组件和CCD组件分别搭建在实现X、Y、Z三个方向移动的独立运动平台上；其包括以下步骤：1)将正反...
【技术保护点】
1.一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法，该方法使用的曝光机的镜头组件和CCD组件分别搭建在实现X、Y、Z三个方向移动的独立运动平台上；其包括以下步骤：1)将正反表面压有感光材料的基板放置在直写曝光设备的吸盘上，打开设备真空，将基板固定；2)直接在基板上不对位曝光形成N列、M行的Mark点，其中相邻两个Mark点X、Y方向的间隔分别为i和j；3)取下基板，将基板放置于二次元测量设备测量，提取所有Mark点的坐标；4)通过Mark点的X方向的间距计算出每行各Mark点与每行最接近坐标原点的第一个Mark点之间的理论距离DX，通过Mark点的坐标计算出每行各Mark...
【技术特征摘要】
1.一种提高直写曝光机曝光精度以及涨缩测量精度的方法，该方法使用的曝光机的镜头组件和CCD组件分别搭建在实现X、Y、Z三个方向移动的独立运动平台上；其包括以下步骤：1)将正反表面压有感光材料的基板放置在直写曝光设备的吸盘上，打开设备真空，将基板固定；2)直接在基板上不对位曝光形成N列、M行的Mark点，其中相邻两个Mark点X、Y方向的间隔分别为i和j；3)取下基板，将基板放置于二次元测量设备测量，提取所有Mark点的坐标；4)通过Mark点的X方向的间距计算出每行各Mark点与每行最接近坐标原点的第一个Mark点之间的理论距离DX，通过Mark点的坐标计算出每行各Mark点与每行第一个Mark点之间的实际距离dX，实际距离与理论距离的差值即为X方向的精度补偿值ΔdX，该ΔdX＝|dX-DX|；5)通过Mark点的Y方向的间距计算出每列各Mark点与每列最接近坐标原点的第一个Mark点之间的理论距离DY，通过Mark点的坐标计算出每行各Mark点与每行第一个Mark点之间的实际距离dY，实际距离与理论距离的差值即为Y方向的精度补偿值ΔdY，该ΔdY＝|dY-DY|；6)按照上述步骤4)和步骤5)的方法，计算出每一行和每一列的精度补偿数据，建立曝光时所用的曝光精度补偿表；7)将基板翻面，重复上述步骤1)直接曝光再次在基板上形成N列、M行的Mark点，其中相邻两个Mark点X、Y方向的间隔分别为i和j，在此次曝光过程中，调用上述步骤6)所建立的曝光精度补偿表；8)重复步骤4)至步骤6)验证曝光精度补偿效果，如果未达到理想误差范围，可更换基板后进行再次补偿，每次验证曝光精度补偿效果时都调用前次确定的曝光精度补偿表，直到得到符合误差范围内的曝光精度为止，更新得到最终曝光精度补偿表；9)调用步骤8中最终曝光精度补偿表并重复步骤1)和步骤2，在基板表面形成了经过精度校正后的Mark点；10)通过曝光机的CCD组件在CCD组件自身移动坐标系内提取步骤9)中每个Mark点的圆心坐标；11)以步骤10)中提取的坐标为依据，重复步骤步骤4)至步骤6)，计算出每一行和每一列的涨缩精度补偿数据，建立涨缩测量时所用的涨缩精度补偿表；12)验证涨缩精度补偿的...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈国军，吴景舟，马迪，
申请(专利权)人：江苏友迪激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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