The utility model discloses an equipment for epitaxy growth, which is used for MOCVD epitaxy growth. The equipment includes a graphite disk for carrying wafers, an intake pipeline, an outlet pipeline and a reaction chamber between the intake pipeline and the outlet pipeline. During epitaxy growth, the intake pipeline provides reaction gas, the outlet pipeline eliminates tail gas, and the graphite disk is located in the reaction chamber for carrying epitaxy. Growing wafer, the outlet pipeline has one or more butterfly valves which can adjust the pressure of the reaction chamber, thus solving the technical problems that ordinary valves can not accurately control.
【技术实现步骤摘要】
一种外延生长用的设备
本技术属于半导体制造领域,具体涉及一种外延生长用的设备。
技术介绍
参看图1,目前高温真空烤炉在对MOCVD石墨盘进行处理时的进气方式大多是直接由单根石墨管直接通入,再由侧面管路抽气,通过压力开关的上下限控制进气阀件开关来控制高温真空烤炉的压力。传统的气阀件开关难以精确控制压力变化。现有的进气、抽气方式、以及控压方式不利于Cl2、HCl等比重较大的、粘滞性气体的扩散,且在高温真空炉处理过程中,为了增加处理量,石墨盘为垂直放置,从而使得Cl2、HCl等气体不能均匀分布在石墨盘表面,不能充分与石墨盘表面的GaN、AlN等氮化物充分反应就被抽走。导致MOCVD生长效果不佳。原有设计,N2、H2等小比重的气体,扩散性较好,可充满整个高温真空炉腔体内,但是,对于Cl2、HCl等大比重、粘滞性气体来说,不能在短时间内充分扩散到腔体内,且,通入的Cl2、HCl进气时气体压力较高(45psi左右),可能为液态,单独进气口不能充分汽化,而导致液态的Cl2、HCl直接喷射在石墨盘上,造成因浓度过高,石墨盘表面的碳化硅镀层被腐蚀,反而降低石墨盘使用寿命。
技术实现思路
本技术就是针对
技术介绍
的问题提出一种可行的解决方案,本技术提供了一种外延生长用的设备,用于MOCVD外延生长,设备包括用于承载晶片的石墨盘、进气管路、出气管路以及位于进气管路和出气管路之间的反应腔室,外延生长时,进气管路提供反应气体,出气管路排除尾气,石墨盘位于反应腔室内,用于承载外延生长晶片出气管路具有一个或者多个可调控反应腔室压力的蝶阀,蝶阀的关闭件(阀瓣或蝶板)为圆盘,围绕阀轴旋转来达到开启与 ...
【技术保护点】
1.一种外延生长用的设备,用于MOCVD外延生长,设备包括用于承载晶片的石墨盘、进气管路、出气管路以及位于进气管路和出气管路之间的反应腔室,外延生长时,进气管路提供反应气体,出气管路排除尾气,石墨盘位于反应腔室内,用于承载外延生长晶片,其特征在于,出气管路具有一个或者多个可调控反应腔室压力的蝶阀。
【技术特征摘要】
1.一种外延生长用的设备,用于MOCVD外延生长,设备包括用于承载晶片的石墨盘、进气管路、出气管路以及位于进气管路和出气管路之间的反应腔室,外延生长时,进气管路提供反应气体,出气管路排除尾气,石墨盘位于反应腔室内,用于承载外延生长晶片,其特征在于,出气管路具有一个或者多个可调控反应腔室压力的蝶阀。2.根据权利要求1所述的一种外延生长用的设备,其特征在于,进气管路与出气管路位于石墨盘的左右或者上下两侧。3.根据权利要求2所述的一种外延生长用的设备,其特征在于,进气管路与出气管路相对石墨盘对称设置。4.根据权利要求1到3中任意一项所述的一种外延生长用的设备,其特征在于,进气管路与石墨盘之间设置有匀气装置。5.根据权利要求4所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈奉顺,黄文嘉,彭伟伦,洪伟,张中英,李明照,张瑞龙,
申请(专利权)人:厦门三安光电有限公司,
类型:新型
国别省市:福建,35
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