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本实用新型公开了一种外延生长用的设备，用于MOCVD外延生长，设备包括用于承载晶片的石墨盘、进气管路、出气管路以及位于进气管路和出气管路之间的反应腔室，外延生长时，进气管路提供反应气体，出气管路排除尾气，石墨盘位于反应腔室内，用于承载外延生...
该专利属于厦门三安光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门三安光电有限公司授权不得商用。

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