一种实时监测机台稳定性的装置、方法及光刻机机台制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种实时监测机台稳定性的装置、方法及光刻机机台，至少包括：依次通过所述扩束镜和所述楔形光学平板，将从所述晶圆平台射出的光束，转变为干涉图案，所述干涉图案由所述图像接收器所接收，通过判断所述干涉图案是否倾斜来判断所述晶圆平台是否在所述物镜的焦距位置，并且可以通过测量倾斜的角度来确定晶圆平台的偏移量是否在允许范围内。通过本发明专利技术的装置和监测方法可以实时监测机台的曝光光线焦点是否聚焦在晶圆平台上，以使晶圆光阻达到最佳的曝光条件，保证机台的稳定运行，并且监测周期短，机台的利用率高。

【技术实现步骤摘要】
一种实时监测机台稳定性的装置、方法及光刻机机台
本专利技术涉及半导体制造
，特别是涉及一种实时监测机台稳定性的装置、方法及光刻机机台。
技术介绍
半导体技术继续沿着摩尔定律发展，临界尺寸越来越小，芯片的集成度也越来越高，这对半导体制造工艺提出了越来越严格的要求，因此必须在工艺过程中尽可能地减小每一步骤的误差，降低因误差造成的器件失效。在半导体制造过程中，光刻工艺作为每一个技术代的核心技术而发展。光刻是将光掩模(mask)上图形形式的电路结构通过对准、曝光、显影等步骤转印到涂有光刻胶的硅片表面的工艺过程，光刻工艺会在硅片表面形成一层光刻胶图形，其后续工艺是刻蚀或离子注入。标准的CMOS工艺中，需要数十次的光刻步骤，而影响光刻工艺误差的因素当中，机台稳定性一直是影响生产效率的重要因素，如何能够在第一时间得到机台参数变化的准确信息，直接关系到产品的良率及生产效率。我们常用的定义光刻机机台稳定性的一项参数为焦点(focus)，焦点代表的是机台的聚光位置是否在晶圆所在的平面(或称晶圆平台，stage)上，一旦机台的焦点位置发生改变，由于光汇聚位置改变，会导致光阻(photoresist)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种实时监测机台稳定性的装置，所述机台至少包括晶圆平台和位于所述晶圆平台上方的物镜，其特征在于，所述装置至少包括扩束镜、楔形光学平板和图像接收器；所述扩束镜用于布置在所述晶圆平台的下方，并用于接收从所述晶圆平台射出的光束，且所述扩束镜与所述晶圆平台之间的距离为所述物镜的焦距；所述楔形光学平板布置在所述扩束镜的下方，用于反射从所述扩束镜射出的光束，形成两组相干光波；所述图像接收器布置在所述两组相干光波的出射路径上，用于接收并显示所述两组相干光波所形成的干涉图案。

【技术特征摘要】
1.一种实时监测机台稳定性的装置，所述机台至少包括晶圆平台和位于所述晶圆平台上方的物镜，其特征在于，所述装置至少包括扩束镜、楔形光学平板和图像接收器；所述扩束镜用于布置在所述晶圆平台的下方，并用于接收从所述晶圆平台射出的光束，且所述扩束镜与所述晶圆平台之间的距离为所述物镜的焦距；所述楔形光学平板布置在所述扩束镜的下方，用于反射从所述扩束镜射出的光束，形成两组相干光波；所述图像接收器布置在所述两组相干光波的出射路径上，用于接收并显示所述两组相干光波所形成的干涉图案。2.根据权利要求1所述的实时监测机台稳定性的装置，其特征在于：所述图像接收器至少包括图像传感器和与所述图像传感器相连的显示器。3.根据权利要求1所述的实时监测机台稳定性的装置，其特征在于：所述楔形光学平板包括上、下两个全反射表面，且所述上、下两个全反射表面具有角度差。4.权利要求1至3任一项所述的实时监测机台稳定性的装置，其特征在于：所述机台为光刻机机台。5.一种利用权利要求1～4任一项所述装置进行实时监测机台稳定性的方法，其特征在于：所述方法至少包括：依次通过所述扩束镜和所述楔形光学平板，将从所述晶圆平台射出的光束，转变为干涉图案，所述干涉图案由所述图像接收器所接收，通过判断所述干涉图案是否倾斜来判断所述晶圆平台是否在所述物镜的焦距位置。6.根据权利要求5所述的实时监测机台稳定性的方法，其特征在于：当所述晶圆平...

【专利技术属性】
技术研发人员：周榆涵，朱涛，胡诗一，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31