一种曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种曝光装置。该曝光装置包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；进料检测单元用于对基底进行检测，并判定基底为合格基底或待处理基底；传输单元用于将合格基底传输至曝光单元；曝光单元用于对合格基底进行曝光。该技术方案可仅允许检测合格的基底传输至曝光单元进行曝光，减少了对检测不合格的基底传输至曝光单元进行曝光时带来的损耗，从而减少了曝光工艺的成本，同时提高了曝光产率，从而提高了产能。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光装置
本技术实施例涉及显示面板制造
，尤其涉及一种曝光装置。
技术介绍
光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将图案形成单元上的图形转移到基底上的技术。其主要过程为：首先光线通过图案形成单元照射到形成有一层光刻胶层的基底表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶(前者称正性光刻胶，后者称负性光刻胶)，使图案形成单元上的图形被复制到光刻胶层上；最后利用刻蚀技术将图形转移到基底上。自动化光刻制程中，存在不合格的基底在生产线上流转的情况，导致产能较低，且基底的曝光成本整体较高。
技术实现思路
本技术提供一种曝光装置，以提高产能，降低曝光成本。第一方面，本技术实施例提出一种曝光装置，该曝光装置包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；所述进料检测单元用于对基底进行检测，并判定所述基底为合格基底或待处理基底；所述传输单元用于将所述合格基底传输至所述曝光单元；所述曝光单元用于对所述合格基底进行曝光。进一步地，所述进料检测单元包括温度检测子单元、厚度检测子单元和气体挥发物检测子单元中的至少一个，所述温度检测子单元用于检测所述基底的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；所述进料检测单元用于对基底进行检测，并判定所述基底为合格基底或待处理基底；所述传输单元用于将所述合格基底传输至所述曝光单元；所述曝光单元用于对所述合格基底进行曝光。

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；所述进料检测单元用于对基底进行检测，并判定所述基底为合格基底或待处理基底；所述传输单元用于将所述合格基底传输至所述曝光单元；所述曝光单元用于对所述合格基底进行曝光。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述进料检测单元包括温度检测子单元、厚度检测子单元和气体挥发物检测子单元中的至少一个，所述温度检测子单元用于检测所述基底的温度，当所述基底的温度不在预设温度阈值范围内时，判定所述基底为所述待处理基底；所述厚度检测子单元用于检测所述基底的厚度，当所述基底的厚度不在预设厚度阈值范围内时，判定所述基底为所述待处理基底；所述气体挥发物检测子单元用于检测所述基底的气体挥发物，当所述基底的气体挥发物不在预设气体挥发物阈值范围内时，判定所述基底为所述待处理基底。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述温度检测子单元包括温度测量传感器；所述厚度检测子单元包括椭偏仪或轮廓仪；所述气体挥发物检测子单元包括气体挥发物传感器。4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述进料检测单元还包括预对准子单元；所述预对准子单元用于对所述基底进行预对准。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述预对准子单元包括基底旋转部件和边缘传感器；所述基底旋转部件用于放置基底，并调节基底的旋转角度；所述边缘传感器位于所述基底远离所述基底旋转部件的一侧，用于检测基底的位置。6.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述进料检测单元还包括第一污染物检测子单元；所述第一污染物检测子单元用于检测预对准后的所述基底的第一污染物含量，当所述基底的第一污染物含量不在预设第一污染物含量阈值范围内时，判定所述基底为所述待处理基底。7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述第一污染物检测子单元包括光学成像部件；所述第一污染物含量包括第一污染物的数量和成像面积。8.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈勇辉，张俊，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31