光刻胶涂布装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种光刻胶涂布装置，包括晶圆承载台及光刻胶供给系统；光刻胶供给系统位于晶圆承载台的一侧，包括光刻胶供应管路、光刻胶喷嘴、流量调节阀、第一流量检测器及第二流量检测器；光刻胶供应管路一端与一光刻胶供应源相连接；光刻胶喷嘴与光刻胶供应管路远离光刻胶供应源的一端相连接；流量调节阀位于光刻胶供应管路上；第一流量检测器位于流量调节阀和光刻胶喷嘴之间的光刻胶供应管路上；第二流量检测器位于光刻胶喷嘴和第一流量检测器之间的光刻胶供应管路上，第二流量检测器和第一流量检测器之间具有间距。本实用新型专利技术的光刻胶涂布装置，能够及时发现因光刻胶供应管路破裂导致的光刻胶涂布量减少引发的工艺不良，提高生产良率。

【技术实现步骤摘要】
光刻胶涂布装置
本技术涉及一种半导体制造设备，特别是涉及一种光刻胶涂布装置。
技术介绍
光刻工艺是半导体芯片制造中非常重要的一道工艺，它是借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基板上，一般要经历基板表面清洗烘干、涂底、光刻胶涂布、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。这其中，光刻胶涂布又是重中之重，只有在基板上均匀涂布预定量的光刻胶，才能为后续的图形转移打下良好的基础。现有的光刻胶涂布设备中，为保证每次涂布的光刻胶的量达到预定要求，通常会在光刻胶供应管路紧靠调节阀的一侧设置有光刻胶流量检测器，以对从光刻胶源瓶中供应的光刻胶流量进行检测。流量检测器和光刻胶喷嘴之间通过光刻胶供应管路相连接，两者之间具有一定的距离，而光刻胶涂布的过程通常是由机械手臂抓取光刻胶喷嘴送到预定的涂布位置，完成涂布后再将喷嘴放回原位置，因而连接于流量检测器和光刻胶喷嘴之间的光刻胶供应管路经常处于被拉伸或弯折的状态。在使用一段时间后，光刻胶供应管路容易破裂，导致光刻胶泄露及最终喷涂的光刻胶量减少，造成晶圆涂胶不正常。现有的流量检测器检测的仅是光刻胶源瓶供应的光刻胶量，而无法对最终实际喷涂的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶涂布装置，其特征在于，包括：晶圆承载台；光刻胶供给系统，位于所述晶圆承载台的一侧，包括光刻胶供应管路、光刻胶喷嘴、流量调节阀、第一流量检测器及第二流量检测器；所述光刻胶供应管路一端与一光刻胶供应源相连接；所述光刻胶喷嘴与所述光刻胶供应管路远离所述光刻胶供应源的一端相连接；所述流量调节阀位于所述光刻胶供应管路上；所述第一流量检测器位于所述流量调节阀和所述光刻胶喷嘴之间的所述光刻胶供应管路上；所述第二流量检测器位于所述光刻胶喷嘴和所述第一流量检测器之间的所述光刻胶供应管路上，所述第二流量检测器和所述第一流量检测器之间具有间距。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶涂布装置，其特征在于，包括：晶圆承载台；光刻胶供给系统，位于所述晶圆承载台的一侧，包括光刻胶供应管路、光刻胶喷嘴、流量调节阀、第一流量检测器及第二流量检测器；所述光刻胶供应管路一端与一光刻胶供应源相连接；所述光刻胶喷嘴与所述光刻胶供应管路远离所述光刻胶供应源的一端相连接；所述流量调节阀位于所述光刻胶供应管路上；所述第一流量检测器位于所述流量调节阀和所述光刻胶喷嘴之间的所述光刻胶供应管路上；所述第二流量检测器位于所述光刻胶喷嘴和所述第一流量检测器之间的所述光刻胶供应管路上，所述第二流量检测器和所述第一流量检测器之间具有间距。2.根据权利要求1所述的光刻胶涂布装置，其特征在于：所述光刻胶涂布装置还包括将所述第一流量检测器的检测结果与所述第二流量检测器的检测结果进行比对的比较器，所述比较器与所述第一流量检测器和所述第二流量检测器相连接。3.根据权利要求2所述的光刻胶涂布装置，其特征在于：所述光刻胶涂布装置还包括报警器，所述报警...

【专利技术属性】
技术研发人员：张海陆，颜廷彪，叶日铨，黄志凯，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32