一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，包括底座，所述底座上固定设有搅拌箱，所述搅拌箱下设有空腔一，所述搅拌箱的侧壁内开设有空腔二，所述空腔二内填充有导热介质，所述导热介质内设有若干加热棒，所述搅拌箱设有封盖，所述搅拌箱内设有凹槽，所述凹槽内设有转盘，所述转盘上固定设有立柱，所述立柱周围与所述转盘之间固定设有搅拌挡板，所述搅拌挡板远离所述立柱的一侧中部固定设有搅拌杆。有益效果：相较于普通的浸泡清洗，针对性的清洁，增加了清洗的洁净度和清洗效率。增加了去除有机污染物的力度。通过在空腔一内设有超声波发生器，使得搅拌箱内的硅片在经受搅拌清洗外，增加超声波清洗，双重清洗，进一步的增加清洗的力度。

A Drum-type Stirring Cleaning Device for Silicon Wafers

The invention discloses a drum type stirring type silicon wafer cleaning device, which comprises a base, a stirring box fixed on the base, a cavity one under the stirring box, a cavity two arranged in the side wall of the stirring box, a heat conducting medium filled in the cavity two, a number of heating rods arranged in the heat conducting medium, a sealing cover arranged in the stirring box, and a groove arranged in the stirring box. A rotating disc is arranged in the groove, and a column is fixed on the rotating disc, and a stirring baffle is fixed between the column and the rotating disc. The stirring baffle is fixed with a stirring rod in the middle of one side far from the column. Beneficial effect: Compared with ordinary soaking cleaning, targeted cleaning, increased cleaning cleanliness and cleaning efficiency. Increased efforts to remove organic pollutants. By installing an ultrasonic generator in the cavity, the silicon wafer in the stirring tank can be cleaned by stirring, and the intensity of cleaning can be further increased by adding ultrasonic cleaning and double cleaning.

【技术实现步骤摘要】
一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置
本专利技术涉及滚筒式搅拌式清洗硅片装置领域，具体来说，涉及一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置。
技术介绍
光伏是太阳能光伏发电系统的简称，是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应，将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统，其中所使用的半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。目前市场上的光伏硅片清洗设备在进行清洗的时候，大都只进行简单的浸泡清洗，清洗的不彻底，并且效率底下，导致硅片上任然会存在污染物。针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，以解决上述背景本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，其特征在于，包括底座(1)，所述底座(1)上固定设有搅拌箱(2)，所述搅拌箱(2)下设有空腔一(3)，所述搅拌箱(2)的侧壁内开设有空腔二(4)，所述空腔二(4)内填充有导热介质(5)，所述导热介质(5)内设有若干加热棒(6)，所述搅拌箱(2)设有封盖(7)，所述搅拌箱(2)内设有凹槽(8)，所述凹槽(8)内设有转盘(9)，所述转盘(9)上固定设有立柱(10)，所述立柱(10)周围与所述转盘(9)之间固定设有搅拌挡板(11)，所述搅拌挡板(11)远离所述立柱(10)的一侧中部固定设有搅拌杆(12)，所述搅拌杆(12)贯穿所述搅拌箱(2)且，延伸至所述空腔一(3...

【技术特征摘要】
1.一种滚筒式搅拌式清洗硅片装置，其特征在于，包括底座(1)，所述底座(1)上固定设有搅拌箱(2)，所述搅拌箱(2)下设有空腔一(3)，所述搅拌箱(2)的侧壁内开设有空腔二(4)，所述空腔二(4)内填充有导热介质(5)，所述导热介质(5)内设有若干加热棒(6)，所述搅拌箱(2)设有封盖(7)，所述搅拌箱(2)内设有凹槽(8)，所述凹槽(8)内设有转盘(9)，所述转盘(9)上固定设有立柱(10)，所述立柱(10)周围与所述转盘(9)之间固定设有搅拌挡板(11)，所述搅拌挡板(11)远离所述立柱(10)的一侧中部固定设有搅拌杆(12)，所述搅拌杆(12)贯穿所述搅拌箱(2)且，延伸至所述空腔一(3)内，所述搅拌杆(12)位于所述空腔一(3)内的一端固定设有第一皮带轮(13)，所述底座(1)的一侧固定设有正反电机(14)，所述正反电机(14)的输出端设有第二皮带轮(15)，所述第一皮带轮(13)与所述第二皮带轮(15)之间通过皮带(16)相连接，所述皮带(16)贯穿所述空腔一(3)，所述空腔一(3)内固定设有若干超声波发生器(17)，所述超声波发生器(17)的输出端设有超声波震板(18)，所述超声波震板(18)位于所述搅拌箱(2)的底部，搅拌箱(2)底部开设有第一通孔(19)和第二通孔(20)，所述第一通孔(19)与第一水管(21)相连接，所述第一水管(21)上设有第一阀门(22)，所述第二通孔(20)与第二水管(23)相连接，所述第二水管(23)上设有第二阀门(24)，所述第二水管(23)远离所述第二通孔(20)的一端与水泵(25)相连接，所述水泵(25)的另一端设有第三水管(26)，所述第三水管(26)分别与数量为两个的第四水管(27)相连通...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪伟华，
申请(专利权)人：浙江羿阳太阳能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33