一种清洗平台以及清洗方法技术

本发明专利技术提供一种清洗平台以及清洗方法，在去除基板表面的有机颗粒之后，针对在去除有机颗粒时形成的金属离子也进行了清洗，在清洗金属离子之后才进入药液单元去除金属薄膜表面的非中性物质；由于在进入药液单元之前，将金属薄膜表面的金属离子进行了清洗，这样这些金属离子就不能与药液产生化学形成腐蚀斑，即本发明专利技术实施例引入金属离子清洗单元及步骤，保留了有机颗粒去除以及药液，在保证清洗效果的同时，也不会在金属膜层正面形成腐蚀斑，解决了现有清洗制程同时使用EUV和药液存在的金属膜层正面形成腐蚀斑的技术问题。

A Cleaning Platform and Cleaning Method

The invention provides a cleaning platform and a cleaning method. After removing the organic particles on the surface of the substrate, the metal ions formed during removing the organic particles are also cleaned. After cleaning the metal ions, the non-neutral substances on the surface of the metal film are removed by entering the liquid medicine unit to remove the metal ions on the surface of the metal film; because before entering the liquid medicine unit, the metal ions on the surface of the metal film are cleaned. Washing, so that these metal ions can not produce chemical corrosion spots with liquid medicine, that is to say, in the embodiment of the present invention, metal ion cleaning units and steps are introduced to retain the removal of organic particles and liquid medicine, while ensuring the cleaning effect, corrosion spots will not be formed on the front of the metal film, which solves the problem of forming corrosion spots on the front of the metal film existing in the current cleaning process while using EUV and liquid medicine. Technical problems of corrosion spot.

【技术实现步骤摘要】
一种清洗平台以及清洗方法
本专利技术涉及清洗领域，尤其涉及一种清洗平台以及清洗方法。
技术介绍
在平板显示等行业中，阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀；成膜是将金属沉积到玻璃基板上，形成一定厚度的金属膜层；黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的金属膜层上，该图形由光阻构成；最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉，然后通过光阻剥离单元，留下相应的金属图案。其中，黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤等制程。而清洗制程对应的清洗平台包括：EUV(紫外线)照射单元、药液单元、Brush(毛刷)单元、AAJET(喷射)单元、SWR(水洗)单元和A/K(风刀除水)单元，EUV的作用是除去有机物Particle、药液的作用是除去酸性物质、Brush是除去大颗粒Particle、AAJET除去无机物Particle、水洗是进一步除去Particle并形成均匀的水膜、A/K是除去润洗水及其中的杂质。在现有技术中，部分金属膜层，如铜等，在清洗制程若同时使用EUV和药液会造成金属膜层正面形成腐蚀斑。为了解决这个问题，现有技术针对这类材料对应的金属膜层仅使用EUV或者药液，虽然可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗平台，其特征在于，包括依次连接的基板入口、有机颗粒去除单元、金属离子清洗单元、药液单元、无机颗粒去除单元以及基板出口，其中：所述基板入口用于控制基板进入清洗平台，并传送至所述有机颗粒去除单元；所述基板的表面设置有金属薄膜；所述有机颗粒去除单元用于去除所述基板表面的有机颗粒，并传送至所述金属离子清洗单元；所述金属离子清洗单元用于清洗所述金属薄膜表面的金属离子，并传送至所述药液单元；所述金属离子包括所述有机颗粒去除单元在去除有机颗粒时形成的金属离子；所述药液单元用于去除所述金属薄膜表面的非中性物质，并传送至所述无机颗粒去除单元；所述无机颗粒去除单元用于去除所述基板表面的无机颗粒，并传送...

【技术特征摘要】
1.一种清洗平台，其特征在于，包括依次连接的基板入口、有机颗粒去除单元、金属离子清洗单元、药液单元、无机颗粒去除单元以及基板出口，其中：所述基板入口用于控制基板进入清洗平台，并传送至所述有机颗粒去除单元；所述基板的表面设置有金属薄膜；所述有机颗粒去除单元用于去除所述基板表面的有机颗粒，并传送至所述金属离子清洗单元；所述金属离子清洗单元用于清洗所述金属薄膜表面的金属离子，并传送至所述药液单元；所述金属离子包括所述有机颗粒去除单元在去除有机颗粒时形成的金属离子；所述药液单元用于去除所述金属薄膜表面的非中性物质，并传送至所述无机颗粒去除单元；所述无机颗粒去除单元用于去除所述基板表面的无机颗粒，并传送至所述基板出口；所述基板出口用于控制清洗后的基板离开清洗平台。2.根据权利要求1所述的清洗平台，其特征在于，所述金属薄膜的材料包括铜。3.根据权利要求1或2所述的清洗平台，其特征在于，所述金属离子清洗单元包括依次连接的清洗液洗涤单元以及清洗液去除单元，其中：所述清洗液洗涤单元用于使用清洗液清洗所述金属薄膜表面的金属离子，并传送至所述清洗液去除单元；所述清洗液去除单元用于去除所述金属薄膜表面的清洗液，并传送至所述药液单元。4.根据权利要求3所述的清洗平台，其特征在于，所述清洗液洗涤单元包括第一水洗单元，所述第一水洗单元用于采用水作为清洗液清洗所述金属薄膜表面的金属离子。5.根据权利要求4所述的清洗平台，其特征在于，所述第一水洗单元采用喷淋的方式，使用水清洗所述金属薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：涂乐志，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44