一种新型硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体和清洗池，所述清洗装置主体内部底端设有液压机，所述液压机上端设有液压升缩杆，所述液压升缩杆上端设有安装板，所述安装板上端设有滑轨，所述滑轨表面设有若干个滑块，所述滑块上端设有密封箱，所述密封箱内部底端设有旋转电机，所述旋转电机上端设有旋转轴，所述旋转轴上端表面设有转盘，所述转盘上端设有硅片存放装置，所述清洗装置主体内部中间设有分隔板，所述分隔板上端设有清洗池，所述清洗池一侧设有抵杆，所述抵杆一端设有滑轮，通过设置了液压机，能够通过液压机带动液压升缩杆升高，从而使硅片存放装置浮出液体表面，可避免放置时液体飞溅出接触到人体，提高了安全性。

A New Type of Silicon Wafer Cleaning Device

The utility model discloses a novel silicon wafer cleaning device, which comprises a cleaning device main body and a cleaning pool. The bottom end of the cleaning device main body is equipped with a hydraulic press, the upper end of the hydraulic press is equipped with a hydraulic lifting rod, the upper end of the hydraulic lifting rod is equipped with an installation plate, the upper end of the installation plate is equipped with a slide rail, the surface of the slide rail is equipped with several sliders, and the upper end of the slide block is equipped with a seal. The inner bottom end of the sealed box is provided with a rotating motor, the upper end of the rotating motor is provided with a rotating shaft, the upper end surface of the rotating shaft is provided with a turntable, and the upper end of the turntable is provided with a silicon wafer storage device. The inner part of the cleaning device is provided with a partition board, and the upper end of the partition board is provided with a cleaning pool, one side of the cleaning pool is provided with a connecting rod, and one end of the connecting rod is provided with a pulley. With the hydraulic press installed, the hydraulic lifting rod can be raised by the hydraulic press, so that the silicon wafer storage device can float out of the liquid surface, which can avoid the liquid splashing contact with the human body and improve the safety.

【技术实现步骤摘要】
一种新型硅片清洗装置
本技术涉及一种清洗装置，尤其是涉及一种新型硅片清洗装置。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。化学清洗时，一般将硅片垂直放置，保证硅片的清洗质量。现有技术中，对于硅片清洗大多数企业使用的是将硅片放入清洗液中进行侵泡，静止侵泡清洗效率低并且质量差，同时，在放置硅片时，清洗液容易溅出，伤害人体。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种新型硅片清洗装置，从而解决上述问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体和清洗池，所述清洗装置主体内部底端设有液压机，所述液压机上端设有液压升缩杆，所述液压升缩杆上端设有安装板，所述安装板上端设有滑轨，所述滑轨表面设有若干个滑块，所述滑块上端设有密封箱，所述密封箱内部底端设有旋转电机，所述旋转电机上端设有旋转轴，所述旋转轴上端表面设有转盘，所述转盘上端设有硅片存放装置，所述清洗装置主体内部中间设有分隔板，所述分隔板上端设有清洗池，所述清洗池一侧设有抵杆，所述抵杆一端设有滑轮，所述清洗池另一侧设有弹簧件，所述弹簧件内部设有弹簧，所述弹簧一侧设有连接杆。作为本技术的一种优选技术方案，所述抵杆一端与清洗池壁固定连接，另一端与滑轮轴动连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述转盘表面设有若干个半圆形凸块，且凸块与滑轮左右对应设置。作为本技术的一种优选技术方案，所述硅片存放装置通过旋转轴与旋转电机传动连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述滑块与滑轨滑动连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述连接杆一端与弹簧件镶嵌连接，另一端与密封箱贴合连接。与现有技术相比，本技术的有益效果是：该种新型硅片清洗装置，通过设置了液压机，能够通过液压机带动液压升缩杆升高，从而使硅片存放装置浮出液体表面，可避免放置时液体飞溅出接触到人体，提高了安全性，通过设置了旋转电机，能够通过旋转电机带动硅片存放装置内的硅片进行旋转清洁，同时通过旋转轴带动转盘旋转，使转盘挤压一侧的抵杆一端的滑轮，从而带动密封箱整体间接式震动，既能够提供震动对硅片进行冲击清洁，同时可防止旋转导致产生惯性，使清洁液与硅片存放装置相对静止，从而降低了旋转清洁的效率，大大提升了清洁效率，结构简单，操作方便起到了很大的帮助。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1为本技术所述一种新型硅片清洗装置结构示意图；图2为本技术所述一种弹簧件内部结构示意图；图中：1、硅片存放装置；2、密封箱；3、旋转电机；4、滑轨；5、弹簧件；6、安装板；7、分隔板；8、清洗装置主体；9、液压机；10、连接杆；11、液压升缩杆；12、清洗池；13、滑块；14、抵杆；15、滑轮；16、转盘；17、旋转轴；18、弹簧。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-2，本技术提供一种技术方案：一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体8和清洗池12，清洗装置主体8内部底端设有液压机9，液压机9上端设有液压升缩杆11，液压升缩杆11上端设有安装板6，安装板6上端设有滑轨4，滑轨4表面设有若干个滑块13，滑块13上端设有密封箱2，密封箱2内部底端设有旋转电机3，旋转电机3上端设有旋转轴17，旋转轴17上端表面设有转盘16，转盘16上端设有硅片存放装置1，清洗装置主体8内部中间设有分隔板7，分隔板7上端设有清洗池12，清洗池12一侧设有抵杆14，抵杆14一端设有滑轮15，清洗池12另一侧设有弹簧件5，弹簧件5内部设有弹簧18，弹簧18一侧设有连接杆10。抵杆14一端与清洗池12壁固定连接，另一端与滑轮15轴动连接。转盘16表面设有若干个半圆形凸块，且凸块与滑轮15左右对应设置。硅片存放装置1通过旋转轴17与旋转电机3传动连接。滑块13与滑轨4滑动连接。连接杆10一端与弹簧件5镶嵌连接，另一端与密封箱2贴合连接。具体原理：使用时，通过液压机9带动液压升缩杆11升高，从而使硅片存放装置1浮出液体表面，将硅片放入硅片存放装置1，后液压机9带动液压升缩杆11复位，没入清洗池12中，此时旋转电机3通过旋转轴17带动硅片存放装置1内的硅片进行旋转清洁，同时通过旋转轴17带动转盘16旋转，使转盘16表面的凸块挤压一侧的抵杆14一端的滑轮15，当一次挤压完成，弹簧件5内的弹簧18通过连接杆10挤压密封箱2复位，从而带动密封箱2整体通过滑块13在滑轨4表面来回间接式震动。该种新型硅片清洗装置，通过设置了液压机9，能够通过液压机9带动液压升缩杆11升高，从而使硅片存放装置1浮出液体表面，可避免放置时液体飞溅出接触到人体，提高了安全性，通过设置了旋转电机3，能够通过旋转电机3带动硅片存放装置1内的硅片进行旋转清洁，同时通过旋转轴17带动转盘16旋转，使转盘16挤压一侧的抵杆14一端的滑轮15，从而带动密封箱2整体间接式震动，既能够提供震动对硅片进行冲击清洁，同时可防止旋转导致产生惯性，使清洁液与硅片存放装置1相对静止，从而降低了旋转清洁的效率，大大提升了清洁效率，结构简单，操作方便起到了很大的帮助。最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体(8)和清洗池(12)，其特征在于，所述清洗装置主体(8)内部底端设有液压机(9)，所述液压机(9)上端设有液压升缩杆(11)，所述液压升缩杆(11)上端设有安装板(6)，所述安装板(6)上端设有滑轨(4)，所述滑轨(4)表面设有若干个滑块(13)，所述滑块(13)上端设有密封箱(2)，所述密封箱(2)内部底端设有旋转电机(3)，所述旋转电机(3)上端设有旋转轴(17)，所述旋转轴(17)上端表面设有转盘(16)，所述转盘(16)上端设有硅片存放装置(1)，所述清洗装置主体(8)内部中间设有分隔板(7)，所述分隔板(7)上端设有清洗池(12)，所述清洗池(12)一侧设有抵杆(14)，所述抵杆(14)一端设有滑轮(15)，所述清洗池(12)另一侧设有弹簧件(5)，所述弹簧件(5)内部设有弹簧(18)，所述弹簧(18)一侧设有连接杆(10)。

【技术特征摘要】
1.一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体(8)和清洗池(12)，其特征在于，所述清洗装置主体(8)内部底端设有液压机(9)，所述液压机(9)上端设有液压升缩杆(11)，所述液压升缩杆(11)上端设有安装板(6)，所述安装板(6)上端设有滑轨(4)，所述滑轨(4)表面设有若干个滑块(13)，所述滑块(13)上端设有密封箱(2)，所述密封箱(2)内部底端设有旋转电机(3)，所述旋转电机(3)上端设有旋转轴(17)，所述旋转轴(17)上端表面设有转盘(16)，所述转盘(16)上端设有硅片存放装置(1)，所述清洗装置主体(8)内部中间设有分隔板(7)，所述分隔板(7)上端设有清洗池(12)，所述清洗池(12)一侧设有抵杆(14)，所述抵杆(14)一端设有滑轮(15)，所述清洗池(12)另一侧设有弹簧件(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈彬，钟伟，王杰，
申请(专利权)人：浙江立晖新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33