掩膜板、阵列基板、显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种掩膜板、阵列基板、显示装置，涉及显示技术领域，为解决采用现有技术制作的显示器件中膜层的坡度角较大的问题。所述掩膜板包括透光基底和设置在所述透光基底上的至少三种不同透过率的部分透光图形，所述至少三种不同透过率的部分透光图形按照透过率大小依次排列。本实用新型专利技术提供的掩膜板用于制作膜层。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板、阵列基板、显示装置
本技术涉及显示
，尤其涉及一种掩膜板、阵列基板、显示装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，显示器件的种类越来越多，其中有源矩阵有机发光二极体(英文：Active-matrixorganiclightemittingdiode，以下简称：AMOLED)显示器件以其自发光、反应快、视角广、亮度高等优点受到了人们的广泛关注。AMOLED显示器件主要包括发光单元部分和背板电路部分，且这两部分均包括层叠设置的多层膜层。目前，现有技术在制作AMOLED显示器件中的各膜层时，一般利用掩膜板结合构图工艺来制作，但是制作出的膜层坡度角较大，导致在制作后续的膜层时，后续的膜层在坡度角处连接困难，容易发生断裂，导致产品良率降低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种掩膜板、阵列基板、显示装置，用于解决采用现有技术制作的显示器件中膜层的坡度角较大的问题。为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：本技术的第一方面提供一种掩膜板，包括透光基底和设置在所述透光基底上的至少三种不同透过率的部分透光图形，所述至少三种不同透过率的部分透光图形按照透过率大小依次排列。进一步地，所述至少三种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括透光基底和设置在所述透光基底上的至少三种不同透过率的部分透光图形，所述至少三种不同透过率的部分透光图形按照透过率大小依次排列。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括透光基底和设置在所述透光基底上的至少三种不同透过率的部分透光图形，所述至少三种不同透过率的部分透光图形按照透过率大小依次排列。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述至少三种不同透过率的部分透光图形包括第一部分透光图形、第二部分透光图形和第三部分透光图形，所述第一部分透光图形的透过率大于所述第二部分透光图形的透过率，所述第二部分透光图形的透过率大于所述第三部分透光图形的透过率；所述第一部分透光图形、所述第二部分透光图形和所述第三部分透光图形中的至少一个在所述透光基底上限定出开口区，且所述第一部分透光图形、所述第二部分透光图形和所述第三部分透光图形沿靠近所述开口区至远离所述开口区的方向依次排列。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一部分透光图形、所述第二部分透光图形和所述第三部分透光图形的材料相同，且所述第一部分透光图形在垂直于所述透光基底的方向上的厚度小于所述第二部分透光图形在垂直于所述透光基底的方向上的厚度，所述第二部分透光图形在垂直于所述透光基底的方向上的厚度小于所述第三部分透光图形在垂直于所述透光基底的方向上的厚...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭永林，刘庭良，张锴，张毅，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11