The invention provides a method for preparing a dynamic photonic crystal pattern for controlling the refractive index of thin films. The process includes the following steps: firstly, two-dimensional photonic crystals are prepared on transparent substrates, then the acrylic monomers, photosensitizers and crosslinkers are mixed evenly to obtain a mixed solution, so that the two-dimensional photonic crystals are in contact with the mixed solution, and a patterned mask is covered on the transparent substrates, cured under ultraviolet light, and the film is peeled off. The dynamic photonic crystal pattern was obtained by wetting the patterned colloidal photonic crystal composite film into the responsive solvent or spraying the responsive solvent on the composite film. The invention controls the polymerization degree of the reaction monomer through the mask, thereby controlling the wettability of different regions, controlling the refractive index of different regions of the film, making the film shielding region appear stronger Bragg diffraction light, and displaying patterns in the region. The process is simple, the reaction conditions are easy to control, and the patterned response is fast.
【技术实现步骤摘要】
一种浸润控制薄膜折射率的动态光子晶体图案的制备方法
本专利技术属于高分子材料
尤其涉及通过聚合反应程度实现浸润控制薄膜折射率的方法,更具体地,涉及一种浸润控制薄膜折射率的动态光子晶体图案的制备方法。
技术介绍
材料表面图案化技术是指在材料表面构建微纳结构,从而对材料表面的相关特性进行调控的技术,其在超分子科学、材料科学、微电子及细胞生物学等相关学科发展领域均有着重要的研究意义和应用价值,它给现代科学
带来了新的发展空间和机遇。在传感检测、光子墨水、显示、防伪等方面有着重要的应用前景。图案化区域的光子带隙能够随外界刺激而变化被称为响应性光子晶体图案化。主要原理是在化学或者物理的信号刺激下(如温度、pH值、电磁场),通过控制光子晶体的介电常数或周期产生变化,从而引起光子带隙的改变。这些改变主要包括设计或调节墨水溶剂的种类、掩膜板控制反应程度及表面浸润性、刻蚀法、电磁场响应、蒸气响应及应力响应等。响应性光子晶体图案化技术最初主要通过以聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane,PDMS)为基质的PS复合光子晶体,在硅氧烷溶剂中的体积膨胀来制备可重复读写的光子晶体纸;随后出现采用掩膜板来控制紫外光固化体系的反应程度,通过冲洗未反应单体等方式来改变布拉格衍射,从而实现图案化控制。该过程简单,操作性强,但溶剂墨水及掩模板法都局限于弹性体材料。申请号为CN201210060019.6的专利,采用单分散乳胶粒、湿度响应性功能单体、N-异丙基丙烯酰胺单体、交联剂、引发剂、高沸点助剂和水的混合液为墨水,通过喷墨打印在具有浸润性的基材的表面上,得到由 ...
【技术保护点】
1.一种浸润控制薄膜折射率的动态光子晶体图案的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1. 先将水平铺在透明基材上,再将胶体微球溶液均匀分散在水面上,静止后,把水吸干,自然风干1~10 h,再于50~80℃烘干1~8 h,得到排列规整的二维光子晶体;S2. 将丙烯酸类单体、光敏剂和交联剂混合均匀后得到混合溶液,将该混合溶液移入模具中,再将步骤S1中带二维光子晶体的透明基材倒扣在模具上,使二维光子晶体与混合溶液相接触,并在透明基材上覆盖带有图案的掩膜板,于紫外光下固化1~120 min,待反应完毕,剥离薄膜,得到通过浸润控制图案化的胶体光子晶体复合膜;S3. 将上述的胶体光子晶体复合膜放入响应溶剂中,或者将响应溶剂喷洒到上述的胶体光子晶体复合膜上,得到浸润控制薄膜折射率的动态光子晶体图案。
【技术特征摘要】
1.一种浸润控制薄膜折射率的动态光子晶体图案的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1.先将水平铺在透明基材上,再将胶体微球溶液均匀分散在水面上,静止后,把水吸干,自然风干1~10h,再于50~80℃烘干1~8h,得到排列规整的二维光子晶体;S2.将丙烯酸类单体、光敏剂和交联剂混合均匀后得到混合溶液,将该混合溶液移入模具中,再将步骤S1中带二维光子晶体的透明基材倒扣在模具上,使二维光子晶体与混合溶液相接触,并在透明基材上覆盖带有图案的掩膜板,于紫外光下固化1~120min,待反应完毕,剥离薄膜,得到通过浸润控制图案化的胶体光子晶体复合膜;S3.将上述的胶体光子晶体复合膜放入响应溶剂中,或者将响应溶剂喷洒到上述的胶体光子晶体复合膜上,得到浸润控制薄膜折射率的动态光子晶体图案。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤S2中,以体积比计,所述的丙烯酸类单体的添加量占混合溶液总体积的85%~99.8%,所述的交联剂的添加量占混合溶液总体积的0.1%~10%;以质量体积比计,所述的光敏剂的添加量占混合溶液总体积的0.1%~5%;其中,所述的混合溶液总体积指的是丙烯酸类单体、光敏剂和交联剂组成的混合溶液的总体积。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤S1中所述的胶体微球溶液的质量分数为0.5~5wt%;所述的胶体微球溶液的溶剂为水和/或乙醇。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤S1中所述的胶体微球的粒径为80~1100nm;所述的胶体微球选自单分散聚苯乙烯胶体微球、...
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