曝光方法、UV掩膜板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，其中，所述UV掩膜板的制备方法利用在制备显示面板的过程中必需的黑矩阵掩膜板来进行UV掩膜板的制备，通过在基板上依次形成第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形以形成能够完全覆盖显示面板的显示区域的UV掩膜板，所述UV掩膜板的制备方法在制备UV掩膜板的过程中无需新开专用的掩膜板，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。

【技术实现步骤摘要】
曝光方法、UV掩膜板及其制备方法
本专利技术涉及显示器件
，特别涉及一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法。
技术介绍
UV(Ultravioletradiation，紫外)掩膜板在显示面板的阵列基板和彩膜基板用胶框贴合时用到的一种掩膜板。参考图1，图1为显示面板的阵列基板和彩膜基板胶框贴合过程的示意图，在实际应用过程中，首先需要设置UV掩膜板20，使得UV掩膜板20完全覆盖显示面板的显示区域(AA区域)，并暴露出胶框所在区域(非AA区域)；然后利用紫外光UV对胶框10进行照射，以使胶框10固化，实现阵列基板和彩膜基板的贴合。在这个过程中，UV掩膜板20完全覆盖显示面板的显示区域的目的是避免盒内材料被紫外光照射分解而使得最终的显示面板出现显示不良的情况。通常情况下，针对不同尺寸或不同型号的显示面板都需要为其配备专用的UV掩膜板来满足阵列基板和彩膜基板胶框贴合的要求，而每一种显示面板专用的UV掩膜板又需要新开专用的掩膜板来制作，而UV掩膜板制备完成后，制备该UV掩膜板的掩膜板就失去了利用的价值，不仅造成了资源的浪费，而且增加了UV掩膜板的制备成本。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，以实现利用现有的黑矩阵掩膜板制备UV掩膜板的目的，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。本专利技术实施例提供一种UV掩膜板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板表面形成第一遮光材料层，在所述第一遮光材料层表面的第一图形位置上设置黑矩阵掩膜板，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第一遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第一覆盖图形；在所述第一覆盖图形表面形成第二遮光材料层，在所述第二遮光材料层表面的第二图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第二图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第一方向移动第一预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第二遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第二覆盖图形；在所述第二覆盖图形表面形成第三遮光材料层，在所述第三遮光材料层表面的第三图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第三图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第二方向移动第二预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第三遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第三覆盖图形；所述第一方向与所述显示面板像素的长边或短边平行，所述第二方向与所述显示面板像素的另一边平行；在所述第三覆盖图形表面形成第四遮光材料层，在所述第四遮光材料层表面的第四图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第四图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第三方向移动第三预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第四遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第四覆盖图形，所述第三方向与所述第一方向和第二方向均相交；所述第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形重叠构成所述UV掩膜板。一种UV掩膜板，由上述任一项所述的UV掩膜板的制备方法制备获得；所述UV掩膜板为由遮光材料构成的遮光板，所述遮光板的覆盖面积大于或等于显示面板的显示区域的面积。一种曝光方法，用于显示面板的胶框固化；所述曝光方法包括：提供UV掩膜板，所述UV掩膜板为上述一项所述的UV掩膜板；利用所述UV掩膜板覆盖所述显示面板的显示区域；利用紫外光对覆盖有UV掩膜板的显示面板进行照射，以使显示面板的胶框固化。与现有技术相比，本专利技术实施例提供了一种曝光方法、UV掩膜板及其制备方法，其中，所述UV掩膜板的制备方法利用在制备显示面板的过程中必需的黑矩阵掩膜板来进行UV掩膜板的制备，具体地，首先在基板上利用黑矩阵掩膜板形成第一覆盖图形，接着在第一覆盖图形上利用黑矩阵掩膜板形成第二覆盖图形，所述第二覆盖图形的形成位置与第一覆盖图形的形成位置在第一方向上相差第一预设距离，以使第二覆盖图形能够遮盖第一覆盖图形在显示面板的显示区域中第一方向上的缝隙；然后在第二覆盖图形上利用黑矩阵掩膜板形成第三覆盖图形，所述第三覆盖图形的形成位置与第一覆盖图形的形成位置在第二方向上相差第二预设距离，以使第三覆盖图形能够遮盖第一覆盖图形在显示面板的显示区域中第二方向上的缝隙；最后在第三覆盖图形上利用黑矩阵掩膜板形成第四覆盖图形，所述第四覆盖图形与第一覆盖图形的形成位置在第三方向上相差第三预设距离，以使第四覆盖图形能够覆盖第一覆盖图形在显示面包的显示区域中第三方向上的剩余缝隙，最终通过第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形形成能够完全覆盖显示面板的显示区域的UV掩膜板，该UV掩膜板的形成过程无需新开专用的掩膜板，降低了UV掩膜板的制备成本，也避免了由于新开掩膜板而造成的资源浪费。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为显示面板制备过程中胶框固化的过程示意图；图2为本专利技术的一个实施例提供的一种UV掩膜板的制备方法的流程示意图；图3-图7为本专利技术的一个实施例提供的一种UV掩膜板的制备流程示意图；图8(a)-图8(f)为本专利技术的一个实施例提供的遮光单元在第一方向、第二方向和第三方向移动上限距离和下限距离后的位置关系示意图；图9为本专利技术的另一个实施例提供的一种UV掩膜板的制备方法的流程示意图；图10为本专利技术的一个实施例提供的一种第一覆盖图形的形成过程示意图；图11为本专利技术的又一个实施例提供的一种UV掩膜板的制备方法的流程示意图；图12为本专利技术的一个实施例提供的一种第二覆盖图形的形成过程示意图；图13为本专利技术的一个实施例提供的一种第三覆盖图形的形成过程示意图；图14为本专利技术的一个实施例提供的一种第四覆盖图形的形成过程示意图；图15为本专利技术的一个实施例提供的一种当显示面板像素为平行四边形时，覆盖图形的俯视结构示意图；图16为本专利技术的一个实施例提供的一种UV掩膜板的结构示意图；图17为本专利技术的一个实施例提供的一种曝光方法的流程示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供了一种UV掩膜板的制备方法，如图2所示，图2为本专利技术的一个实施例提供的一种UV掩膜板的制备方法的流程示意图，所述UV掩膜板的制备方法包括：S101：提供基板；参考图3，图3为基板的俯视结构示意图；优选的，提供的所述基板为制备显示面板过程中使用的白玻璃基板，这样可以进一步降低UV掩膜板的制备成本，在显示面板的制备过程中所使用的白玻璃基板，通常用于一次性形成多个显示面板，参考图3，在图3中所示的白玻璃基板的表面具有9个用于形成显示面板的制备区域101，每个制备区域101中包括显示面板的显示区域和非显示区域。本专利技术对所述基板的种类和表面具有的显示面板的制备区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种UV掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板表面形成第一遮光材料层，在所述第一遮光材料层表面的第一图形位置上设置黑矩阵掩膜板，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第一遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第一覆盖图形；在所述第一覆盖图形表面形成第二遮光材料层，在所述第二遮光材料层表面的第二图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第二图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第一方向移动第一预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第二遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第二覆盖图形；在所述第二覆盖图形表面形成第三遮光材料层，在所述第三遮光材料层表面的第三图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第三图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第二方向移动第二预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第三遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第三覆盖图形；所述第一方向与所述显示面板像素的长边或短边平行，所述第二方向与所述显示面板像素的另一边平行；在所述第三覆盖图形表面形成第四遮光材料层，在所述第四遮光材料层表面的第四图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第四图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第三方向移动第三预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第四遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第四覆盖图形，所述第三方向与所述第一方向和第二方向均相交；所述第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形重叠构成所述UV掩膜板。...

【技术特征摘要】
1.一种UV掩膜板的制备方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板表面形成第一遮光材料层，在所述第一遮光材料层表面的第一图形位置上设置黑矩阵掩膜板，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第一遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第一覆盖图形；在所述第一覆盖图形表面形成第二遮光材料层，在所述第二遮光材料层表面的第二图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第二图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第一方向移动第一预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第二遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第二覆盖图形；在所述第二覆盖图形表面形成第三遮光材料层，在所述第三遮光材料层表面的第三图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第三图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第二方向移动第二预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第三遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第三覆盖图形；所述第一方向与所述显示面板像素的长边或短边平行，所述第二方向与所述显示面板像素的另一边平行；在所述第三覆盖图形表面形成第四遮光材料层，在所述第四遮光材料层表面的第四图形位置上设置所述黑矩阵掩膜板，所述第四图形位置在基板上的投影位置与所述第一图形位置在基板上的投影位置向第三方向移动第三预设距离后的位置重合，并以所述黑矩阵掩膜板为掩膜对所述第四遮光材料层进行处理，以在所述基板表面形成第四覆盖图形，所述第三方向与所述第一方向和第二方向均相交；所述第一覆盖图形、第二覆盖图形、第三覆盖图形和第四覆盖图形重叠构成所述UV掩膜板。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一预设距离大于或等于显示面板的相邻像素之间在第一方向上的间距，小于所述显示面板的像素在第一方向上的边长。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一预设距离的取值为所述显示面板的像素在第一方向上尺寸的二分之一。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二预设距离大于或等于显示面板的相邻像素之间在第二方向上的间距，小于所述显示面板的像素在第二方向上的边长。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第二预设距离的取值为所述显示面板的像素在第二方向上尺寸的二分之一。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第三方向与所述第三预设距离l满足下列条件；d1≤lsinα≤d2且d3≤lcosα≤d4；其中，d1为所述显示面板相邻像素之间在第一方向上的距离，d2为所述显示面板的像素在第一方向上的边长，d3为所述显示面板相邻像素之间在第二方向上的距离，d4为所述显示面板的像素在第二方向上的边长，l为所述第三预设距离，α为所述第三预设方向与第二方向的夹角。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第三预设距离的取值满足8.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖建，李超，
申请(专利权)人：成都天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51