The invention relates to a coating system and a manufacturing method of coated glass. A coating system includes a vacuum chamber and a sputtering target platform, a substrate platform, an electric field device and a magnetic field device arranged in the vacuum chamber. The magnetic field device includes a first magnetic field device and a second magnetic field device. The first magnetic field device, a substrate platform, a sputtering target platform and a second magnetic field device are located in the area where the electric field is generated by the electric field device and arranged in sequence along the electric field direction generated by the electric field device. The first magnetic field device is located in the anticipated thin film thickness area, and is positively positioned against the glass substrate to be coated on the corresponding substrate platform. When the film is coated, the amount of film deposited in the thinner film area can be strengthened by the first magnetic field device, thus better uniformity of the coated glass can be obtained.
【技术实现步骤摘要】
镀膜系统及镀膜玻璃的制造方法
本专利技术涉及玻璃制造领域,特别是涉及一种镀膜系统及镀膜玻璃的制造方法。
技术介绍
目前,镀膜玻璃按照产品的不同特性分为三类:热反射玻璃、低辐射玻璃和导电膜玻璃。其中,导电膜玻璃因其电阻小、导电性能好等优点,在液晶显示器、太阳能电池、光电子和各种光学领域得到了广泛应用。然而,导电膜玻璃在制造过程中,会出现膜厚不均匀的情况。其中,在纳米铟锡氧化物(NanoIndiumtinmetalOxide,ITO),或氧化锡锑(AntimonyTinOxide,ATO)等导电材料镀膜过程中,会出现边角的阻值大于中间位置的情况,影响整片产品的均匀性;在抗反射增透(Anti-Reflection,AR)膜的镀膜过程中,会出现中间膜厚大于上下边缘的膜厚的情况,很容易形成色差,影响产品品质。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种镀膜玻璃均匀性更好的镀膜系统及镀膜玻璃的制造方法。一种镀膜系统,包括真空室,以及设置在真空室的溅射靶台、基板台、电场装置及磁场装置,所述磁场装置包括第一磁场装置和第二磁场装置,所述第一磁场装置、基板台、溅射靶台、第二磁场装置位于所述电场装置产生电场的区域内,且沿所述电场装置产生的电场方向依次排列设置,所述第一磁场装置位于预计镀膜厚度较薄区域内,且与对应的所述基板台上待镀膜的玻璃基板正对设置。上述镀膜系统,由于磁场装置包括第一磁场装置和第二磁场装置,所述第一磁场装置、基板台、溅射靶台、第二磁场装置位于所述电场装置产生电场的区域内,且沿所述电场装置产生的电场方向依次排列设置,所述第一磁场装置位于预计镀膜厚度较薄区域内 ...
【技术保护点】
1.一种镀膜系统,包括真空室,以及设置在真空室的溅射靶台、基板台、电场装置及磁场装置,其特征在于,所述磁场装置包括第一磁场装置和第二磁场装置,所述第一磁场装置、基板台、溅射靶台、第二磁场装置位于所述电场装置产生电场的区域内,且沿所述电场装置产生的电场方向依次排列设置,所述第一磁场装置位于预计镀膜厚度较薄区域内,且与对应的所述基板台上待镀膜的玻璃基板正对设置。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜系统,包括真空室,以及设置在真空室的溅射靶台、基板台、电场装置及磁场装置,其特征在于,所述磁场装置包括第一磁场装置和第二磁场装置,所述第一磁场装置、基板台、溅射靶台、第二磁场装置位于所述电场装置产生电场的区域内,且沿所述电场装置产生的电场方向依次排列设置,所述第一磁场装置位于预计镀膜厚度较薄区域内,且与对应的所述基板台上待镀膜的玻璃基板正对设置。2.根据权利要求1所述的镀膜系统,其特征在于,所述溅射靶台上的溅射靶材包括纳米铟锡氧化物材料或氧化锡锑材料,所述第一磁场装置为多个磁铁,且所述多个磁铁的位置分别与所述基板台上待镀膜的玻璃基板的边角位置对应。3.根据权利要求1所述的镀膜系统,其特征在于,所述溅射靶材包括抗反射增透材料,所述第一磁场装置为多个磁铁,且所述多个磁铁的位置分别与所述基板台上的待镀膜玻璃基板的上下边缘位置对应。4.根据权利要求1所述的镀膜系统,其特征在于,所述真空室还包括对所述基板台上的玻璃基板进行加热的加热装置。5.根据权利要求1所述的镀膜系统,...
【专利技术属性】
技术研发人员:张迅,易伟华,郑芳平,周慧蓉,
申请(专利权)人:江西沃格光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江西,36
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。