用于真空处理的方法和设备技术

提供一种用于基板(10)的真空处理的方法。所述方法包括：在所述基板(10)沿着运输路径(20)移动通过处理区域(110)时，使用设于所述处理区域(110)中的离子蚀刻源(130)用离子来辐照基板表面(11)或所述基板(10)上的第一材料层的表面；沿着所述运输路径(20)将所述基板(10)移动到沉积区域(120)中；和在所述基板(10)静止时，在所述基板表面(11)上方或所述第一材料层上方沉积至少一个第二材料层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于真空处理的方法和设备
本公开内容的实施方式涉及一种用于基板的真空处理的方法和一种用于基板的真空处理的设备。本公开内容的实施方式特别涉及用于在显示装置的制造中使用的物理气相沉积(例如，溅射沉积)的方法和设备。
技术介绍
用于在基板上进行层沉积的技术包括例如溅射沉积、热蒸发和化学气相沉积(CVD)。溅射沉积工艺可以用于在基板上沉积材料层，诸如导电材料层。设在基板载体上的基板可被运输通过处理系统。为了在基板上执行多个处理措施，可以使用处理模块的直列(in-line)布置。直列处理系统包括多个连续处理模块，其中处理措施相继在各个处理模块中进行。多种材料(诸如金属，还包括金属的氧化物、氮化物或碳化物)可以用于沉积在基板上。涂覆材料可以在若干应用和若干
中使用。例如，用于显示器的基板通常通过物理气相沉积(PVD)工艺(诸如溅射工艺)涂覆，例如，以在基板上形成薄膜晶体管(TFT)。随着新的显示技术发展并且鉴于朝更大的显示器尺寸的趋势，对显示器中使用的提供改进的性能(例如，关于电气特性的性能)的层或层系统有持续需求。举例来说，在导电层之间的低接触电阻可能是有益的。在导电层之间的接触界面处的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于基板的真空处理的方法，包括：在所述基板沿着运输路径移动通过处理区域时，使用设于所述处理区域中的离子蚀刻源用离子来辐照基板表面或所述基板上的第一材料层的表面；沿着所述运输路径将所述基板移动到沉积区域中；和在所述基板静止时，在所述基板表面上方或所述第一材料层上方沉积至少一个第二材料层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于基板的真空处理的方法，包括：在所述基板沿着运输路径移动通过处理区域时，使用设于所述处理区域中的离子蚀刻源用离子来辐照基板表面或所述基板上的第一材料层的表面；沿着所述运输路径将所述基板移动到沉积区域中；和在所述基板静止时，在所述基板表面上方或所述第一材料层上方沉积至少一个第二材料层。2.如权利要求1所述的方法，其中在用所述离子来辐照所述基板表面或所述第一材料层的所述表面时，所述离子蚀刻源是移动的或静止的。3.一种用于基板的真空处理的方法，包括：使设于处理区域中的离子蚀刻源相对于设于运输路径上的基板移动；在所述离子蚀刻源移动时，用由所述离子蚀刻源提供的离子来辐照基板表面或所述基板上的第一材料层的表面；沿着所述运输路径将所述基板移动到沉积区域中；和在所述基板表面上方或所述第一材料层上方沉积至少一个第二材料层。4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述离子蚀刻源是线性离子蚀刻源。5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，进一步包括：在所述基板表面上方沉积所述第一材料层。6.如权利要求2或3所述的方法，其中移动所述离子蚀刻源包括在平行于所述运输路径的第一方向和垂直于所述运输路径的第二方向中的至少一个方向上移动。7.如权利要求6所述的方法，其中所述离子蚀刻源在所述第一方向和所述第二方向上顺序地或同时地移动。8.如权利要求3至7中任一项所述的方法，其中在用所述离子来辐照所述基板表面或所述第一材料层的所述表面时，所述基板是静止的或沿着所述运输路径移动。9.如权利要求3至8中任一项所述的方法，其中在所述基板静止时，将所述至少一个第二材料层沉积在所述基板表面上方或所述第一材料层的所述表面上方。10.如权利要求3至8中任一项所述的方法，其中在所述基板沿着所述运输路径移动通过所述沉积区域时，...

【专利技术属性】
技术研发人员：马库斯·哈尼卡，奥利弗·格劳，托马斯·伯杰，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US