圆片清洗装置及清洗方法制造方法及图纸

本申请公开了一种圆片清洗装置及清洗方法，其特征在于：包括传动系统、加热清洗系统、喷淋系统、烘干系统和控制器；传动系统包括传动轮、变频电机和输送带，变频电机分别连接传动轮和控制器，输送带铺在加热清洗系统、喷淋系统和烘干系统表面；加热清洗系统为一个石英槽体，底部设有加热器和温度传感器，石英槽体底部连接加酸箱；喷淋系统包括上喷淋管路和下喷淋管路，上喷淋管路和下喷淋管路通过水管与自来水管道接口连接；烘干系统为热风机，热风机与控制器连接。本发明专利技术的圆片清洗装置动作准确，以及工作稳定可靠，清洗过程中不损伤圆片，能够提高对圆片表面的污染物的清洗效果，具备较好的市场应用前景。

Wafer Cleaning Device and Cleaning Method

The application discloses a disc cleaning device and cleaning method, which is characterized by: transmission system, heating and cleaning system, spraying system, drying system and controller; transmission system includes transmission wheel, frequency conversion motor and conveyor belt, which are connected with transmission wheel and controller respectively, and conveyor belt is laid on the surface of heating and cleaning system, spraying system and drying system; The washing system consists of a quartz groove body with heater and temperature sensor at the bottom, and acid-adding box at the bottom of the quartz groove body. The spraying system consists of upper spraying pipeline and lower spraying pipeline. The upper spraying pipeline and the lower spraying pipeline are connected with the tap water pipeline through the water pipe interface. The drying system is a hot air fan, and the hot air fan is connected with the controller. The disc cleaning device of the invention has accurate action, stable and reliable operation, does not damage the disc in the cleaning process, can improve the cleaning effect of pollutants on the surface of the disc, and has good market application prospect.

【技术实现步骤摘要】
圆片清洗装置及清洗方法
本专利技术属于半导体芯片制造
，具体涉及一种圆片清洗装置及清洗方法。
技术介绍
集成电路(IC)是电子信息产业的核心，是推动国民经济和社会信息化发展的最主要的高新技术之一，目前，以半导体集成电路为基础的电子信息产品的世界贸易额已达到了1万亿美元，成为世界第一大产业，谁控制了超大规模集成电路技术，谁就控制了世界产业。随着科技的进步，半导体电子产品已经应用到社会生活的各个领域，而这些半导体产品都具有半导体圆片，由此可见，半导体圆片在当今生活中具有显著的重要性。制造半导体器件时，通常是在一个公共半导体圆片上形成多个芯片，这要经过多道处理工序，包括腐蚀、涂敷、掺杂、镀敷等工序，直到最后形成多层结构为止。经过这许多工序之后，最好将圆片加以清洗，以除去在先前各项作业过程中产生的杂质和其它微粒，为以后的各项作业准备好圆片。随着半导体芯片各组成部分在体积上的不断缩小，半导体芯片日益复杂，在各项作业之间确保圆片充分清洗和干燥就变得越来越重要，以保证达到高度清洁和争取最高的产量。因为任何夹带的杂质会大大影响成品的质量和可达到的产量。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种圆片本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种圆片清洗装置，其特征在于：包括传动系统、加热清洗系统、喷淋系统、烘干系统和控制器；传动系统包括传动轮、变频电机和输送带，变频电机分别连接传动轮和控制器，输送带铺在加热清洗系统、喷淋系统和烘干系统表面；加热清洗系统为一个石英槽体，底部设有加热器和温度传感器，石英槽体底部连接加酸箱，上部和底部均设有排放口，排放口连接排放管道；喷淋系统包括上喷淋管路和下喷淋管路，上喷淋管路和下喷淋管路通过水管与自来水管道接口连接，喷淋系统底部设有废水排放口，废水排放口连接废水排放管道；烘干系统为热风机，热风机与控制器连接；加酸箱与石英槽体的连接管路上设有流量阀，上喷淋管路和下喷淋管路与自来水管道连接的管道上...

【技术特征摘要】
1.一种圆片清洗装置，其特征在于：包括传动系统、加热清洗系统、喷淋系统、烘干系统和控制器；传动系统包括传动轮、变频电机和输送带，变频电机分别连接传动轮和控制器，输送带铺在加热清洗系统、喷淋系统和烘干系统表面；加热清洗系统为一个石英槽体，底部设有加热器和温度传感器，石英槽体底部连接加酸箱，上部和底部均设有排放口，排放口连接排放管道；喷淋系统包括上喷淋管路和下喷淋管路，上喷淋管路和下喷淋管路通过水管与自来水管道接口连接，喷淋系统底部设有废水排放口，废水排放口连接废水排放管道；烘干系统为热风机，热风机与控制器连接；加酸箱与石英槽体的连接管路上设有流量阀，上喷淋管路和下喷淋管路与自来水管道连接的管道上设有进水阀，排放管道上设有电磁阀，废水排放管道设有废水排放阀，上述流量阀、进水阀、电磁阀和废水排放阀分别与控制器连接。2.根据权利要求1所述的圆片清洗装置，其特征在于：所述控制器连接有触控面板，触控面板为人机界面，是一种可接收触头输入讯号的感应式液晶显示装置。3.根据权利要求1所述的圆片清洗装置，其特征在于：所述控制器为集成电路、PLC控制器或单片机。4.根据权利要求1所述的圆片清洗装置，其特征在于：所述控制器设有工作指示灯和故障指示灯。5.根据权利要求1所述的圆片清洗装置，其特征在于：所述控制器设有蜂鸣器。6.根据权利要求1所述的圆片清洗装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：柯武生，
申请(专利权)人：广西桂芯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广西,45