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一种化工原料用研磨装置制造方法及图纸

技术编号:19943495 阅读:16 留言:0更新日期:2019-01-03 01:18
本实用新型专利技术公开了化工机械技术领域的一种化工原料用研磨装置,所述支撑柱相对一侧均设置有固定杆,所述固定杆另一端连接安装有第一电机架,所述第一电机架内腔安装有第一电机,所述基座顶部设置有箱体,所述箱体顶部设置有第二电机架,所述第二电机架内腔设置有第二电机,所述第二电机底部设置有伸缩杆,所述伸缩杆底部设置有第一磨盘,所述第一电机顶部设置有输出轴,所述输出轴顶部设置有第二磨盘,所述第二磨盘上均匀设置有通孔,通过伸缩杆可以调节第一磨盘的高度,使其升到指定位置时添加一定的化工原料,防止直接将所有原料一次性倒入导致堵塞或者研磨不均匀的情况发生,通过第一磨盘和第二磨盘反方向旋转可以对化工原料更好的研磨。

A Grinding Device for Chemical Raw Materials

The utility model discloses a grinding device for chemical raw materials in the technical field of chemical machinery. The supporting column is provided with a fixed rod on the opposite side, the other end of the fixed rod is connected with a first motor frame, the first motor frame inner cavity is equipped with a first motor frame, the top of the base is equipped with a box body, the top of the box body is equipped with a second motor frame and the second motor frame. The inner cavity is provided with a second motor, the bottom of the second motor is provided with a telescopic rod, the bottom of the telescopic rod is provided with a first grinding disc, the top of the first motor is provided with an output shaft, the top of the output shaft is provided with a second grinding disc, and the top of the second grinding disc is evenly provided with a through hole. The height of the first grinding disc can be adjusted by the telescopic rod, so that a certain amount is added when it rises to a specified position. Chemical raw materials, to prevent all raw materials directly into the one-time clogging or abrasive uneven situation occurs, through the first and second abrasive disc reverse rotation can be better grinding of chemical raw materials.

【技术实现步骤摘要】
一种化工原料用研磨装置
本技术涉及化工机械
,具体为一种化工原料用研磨装置。
技术介绍
在化工加工过程中,需要将化工原料研磨成粉状,以便原料之间能够充分接触,使其能够反应更加充分,现有对原料研磨时,往往是直接将原料一起倒入到研磨设备中,导致原料很容易堆积在一起,影响研磨轮对原料进行研磨,甚至会发生堵塞的现象,使得研磨无法持续的进行,为此,我们提出了一种化工原料用研磨装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种化工原料用研磨装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种化工原料用研磨装置,包括基座,所述基座底部四角处均设置有支撑柱,所述支撑柱相对一侧均设置有固定杆,所述固定杆另一端连接安装有第一电机架,所述第一电机架内腔安装有第一电机,所述基座顶部设置有箱体,所述箱体顶部设置有第二电机架,所述第二电机架内腔设置有第二电机,所述第二电机底部设置有伸缩杆,且伸缩杆延伸至箱体内腔,所述伸缩杆底部设置有第一磨盘,所述第一电机顶部设置有输出轴,且输出轴延伸至箱体内腔,所述输出轴顶部设置有第二磨盘,所述第二磨盘上均匀设置有通孔,所述通孔内腔顶部均设置有过滤层,所述箱体左侧中部设置有进料管,所述进料管顶部设置有储料箱,所述箱体底部左侧设置有出料管,且出料管贯穿基座延伸至基座底部,所述基座右侧通过安装杆设置有控制开关,所述第一电机和第二电机均与控制开关电性连接。优选的,所述第一磨盘(10)底部均匀设置有碾压凸粒(101),所述第一磨盘底部均匀设置有碾压槽,且第二磨盘顶部设置有与碾压槽相匹配的碾压辊。优选的,所述第一磨盘和第二磨盘分别与伸缩杆和输出轴螺纹连接,且第一磨盘和第二磨盘中心处设置有相匹配的螺纹孔。优选的,所述过滤层为高效过滤层,且高效过滤层为三层高效过滤网编织而成,高效过滤层顶部与第二磨盘顶部为同一水平线。优选的,所述出料管前端面设置有控制阀,且控制阀外壁设置有防滑套,防滑套外壁均匀设置有防滑凸粒,防滑凸粒为半圆形结构。优选的,相邻所述箱体内壁设置有防腐耐磨层,且防腐耐磨层通过玻璃胶固定于箱体内壁。优选的,所述支撑柱底部设置有防滑垫,且防滑垫为橡胶防滑垫,橡胶防滑垫底部设置有耐磨垫,耐磨垫底部设置有防滑螺纹,防滑螺纹呈横向排列。与现有技术相比,本技术的有益效果是:通过伸缩杆可以调节第一磨盘的高度,使其升到指定位置时添加一定的化工原料,防止直接将所有原料一次性倒入导致堵塞或者研磨不均匀的情况发生,通过第一磨盘和第二磨盘反方向旋转可以对化工原料更好的研磨,满足使用需求。附图说明图1为本技术结构示意图。图2为本技术第二磨盘俯视图。图3为本技术第一磨盘仰视图。图中:1基座、2支撑柱、3固定杆、4第一电机架、5第一电机、6箱体、7第二电机架、8第二电机、9伸缩杆、10第一磨盘、101碾压凸粒、102碾压槽、11输出轴、12第二磨盘、121碾压辊、13通孔、14过滤层、15进料管、16储料箱、17出料管、18控制开关。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3,本技术提供一种技术方案:一种化工原料用研磨装置,包括基座1,基座1底部四角处均设置有支撑柱2,支撑柱2相对一侧均设置有固定杆3,固定杆3另一端连接安装有第一电机架4,第一电机架4内腔安装有第一电机5,基座1顶部设置有箱体6,箱体6顶部设置有第二电机架7,第二电机架7内腔设置有第二电机8,第二电机7底部设置有伸缩杆9,且伸缩杆9延伸至箱体6内腔,伸缩杆9底部设置有第一磨盘10,第一电机5顶部设置有输出轴11,且输出轴11延伸至箱体6内腔,输出轴11顶部设置有第二磨盘12,第二磨盘12上均匀设置有通孔13,通孔13内腔顶部均设置有过滤层14,箱体6左侧中部设置有进料管15,进料管15顶部设置有储料箱16,箱体6底部左侧设置有出料管17,且出料管17贯穿基座1延伸至基座1底部,基座1右侧通过安装杆设置有控制开关18,第一电机5和第二电机8均与控制开关18电性连接。其中,第一磨盘10底部均匀设置有碾压凸粒101,第一磨盘10底部均匀设置有碾压槽102,且第二磨盘12顶部设置有与碾压槽102相匹配的碾压辊121,第一磨盘10和第二磨盘12分别与伸缩杆9和输出轴11螺纹连接,且第一磨盘10和第二磨盘12中心处设置有相匹配的螺纹孔,通过螺纹连接便于拆卸对其进行更换清洗,过滤层14为高效过滤层,且高效过滤层为三层高效过滤网编织而成,三层高效过滤网可以增加过滤的性能,使其更加符合使用需求,高效过滤层顶部与第二磨盘12顶部为同一水平线,出料管15前端面设置有控制阀,且控制阀外壁设置有防滑套,防滑套外壁均匀设置有防滑凸粒,防滑凸粒为半圆形结构,相邻箱体6内壁设置有防腐耐磨层,且防腐耐磨层通过玻璃胶固定于箱体6内壁,支撑柱2底部设置有防滑垫,且防滑垫为橡胶防滑垫,橡胶防滑垫底部设置有耐磨垫,耐磨垫可以增加其使用寿命,耐磨垫底部设置有防滑螺纹,防滑螺纹呈横向排列,防滑螺纹可以防止研磨装置在工作时打滑等情况。工作原理:当需要使用到研磨装置时,控制开关18与外部电源电性连接,通过控制开关18控制伸缩杆9带动第一磨盘10上升,通过储料箱16和进料管15的相互配合对箱体6添加原料,当原料添加完毕后,通过控制开关18放下第一磨盘10,通过控制开关18启动第一电机5,第一电机5通过输出轴11带动第二磨盘12逆时针旋转,同时通过控制开关18启动第二电机8,第二电机8通过伸缩杆9带动第一磨盘10顺时针旋转,对第一磨盘10和第二磨盘12之间的化工原料进行研磨,当化工原料研磨符合使用需求时,通过第二磨盘12上的通孔13经过过滤层14的过滤向下掉落,通过出料管17排出,出料管17前端面设置有控制阀,通过控制阀可以控制出料管17的出料量。尽管已经示出和描述了本技术的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化工原料用研磨装置,包括基座(1),其特征在于:所述基座(1)底部四角处均设置有支撑柱(2),所述支撑柱(2)相对一侧均设置有固定杆(3),所述固定杆(3)另一端连接安装有第一电机架(4),所述第一电机架(4)内腔安装有第一电机(5),所述基座(1)顶部设置有箱体(6),所述箱体(6)顶部设置有第二电机架(7),所述第二电机架(7)内腔设置有第二电机(8),所述第二电机(8)底部设置有伸缩杆(9),且伸缩杆(9)延伸至箱体(6)内腔,所述伸缩杆(9)底部设置有第一磨盘(10),所述第一电机(5)顶部设置有输出轴(11),且输出轴(11)延伸至箱体(6)内腔,所述输出轴(11)顶部设置有第二磨盘(12),所述第二磨盘(12)上均匀设置有通孔(13),所述通孔(13)内腔顶部均设置有过滤层(14),所述箱体(6)左侧中部设置有进料管(15),所述进料管(15)顶部设置有储料箱(16),所述箱体(6)底部左侧设置有出料管(17),且出料管(17)贯穿基座(1)延伸至基座(1)底部,所述基座(1)右侧通过安装杆设置有控制开关(18),所述第一电机(5)和第二电机(8)均与控制开关(18)电性连接。...

【技术特征摘要】
1.一种化工原料用研磨装置,包括基座(1),其特征在于:所述基座(1)底部四角处均设置有支撑柱(2),所述支撑柱(2)相对一侧均设置有固定杆(3),所述固定杆(3)另一端连接安装有第一电机架(4),所述第一电机架(4)内腔安装有第一电机(5),所述基座(1)顶部设置有箱体(6),所述箱体(6)顶部设置有第二电机架(7),所述第二电机架(7)内腔设置有第二电机(8),所述第二电机(8)底部设置有伸缩杆(9),且伸缩杆(9)延伸至箱体(6)内腔,所述伸缩杆(9)底部设置有第一磨盘(10),所述第一电机(5)顶部设置有输出轴(11),且输出轴(11)延伸至箱体(6)内腔,所述输出轴(11)顶部设置有第二磨盘(12),所述第二磨盘(12)上均匀设置有通孔(13),所述通孔(13)内腔顶部均设置有过滤层(14),所述箱体(6)左侧中部设置有进料管(15),所述进料管(15)顶部设置有储料箱(16),所述箱体(6)底部左侧设置有出料管(17),且出料管(17)贯穿基座(1)延伸至基座(1)底部,所述基座(1)右侧通过安装杆设置有控制开关(18),所述第一电机(5)和第二电机(8)均与控制开关(18)电性连接。2.根据权利要求1所述的一种化工原料用研磨装置,其特征在于:...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈伟珍
申请(专利权)人:陈伟珍
类型:新型
国别省市:福建,35

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