一种氮化硅制备装置及制备系统制造方法及图纸

技术编号:19922076 阅读:42 留言:0更新日期:2018-12-29 00:56
本实用新型专利技术提供了一种氮化硅制备装置及制备系统,属于机械设计及制备领域。本实用新型专利技术通过上述设计得到的氮化硅制备装置;通过将反应釜设置在中间腔,通过加热装置,加热反应釜,有利于反应充分利用加热装置的功能,且通过反应箱源,能保证热量不散失,利于形成较好的温度气氛,提高氮化硅制备装置的制备效率;利用了氮化硅制备装置的制备系统,也能较好的制备高纯度的氮化硅粉末。

【技术实现步骤摘要】
一种氮化硅制备装置及制备系统
本技术涉及机械设计及制备领域,具体而言,涉及一种氮化硅制备装置及制备系统。
技术介绍
氮化硅陶瓷,是一种烧结时不收缩的无机材料陶瓷。氮化硅的强度很高,尤其是热压氮化硅,是世界上最坚硬的物质之一。具有高强度、低密度、耐高温等性质。目前,气相法生产氮化硅粉末的方法,由于加热不均匀,还是会影响氮化硅粉末的纯度。
技术实现思路
本技术的目的在于提供了一种氮化硅制备装置,通过设置的加热装置,能更好加热,维持热量的均衡,保证氮化硅制备反应稳定高效的进行。本技术的另一目的在于提供一种氮化硅制备系统,该制备系统可以大量高效的准备氮化硅粉末。本技术是这样实现的:一种氮化硅制备装置,包括:反应箱,反应箱由箱侧壁、底板和箱顶板构成,箱侧壁、底板和箱顶板围成中间腔;反应釜,反应釜设置于中间腔,反应釜与底板固定连接;加热装置,加热装置加热反应釜中的反应原料;气体管,气体管设置于箱顶板,气体管与中间腔连通。进一步地,在本技术较佳的实施例中,箱侧壁、底板和箱顶板均包括镜面层、隔热层和外壁层,镜面层为靠近中间腔的内层。进一步地,在本技术较佳的实施例中,反应釜为坩埚反应器。进一步地,在本技术较佳本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氮化硅制备装置,其特征在于,包括:反应箱,所述反应箱由箱侧壁、底板和箱顶板构成,所述箱侧壁、所述底板和所述箱顶板围成中间腔;反应釜,所述反应釜设置于所述中间腔,所述反应釜与所述底板固定连接;加热装置,所述加热装置加热所述反应釜中的反应原料;气体管,所述气体管设置于所述底板,所述气体管与所述中间腔连通。

【技术特征摘要】
1.一种氮化硅制备装置,其特征在于,包括:反应箱,所述反应箱由箱侧壁、底板和箱顶板构成,所述箱侧壁、所述底板和所述箱顶板围成中间腔;反应釜,所述反应釜设置于所述中间腔,所述反应釜与所述底板固定连接;加热装置,所述加热装置加热所述反应釜中的反应原料;气体管,所述气体管设置于所述底板,所述气体管与所述中间腔连通。2.根据权利要求1所述的氮化硅制备装置,其特征在于,所述箱侧壁、所述底板和所述箱顶板均包括镜面层、隔热层和外壁层,所述镜面层为靠近所述中间腔的内层。3.根据权利要求1所述的氮化硅制备装置,其特征在于,所述反应釜为坩埚反应器。4.根据权利要求3所述的氮化硅制备装置,其特征在于,所述底板设置有底砧,所述坩埚反应器通过所述底砧与所述底板连接。5.根据权利要求4所述的氮化...

【专利技术属性】
技术研发人员:颜井意杜建周黄燕梅杨子润
申请(专利权)人:江苏东浦精细陶瓷科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1