等离子体处理装置的保养方法制造方法及图纸

等离子体处理装置具备：支承构造体，其支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括静电卡盘；以及容器，其设置到保持部的下侧。容器具有：筒状的容器主体；底盖，其封堵容器主体的下侧开口，构成为能够相对于容器主体拆卸。保养方法包括如下工序：使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；将底盖从容器主体拆卸的工序；以及对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】等离子体处理装置的保养方法
本专利技术的实施方式涉及等离子体处理装置的保养方法。
技术介绍
在半导体器件这样的电子器件的制造中，有时进行针对被加工物的等离子体处理、例如等离子体蚀刻。等离子体处理使用等离子体处理装置来进行。在等离子体处理装置中，向由腔室主体提供的腔室内供给气体，该气体被等离子体源激励。由此，在腔室中生成等离子体，被试样台支承着的被加工物被等离子体中的离子和/或自由基加工。作为这样的等离子体处理装置的一种，存在如下等离子体处理装置，该等离子体处理装置具备：旋转驱动装置，其使试样台以等离子体导出方向为轴线旋转；以及倾动驱动装置，其使试样台相对于等离子体导出方向倾斜。这样的等离子体处理装置记载于专利文献1。在专利文献1所记载的等离子体处理装置中，试样台安装于旋转体，该旋转体延伸到密闭构造的容器的内部。在该容器的内部设置有旋转驱动装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平1-117317号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在专利文献1所记载的等离子体处理装置中，为了对设置到容器的内部的旋转驱动装置这样的各种零部件中任一个进行保养，需要将包括试样台、旋转体、以及容器的装配体(支承构造体)从腔室取出。因而，构成支承构造体的零部件的保养并不容易。用于解决问题的方案在一技术方案中，可提供一种等离子体处理装置的保养方法。该等离子体处理装置具备腔室主体、气体供给部、排气装置、等离子体源、支承构造体、以及第1驱动装置。腔室主体提供腔室。气体供给部构成为，向腔室供给气体。排气装置构成为，对腔室进行减压。等离子体源构成为，使腔室内的气体激励。支承构造体构成为，在腔室内支承被加工物。第1驱动装置构成为，使支承构造体在腔室内绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有保持部、容器、密封构件、第2驱动装置、以及旋转连接器。保持部包括静电卡盘。静电卡盘构成为，保持被加工物。保持部设置成能够绕与第1轴线正交的第2轴线旋转。容器设置于保持部的下侧。密封构件介于容器与保持部之间，构成为使容器内的空间与腔室分离。第2驱动装置设置于容器内，构成为使保持部绕第2轴线旋转。旋转连接器与静电卡盘的电极电连接起来。容器具有筒状的容器主体和底盖。底盖是使容器主体的下侧开口封闭的构件，构成为能够相对于容器主体拆卸。一技术方案的保养方法包括如下工序：(i)使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；(ii)将底盖从容器主体拆卸的工序；以及(iii)对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。在一技术方案的保养方法中，在进行设置到支承构造体的容器的内部的零部件的保养之际，能够使支承构造体绕第1轴线旋转，以使底盖相对于静电卡盘位于上方。然后，能够将底盖从容器主体拆卸。因而，在将支承构造体配置到腔室主体内的状态下，能够容易地访问容器内的零部件。所以，构成支承构造体的零部件的保养较容易。在一实施方式中，保持部还具有绝缘性的基座构件和固定件。基座构件介于静电卡盘与容器主体之间。固定件构成为，将静电卡盘固定为能够相对于基座构件拆卸。在该实施方式中，保养方法还包括如下工序：(iv)将由固定件进行的静电卡盘相对于基座构件的固定解除的工序；以及(v)将静电卡盘从基座构件拆卸的工序。在该实施方式中，通过将由固定件进行的静电卡盘相对于基座构件的固定解除，能够将静电卡盘从基座构件容易地拆卸。因而，能够容易地进行静电卡盘的更换这样的保养。在一实施方式中，在保持部形成有沿着第2轴线延伸的方向延伸的多个贯通孔。支承构造体还具有多个衬套销、多个第3驱动装置、以及多个保持件。多个衬套销分别设置成能够插入多个贯通孔。多个第3驱动装置设置于容器内。多个第3驱动装置构成为，使该多个衬套销单独移动，以使多个衬套销的上端的位置在比静电卡盘的上表面靠上方的位置与容器内的位置之间变化。多个保持件呈筒状。多个保持件分别安装于多个第3驱动装置。多个衬套销的基端部分别嵌入多个保持件的内孔。在该实施方式中，保养方法还包括如下工序：(vi)使多个衬套销中的至少一个衬套销移动，以使该至少一个衬套销的上端位于比静电卡盘的上表面靠上方的位置的工序；以及(vii)将至少一个衬套销从多个保持件中的相对应的至少一个保持件抽出的工序。在该实施方式中，在使衬套销的上端位于比静电卡盘的上表面靠上方的位置的状态下，能够从保持件抽出衬套销。因而，能够容易地进行衬套销的更换这样的保养。专利技术的效果如以上说明那样，构成支承构造体的零部件的保养变得容易。附图说明图1是概略地表示一实施方式的等离子体处理装置的图。图2是概略地表示一实施方式的等离子体处理装置的图。图3是表示一实施方式的等离子体源的图。图4是表示一实施方式的等离子体源的图。图5是表示一实施方式的支承构造体的剖视图。图6是表示一实施方式的支承构造体的剖视图。图7是表示另一实施方式的固定件的图。图8是表示使底盖相对于静电卡盘位于上方的状态的支承构造体的图。图9是表示将底盖拆卸后的状态的支承构造体的图。图10是表示将静电卡盘拆卸后的状态的支承构造体的图。图11是表示衬套销被拔出后的状态的支承构造体的图。具体实施方式以下，参照附图详细地说明各种实施方式。此外，在各附图中，对相同或相当的部分标注相同的附图标记。图1和图2是概略地表示一实施方式的等离子体处理装置的图，在包括沿着铅垂方向延伸的轴线PX的一平面处将腔室主体剖切来表示该等离子体处理装置。此外，在图1中，表示以随后论述的第2轴线AX2与轴线PX一致的方式设定了支承构造体的绕第1轴线AX1的旋转方向位置的状态(非倾斜状态)的等离子体处理装置。在图2中，表示以第2轴线AX2与轴线PX交叉的方式设定了支承构造体的绕第1轴线AX1的旋转方向位置的状态(倾斜状态)的等离子体处理装置。图1和图2所示的等离子体处理装置10具备腔室主体12、气体供给部14、等离子体源16、支承构造体18、排气装置20、以及第1驱动装置24。在一实施方式中，等离子体处理装置10还能具备偏压供电部22和控制部Cnt。腔室主体12具有大致圆筒形状。在一实施方式中，腔室主体1的中心轴线与轴线PX一致。该腔室主体12提供了其内部空间、即腔室S。在一实施方式中，腔室主体12包括上侧部分12a、中间部分12b、以及下侧部分12c。上侧部分12a位于中间部分12b的上方，中间部分12b位于下侧部分12c的上方。中间部分12b和下侧部分12c是一体的筒状体。上侧部分12a是与提供中间部分12b和下侧部分12c的筒状体分体的筒状体。上侧部分12a的下端与中间部分12b的上端结合。在上侧部分12a的下端与中间部分12b的上端之间设置有O形密封圈这样的密封构件。另外，上侧部分12a和中间部分12b由固定件、例如螺钉结合。该上侧部分12a相对于中间部分12b能够拆卸。上侧部分12a在进行等离子体处理装置10的保养时根据需要被从中间部分12b拆卸。在由中间部分12b围成的区域、即、容纳支承构造体18的区域中，腔室S具有大致恒定的宽度。另外，腔室S在容纳支承构造体18的区域的下侧的区域中呈宽度随着朝向该腔室S的底部逐渐变窄的锥形状。另外，腔室主体12的底部提供有排气口12e，该排气口12e相对于轴线PX轴对称地形成。气体供给部14构本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子体处理装置的保养方法，该等离子体处理装置用于进行针对被加工物的等离子体处理，其中，该等离子体处理装置具备：腔室主体，其提供腔室；气体供给部，其向所述腔室供给气体；排气装置，其对所述腔室进行减压；等离子体源，其使所述腔室内的气体激励；支承构造体，其在所述腔室内支承所述被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使所述支承构造体在所述腔室内绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转，所述支承构造体具有：保持部，其包括保持被加工物的静电卡盘，其设置成能够绕与所述第1轴线正交的第2轴线旋转；容器，其设置到所述保持部的下侧；密封构件，其介于所述容器与所述保持部之间，使所述容器内的空间与所述腔室分离；第2驱动装置，其设置于所述容器内，该第2驱动装置构成为，使所述保持部绕所述第2轴线旋转；以及旋转连接器，其与所述静电卡盘的电极电连接起来，所述容器具有：筒状的容器主体；以及底盖，其使所述容器主体的下侧开口封闭，该底盖构成为，能够相对于所述容器主体拆卸，该保养方法包括如下工序：使所述支承构造体绕所述第1轴线旋转、以使所述底盖相对于所述静电卡盘位于上方的工序；将所述底盖从所述容器主体拆卸的工序；以及对设置到所述容器主体内的零部件进行保养的工序。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.21 JP 2016-0853471.一种等离子体处理装置的保养方法，该等离子体处理装置用于进行针对被加工物的等离子体处理，其中，该等离子体处理装置具备：腔室主体，其提供腔室；气体供给部，其向所述腔室供给气体；排气装置，其对所述腔室进行减压；等离子体源，其使所述腔室内的气体激励；支承构造体，其在所述腔室内支承所述被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使所述支承构造体在所述腔室内绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转，所述支承构造体具有：保持部，其包括保持被加工物的静电卡盘，其设置成能够绕与所述第1轴线正交的第2轴线旋转；容器，其设置到所述保持部的下侧；密封构件，其介于所述容器与所述保持部之间，使所述容器内的空间与所述腔室分离；第2驱动装置，其设置于所述容器内，该第2驱动装置构成为，使所述保持部绕所述第2轴线旋转；以及旋转连接器，其与所述静电卡盘的电极电连接起来，所述容器具有：筒状的容器主体；以及底盖，其使所述容器主体的下侧开口封闭，该底盖构成为，能够相对于所述容器主体拆卸，该保养方法包括如下工序：使所述支承构造体绕所述第1轴线旋转、以使所述底盖相对于所述静电卡盘位于上方的工序；将所述底盖从所述容器主体拆卸的工序；...

【专利技术属性】
技术研发人员：松本和也，保坂勇贵，大秦充敬，山本高志，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP