阵列基板及其制作方法和显示装置制造方法及图纸

一种阵列基板及其制作方法以及显示装置。该阵列基板的制作方法包括在基板上形成源漏金属图案，基板包括显示区和位于显示区周围的周边区，位于周边区的源漏金属图案包括多个金属线；以及在各金属线的侧面形成保护结构，保护结构接触并覆盖金属线的侧面。由此，该阵列基板的制作方法可防止刻蚀液刻蚀金属线，从而防止阵列基板上短路或断路的发生，进而可提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法和显示装置
本专利技术的实施例涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有机发光显示器(OrganicLightEmittingDiode，OLED)成为市场的主流。液晶显示器通常包括设置有多个薄膜晶体管的阵列基板、对置基板以及设置在阵列基板和对置基板之间的液晶层。有机发光显示器通常包括设置有多个薄膜晶体管的阵列基板、对置基板以及设置在阵列基板和对置基板之间的有机发光层。由于高分辨率具有较好的视觉效果，人们对于显示装置的分辨率的要求也越来越高。并且，随着可穿戴显示装置的发展，需要显示装置在较小的面积上安排更多的像素。
技术实现思路
本专利技术至少一个实施例提供一种阵列基板的制作方法，其包括：在基板上形成源漏金属图案，所述基板包括显示区和位于所述显示区周围的周边区，位于所述周边区的所述源漏金属图案包括多个金属线；以及在各所述金属线的侧面形成保护结构，所述保护结构接触并覆盖所述金属线的侧面。在一些示例中，所述在基板上形成源漏金属图案包括：在基板上形成源漏金属层；在所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成源漏金属图案，所述基板包括显示区和位于所述显示区周围的周边区，位于所述周边区的所述源漏金属图案包括多个金属线；以及在各所述金属线的侧面形成保护结构，所述保护结构接触并覆盖所述金属线的侧面。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制作方法，包括：在基板上形成源漏金属图案，所述基板包括显示区和位于所述显示区周围的周边区，位于所述周边区的所述源漏金属图案包括多个金属线；以及在各所述金属线的侧面形成保护结构，所述保护结构接触并覆盖所述金属线的侧面。2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其中，所述在基板上形成源漏金属图案包括：在基板上形成源漏金属层；在所述源漏金属层远离所述基板的一侧形成第一光刻胶；采用第一掩膜板对所述第一光刻胶进行曝光、显影以形成第一光刻胶图案；以及以所述第一光刻胶图案为掩膜对所述源漏金属层进行刻蚀以形成所述源漏金属图案。3.根据权利要求2所述的阵列基板的制作方法，其中，所述在各所述金属线的侧面形成保护结构包括：在所述源漏金属图案远离所述基板的一侧形成覆盖所述源漏金属图案的保护层；以及采用第二掩膜板对所述保护层进行图案化以去除所述金属线远离所述基板一侧的保护层并保留所述金属线的侧面的保护层以形成所述保护结构。4.根据权利要求3所述的阵列基板的制作方法，其中，所述保护层包括第二光刻胶。5.根据权利要求4所述的阵列基板的制作方法，其中，所述第一光刻胶为正性光刻胶，所述第二光刻胶为负性光刻胶，或者，所述第一光刻胶为负性光刻胶，所述第二光刻胶为正性光刻胶，所述第二掩膜板与所述第一掩膜板为同一掩膜板。6.根据权利要求1-5中任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘庭良，马宏伟，张锴，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11