一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法，涉及有机溶液成膜技术领域，为解决现有的真空干燥装置在干燥后，像素界定层的像素区域内所形成的膜层的厚度均匀性较差的问题而发明专利技术。该真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。本发明专利技术可用于有机膜层等的干燥。

【技术实现步骤摘要】
一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法
本专利技术涉及有机溶液成膜
，尤其涉及一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法。
技术介绍
随着显示技术的发展与进步，对于现有的显示装置而言，有机电致发光器件(OrganicLightEmittingDiode，简称OLED)作为一种电流型发光器件，因其相对于液晶显示器(LCD；全称LiquidCrystalDisplay)而言具有自发光、快速响应、宽视角，以及高亮度、色彩艳丽、体积轻薄等优点，越来越多地被应用于高性能显示领域当中。为了提高材料的利用率和制作效率，目前是采用喷墨打印(inkjetprinting，简称IJP)薄膜制备技术来制作OLED，例如，在制作OLED的过程中，需要在基板的电极上制作像素界定层(PDL)，然后再将有机发光材料的墨滴打印至像素界定层中指定的R/G/B像素坑中，以完成有机发光膜层的制作。在OLED的有机发光层制作完成后，需要对其进行真空干燥处理，以将膜层中的溶剂去除，其中，膜层的真空干燥是在真空干燥室中完成的，真空干燥室结构设计的是否合理直接关系着膜层真空干燥的效果。现有的一种真空干燥室，如图1所示，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，其特征在于，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。

【技术特征摘要】
1.一种真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载台具有放置面，所述放置面用于放置所述基板，其特征在于，还包括超声波发射单元，所述超声波发射单元用于向所述真空腔内发射超声波。2.根据权利要求1所述的真空干燥室，其特征在于，所述超声波发射单元位于所述真空腔内并且所述超声波发射单元的发射口朝向所述放置面设置。3.根据权利要求2所述的真空干燥室，其特征在于，所述放置面上开设有放置孔，所述超声波发射单元设置于所述放置孔内，并且所述超声波发射单元的发射口朝向所述放置孔位于所述放置面上的孔口设置。4.根据权利要求3所述的真空干燥室，其特征在于，所述超声波发射单元的发射口与所述放置面相平齐。5.根据权利要求3所述的真空干燥室，其特征在于，所述放置孔的数目为多个，多个所述放置孔均匀开设于所述放置面上，每个所述放置孔中均设置所述超声波发射单元，并且每个所述超声波发射单元的发射口均朝向该超声波...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾文斌，孙力，廖金龙，许名宏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11