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本发明公开了一种真空干燥室、真空干燥装置及真空干燥方法，涉及有机溶液成膜技术领域，为解决现有的真空干燥装置在干燥后，像素界定层的像素区域内所形成的膜层的厚度均匀性较差的问题而发明。该真空干燥室，包括真空腔以及设置于所述真空腔内的载台，所述载...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司授权不得商用。