宽带反射镜制造技术

本发明专利技术描述了一种宽带反射镜（1），包括：外表面层（10）；和布置在外表面层（10）下方的电介质层叠层（11A、11B、12）；其特征在于，该电介质层叠层（11A、11B、12）包括在电介质层叠层（11A、11B、12）的相邻电介质层（11A、12）之间的界面处的至少一个图案化表面（110、120）。本发明专利技术还描述了一种发光二极管（1）。本发明专利技术还描述了一种制造宽带反射镜（1）的方法，该方法包括下列步骤：提供外表面层（10）并在外表面层（10）下方应用多个电介质层（11A、11B、12）以构建电介质层叠层（11A、11B、12），其特征在于下列步骤：在将后续电介质层（11B、12）应用到图案化表面（110、120）之前，图案化至少一个电介质层（11A、12）的表面。

Wideband reflector

The invention describes a broadband reflector (1), which comprises an outer surface layer (10); a dielectric layer layer layer layer layer layer (11A, 11B, 12) arranged below the outer surface layer (10); and features that the dielectric layer layer layer layers (11A, 11B, 12) include adjacent dielectric layers (11A, 11B, 12) of the dielectric layer layer layer layer layer layers (11A, 11B, 12). 12) At least one patterned surface (110, 120) at the interface between them. The invention also describes a light emitting diode (1). The invention also describes a method for manufacturing a broadband reflector (1). The method comprises the following steps: providing an outer surface layer (10) and applying multiple dielectric layers (11A, 11B, 12) below the outer surface layer (10) to construct dielectric layer layers (11A, 11B, 12). The method is characterized by the following steps: Before the plasmalemma (11B, 12) is applied to the patterned surface (110, 120), the surface of at least one dielectric layer (11A, 12) is patterned.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】宽带反射镜
本专利技术描述了宽带反射镜、发光二极管和制造宽带反射镜的方法。
技术介绍
宽带反射镜用于最大化光学系统的效率并保持颜色完整性。例如，增加光引擎和投影仪中使用的反射镜的反射率与亮度的改进或增加直接相关。分布式布拉格反射器（DBR）是一种半导体反射镜，包括多层精确沉积的材料。然而，DBR的缺点是其波长依赖性，因为特定的DBR只可以反射某波长带内的光。此带外的光将不被多层叠层反射。此外，DBR的反射率响应可以取决于光的入射角度。因此，DBR只可以在有限的波长范围和入射角度内有效地反射光。作为DBR的替代，可以将现有技术的金属反射镜布置为反射背衬，以确保尽可能多的光通过光发射面离开管芯。反射背衬和发光表面通常是复合管芯的相对侧上的平行平面。反射背衬还可以有效地用于使热量穿过器件的背部以及将电流注入pn结（金属-半导体接触）。反射背衬通常由一些合适的金属（诸如银、铝或金）制成。然而，不可能实现100％的反射率，并且因此金属反射背衬层将吸收到达它的一些百分比的光而不是将该百分比的光返回到管芯的发射面。反射金属层的另一个缺点是其温度依赖性，因为必须小心来确保器件在安全温度范围内的可靠操本文档来自技高网...

【技术保护点】
1. 一种宽带反射镜（1），包括‑ 外表面层（10）；和‑ 电介质层叠层（11A、11B、12），其布置在所述外表面层（10）下方，并包括低指数层（11A、11B）和高指数层（12）的交替布置；其特征在于，所述电介质层叠层（11A、11B、12）包括至少一个图案化表面（110、120）和至少一个非图案化表面（N），所述图案化表面（110、120）形成在高指数层（12）在所述高指数层（12）和第一相邻低指数层（11A、11B）之间的界面处的一侧上；并且所述非图案化表面（N）形成在所述高指数层（12）在所述高指数层（12）和第二相邻低指数层（11A、11B）之间的界面处的另一侧上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.15 EP 16165481.91.一种宽带反射镜（1），包括-外表面层（10）；和-电介质层叠层（11A、11B、12），其布置在所述外表面层（10）下方，并包括低指数层（11A、11B）和高指数层（12）的交替布置；其特征在于，所述电介质层叠层（11A、11B、12）包括至少一个图案化表面（110、120）和至少一个非图案化表面（N），所述图案化表面（110、120）形成在高指数层（12）在所述高指数层（12）和第一相邻低指数层（11A、11B）之间的界面处的一侧上；并且所述非图案化表面（N）形成在所述高指数层（12）在所述高指数层（12）和第二相邻低指数层（11A、11B）之间的界面处的另一侧上。2.根据权利要求1所述的宽带反射镜，其中，所述图案化表面（120）形成在包括具有高折射率的材料的电介质层（12）上。3.根据权利要求1或权利要求2所述的宽带反射镜，其中，所述电介质层叠层（11A、11B、12）由反射背衬（13）终止。4.根据前述权利要求中任一项所述的宽带反射镜，其中，高折射率材料的层（12）布置在低折射率材料的层（11A、11B）之间。5.根据前述权利要求中任一项所述的宽带反射镜，其中，图案化表面（110、120）包括具有在100nm至2.0μm范围内的特征尺寸的图案。6.根据前述权利要求中任一项所述的宽带反射镜，其中电介质层（10、11A、11B、12）具有在500nm至2.0μm的范围的范围内的厚度。7.根据前述权利要求中任一项所述的宽带反射镜，包括至多15个电介质层（10、11A、11B、12），更优选至多9个电介质层（10、11A、11B、12），最优选至多...

【专利技术属性】
技术研发人员：T洛佩斯，J法洪，
申请(专利权)人：亮锐控股有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL