结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法技术

本技术的一个实施方式的结构体包括装饰膜和壳体部。所述装饰膜包含金属层，所述金属层包括其中预定元素的添加浓度相对高的第一区域、其中所述添加浓度与所述第一区域的添加浓度相比相对低的第二区域、以及使用所述第一区域作为基准形成的微细裂缝。所述壳体部包括被装饰区域，装饰膜被粘合到被装饰区域。

Manufacturing method of structure, electronic equipment, decorative film and structure

The structure of one embodiment of the technology includes a decorative film and a shell part. The decorative film comprises a metal layer comprising a first region in which the addition concentration of a predetermined element is relatively high, a second region in which the addition concentration is relatively low compared with the addition concentration of the first region, and a micro-crack formed using the first region as a reference. The shell part comprises a decorative area, and the decorative film is bonded to the decorative area.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】结构体、电子设备、装饰膜以及结构体的制造方法
本技术涉及一种适用于电子设备等的结构体、一种应用该结构体的电子设备、一种装饰膜以及一种壳体部件制造方法。
技术介绍
传统上，将具有金属状外观、同时能够使诸如毫米波之类的电磁波透过的构件设计为电子设备等的壳体部件。例如，专利文献1披露了一种用于在汽车的车标上装载汽车雷达的外装部件。例如，将铟气相沉积在树脂膜上并通过嵌入成型(InsertMolding)方法将所述膜贴附到车标的表面层。由此，可以制造具有装饰性金属光泽、并且由于铟的岛形结构而在电磁波频带内不具有吸收区域的外装部件(专利文献1的说明书第0006段等)。然而，在形成铟的岛形结构的方法中，存在以下问题：在例如气相沉积面积较大的情况下，难以形成整体均匀的膜厚度。此外，还存在以下问题：当形成壳体部件时，由于流入其中的树脂的温度而容易破坏岛形结构(专利文献1的说明书第0007和0008段等)。为了解决该问题，在专利文献1中，披露了下面的技术。具体地，人工地按规律形成海岛结构，在该海岛结构中以金属区域作为岛，而以该岛周围的非金属区域作为海。然后，通过非金属区域将每个金属区域彼此隔离开，并且合本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种结构体，包括：装饰膜，所述装饰膜包含金属层，所述金属层包括其中预定元素的添加浓度相对高的第一区域、其中所述添加浓度与所述第一区域的添加浓度相比相对低的第二区域、以及使用所述第一区域作为基准形成的微细裂缝；以及壳体部，所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合到所述被装饰区域。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.12 JP 2016-0792631.一种结构体，包括：装饰膜，所述装饰膜包含金属层，所述金属层包括其中预定元素的添加浓度相对高的第一区域、其中所述添加浓度与所述第一区域的添加浓度相比相对低的第二区域、以及使用所述第一区域作为基准形成的微细裂缝；以及壳体部，所述壳体部包括被装饰区域，所述装饰膜被粘合到所述被装饰区域。2.根据权利要求1所述的结构体，其中所述预定元素是氧或氮。3.根据权利要求1所述的结构体，其中所述金属层是由铝或银形成的。4.根据权利要求1所述的结构体，其中所述金属层具有50nm或更大且300nm或更小的厚度。5.根据权利要求1所述的结构体，其中所述微细裂缝的节距在1μm或更大且500μm或更小的范围内。6.根据权利要求1所述的结构体，其中所述金属层的可见光区域的表面反射率是70％或更大。7.根据权利要求1所述的结构体，其中所述装饰膜包括层叠在所述金属层上的保护层，所述保护层中的可见光区域的表面反射率是65％或更大。8.根据权利要求1所述的结构体，其中所述微细裂缝被形成为具有网状外观。9.根据权利要求1所述的结构体，其中所述装饰膜包括支撑所述金属层的基体部，所述基体部的拉伸断裂强度小于所述金属层的拉伸断裂强度。10.根据权利要求9所述的结构体，其中所述基体部是基膜。11.根据权利要求9所述的结构体，其中所述基体部是形成在基膜上的涂层。12.根据权利要求1所述的结构体，其中在所述金属层的厚度方向上，所述金属层的越靠近所述金属层的前表面的区域，所述添加浓度在整体上越低。13.根据权利要求1所述的结构体，其中在所述金属层的厚度方向上，所述金属层的越靠近所述金属层的前表面的相对侧的表面的区域，所述添加浓度在整体上越低。14.一种电子设备，包括：装饰膜，所述装饰膜包含金属层，所述金属层包括其中预定元素的添加浓度相对高的第一区域、其中所...

【专利技术属性】
技术研发人员：下田和人，阿部淳博，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP