【技术实现步骤摘要】
一种靶材冷却装置
本专利技术涉及磁控溅射领域，主要涉及一种靶材冷却装置。
技术介绍
磁控溅射是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)的一种，通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率，实现了溅射高速率、低温度、低损伤。在溅射靶材生产过程中会发出大量的热量，如果不及时进行冷却，容易造成局部烧焦或呈现晶粒化现象，现有技术中，多是采用在靶座内设置冷却通道的方式，但是该种方式靶座和靶材接触面积小，冷却效果低，传热不显著。在专利申请号为201410124974.0，专利名称为“一种阴极电弧靶冷却装置”的中国专利中公开了一种阴极电弧靶冷却装置(如图1所示)，包括靶座1、靶材2及设在靶座1内部的二条并排的冷却水道3，靶材2嵌在靶座1表面上，靶材2与冷却水道3被铜板4隔开，铜板4使冷却水道3与靶材2分属不同的独立空间，铜板4边缘被固定在靶座1上，固定方式有采用高强度耐温胶将铜板4边缘粘接在靶座2的上方或是采用一次浇筑成形的方法将铜板4边缘固定在靶座2内，...
【技术保护点】
1.一种靶材冷却装置，包括靶材和冷却靶座，其特征在于，所述冷却靶座包括冷却腔，所述冷却腔上壁为冷却背板用于放置所述靶材，所述冷却腔两端分别设置有冷却介质入口和冷却介质出口，所述冷却腔内上下壁设有若干彼此交错且间隔设置的导流板，使所述冷却腔内部空间形成曲折连通的冷却介质流道；所述靶材和冷却背板采用热粘接以使两者充分接触。
【技术特征摘要】
1.一种靶材冷却装置，包括靶材和冷却靶座，其特征在于，所述冷却靶座包括冷却腔，所述冷却腔上壁为冷却背板用于放置所述靶材，所述冷却腔两端分别设置有冷却介质入口和冷却介质出口，所述冷却腔内上下壁设有若干彼此交错且间隔设置的导流板，使所述冷却腔内部空间形成曲折连通的冷却介质流道；所述靶材和冷却背板采用热粘接以使两者充分接触。2.根据权利要求1所述的一种靶材冷却装置，其特征在于，所述冷却背板为齿状，所述靶材底部形状对应冷却背板以使所述靶材与所述冷却背板充分啮合。3.根据权利要求2所述的一种靶材冷却装置，其特征在于，所述齿状冷却背板两端的齿形高度大于所述齿状冷却背板中部的齿形高度。4.根据权利要求1所述的一种靶材冷却装置，其特征在于，所述冷却腔中间设有一隔离板将所述冷却腔分隔为两个对称设置的隔离冷却腔，...
【专利技术属性】
技术研发人员：严佐毅，刘文卿，张龙，张丽，
申请(专利权)人：安徽金美新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34
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