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本实用新型涉及磁控溅射领域，主要涉及一种靶材冷却装置，包括靶材和冷却靶座，所述冷却靶座包括冷却腔，所述冷却腔上壁为冷却背板用于放置所述靶材，所述冷却腔两端分别设置有冷却介质入口和冷却介质出口，所述冷却腔内上下壁设有若干彼此交错且间隔设置的导...
该专利属于安徽金美新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽金美新材料科技有限公司授权不得商用。

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